OGAWA Shuuichi

Department of Electrical and Electronic EngineeringAssociate Professor

Degree

  • Ph.D (Engineering), Tohoku University, Mar. 2008

Research Keyword

  • リアルタイム光電子分光
  • プラズマプロセス
  • ナノ炭素材料
  • 表面分析
  • 表面科学

Field Of Study

  • Manufacturing technology (mechanical, electrical/electronic, chemical engineering), Manufacturing and production engineering
  • Manufacturing technology (mechanical, electrical/electronic, chemical engineering), Chemical reaction and process system engineering
  • Manufacturing technology (mechanical, electrical/electronic, chemical engineering), Electric/electronic material engineering
  • Nanotechnology/Materials, Thin-film surfaces and interfaces

Career

  • Apr. 2023 - Present
    Nihon University, College of Industrial Technology, Department of Electrical and Electronic Engineering, Associate Professor
  • Oct. 2020 - Mar. 2023
    Tohoku University, Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials Division of Measurements, 助教
  • Oct. 2020 - Mar. 2023
    Tohoku University, International Center for Synchrotron Radiation Innovation Smart SR Core Research Division, 助教
  • Apr. 2010 - Sep. 2020
    東北大学多元物質科学研究所, 多元物質科学研究所, 助教
  • Nov. 2018 - Apr. 2019
    National University of Singapore, Faculty of Engineering, Visiting Scholar
  • Jan. 2016 - Sep. 2016
    Fritz Haber Institute, Department of Inorganic Chemistry, Guest scientist
  • Jun. 2008 - Mar. 2010
    東北大学多元物質科学研究所, 多元物質科学研究所, 産学官連携研究員、助教(研究特任)
  • Apr. 2008 - May 2008
    東北大学, 多元物質科学研究所, 日本学術振興会特別研究員
  • Apr. 2007 - Mar. 2008
    Tohoku University, Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, 日本学術振興会特別研究員(DC2)

Educational Background

  • Mar. 2008
    Tohoku University, Graduate School of Engineering, ナノメカニクス専攻
  • Mar. 2005
    Tohoku University, Graduate School of Engineering, 機械電子工学専攻
  • Mar. 2003
    Tohoku University, Faculty of Engineering, 機械電子工学科

Member History

  • Apr. 2024 - Present
  • Feb. 2023 - Present
  • Apr. 2022 - Mar. 2024
  • Apr. 2021 - Mar. 2023
  • Apr. 2021 - Mar. 2022
  • Apr. 2021 - Mar. 2022
  • Apr. 2018 - Mar. 2022
  • Oct. 2019 - Sep. 2021
  • May 2019 - Apr. 2021
  • Apr. 2019 - Mar. 2021
  • Apr. 2017 - Mar. 2021
    プログラム編集委員(6.5表面物理・真空担当), 応用物理学会
  • Apr. 2015 - Mar. 2019
  • Mar. 2017 - Oct. 2018
  • Apr. 2016 - Mar. 2018
  • Apr. 2011 - Mar. 2016
  • Apr. 2013 - Mar. 2015
    庶務幹事, 日本表面科学会 東北・北海道支部
  • Jan. 2011 - Jan. 2015
    講演奨励賞選定委員会 委員, 日本表面科学会
  • Jan. 2011 - Jan. 2015
  • Oct. 2012 - Nov. 2013
    steering committee, 6th International Symposium on Practical Surface Analysis
  • Apr. 2011 - Mar. 2013
    東北・北海道支部 庶務・会計幹事, 日本表面科学会

Award

  • Jul. 2015
    13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, ISSP2015 Best Poster Award
    Ion incident energy dependence for Cu surface smoothing using Ar+ ions generated by photoemission-assisted plasma, International society
    Saijian Ajia;Yuki Kotanigawa;Yudai Ohtomo;Shuichi Ogawa;Yuji Takakuwa
  • Sep. 2014
    International Conference on Diamond and Carbon Materials, Poster Award
    Decrease mechanism of the resistivity of networked nano- graphite grown by photoemission -assisted plasma -enhanced CVD using CH4/Ar and CH4/H2, International society
    Y. Ojiro;S. Ogawa;M. Sato;M. Nihei;Y. Takakuwa
  • Dec. 2010
    東北大学多元物質科学研究所, 第5回 籏野奨学基金多元物質科学研究奨励賞
    光電子制御プラズマCVDを用いた多層グラフェン成長プロセスの開発, Others
    小川修一
  • 04 Feb. 2009
    財団法人井上科学振興財団, 第25回井上研究奨励賞
    熱酸化プロセスによる極薄シリコン酸化膜形成過程の研究, Publisher
  • 25 Mar. 2008
    東北大学, 平成19年度東北大学総長賞
    Others
  • 14 Nov. 2007
    日本真空協会, 第16回真空進歩賞
    リアルタイム光電子分光観察を用いた表面研究, Official journal
  • 04 Sep. 2007
    社団法人応用物理学会, 第29回応用物理学会論文賞(JJAP論文奨励賞)
    Rate-Limiting Reactions of Growth and Decomposition Kinetics of Very Thin Oxides on Si(001) Surfaces Studied by Reflection High-Energy Electron Diffraction Combined with Auger Electron Spectroscopy, Official journal
  • 27 Mar. 2007
    社団法人応用物理学会, 第21回(2006年秋季)応用物理学会講演奨励賞
    Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(VIII):第2層酸化膜成長速度の温度依存, Japan society
    小川修一
  • 10 Nov. 2006
    2006 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY, IWDTF Young Researcher Award
    Layer-by-Layer Oxidation on Si(001) Surface Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy Using Synchrotron Radiation, International society
    Shuichi OGAWA
  • 04 Feb. 2006
    応用物理学会 薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会, 第11回ゲートスタック研究会服部賞
    酸化膜形成と欠陥発生の同時観察によるSi(001)表面酸化の統合的解明, Japan society
  • 25 Mar. 2005
    日本機械学会, 日本機械学会三浦賞
    Publisher

Paper

  • Development of Multi-Functional Submicropipettes for Exploring Biomaterials
    Takami Tomohide; Nishiyama Hokuto; Watanabe Yu; Omi Haruna; Ohta Mizuki; Ono Manami; Watabe Minami; Miyashita Kazuho; Mitsui Taiga; Yoneda Rio; Shibuya Kyo; Akutsu Yusuke; Kaneko Naoki; Ohtomo Chie; Inoue Mizuki; Ozawa Mamiko; Magara Hideyuki; Ogawa Shuichi; Abukawa Tadashi
    工学院大学研究論叢, Feb. 2024, Refereed, Not invited
  • Evaluation of Electronic/Chemical State of Nano Carbon Materials Using Photoelectron Spectroscopy
    Shuichi Ogawa
    Journal of Surface Analysis, Jul. 2023, Refereed, Invited
    Lead
  • Argon Gas Flow Through Micro- and Nano-pipettes
    Tomohide Takami; Chie Ohtomo; Naoki Kaneko; Kyo Shibuya; Kazuho Miyashita; Mizuki Ohta; Rio Yoneda; Mamiko Ozawa; Hideyuki Magara; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Apr. 2023, Refereed, Not invited
  • Work function lowering of LaB6 by monolayer hexagonal boron nitride coating for improved photo- and thermionic-cathodes
    Hisato Yamaguchi; Ryunosuke Yusa; Gaoxue Wang; Michael T. Pettes; Fangze Liu; Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Tadashi Abukawa; Nathan A. Moody; Shuichi Ogawa
    Applied Physics Letters, Apr. 2023, Refereed, Not invited
    Last
  • Roles of excess minority carrier recombination and chemisorbed O2 species at SiO2/Si interfaces in Si dry oxidation: Comparison between p-Si(001) and n-Si(001) surfaces
    Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Shuichi Ogawa; Tetsuya Sakamoto; Yoshiki Yamamoto; Yukio Yamamoto; Yuji Takakuwa
    The Journal of Chemical Physics, Dec. 2022, Refereed, Not invited
  • Observation of Chemisorbed O2 Molecule at SiO2/Si(001) Interface During Si Dry Oxidation
    Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Shuichi Ogawa; Tetsuya Sakamoto; Yuji Takakuwa
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Nov. 2022, Refereed, Not invited
  • Development of Dual Ion-selective Electrodes in Double-Barrel Glass Pipette at One Micrometer for Simultaneous Measurement of Sodium and Potassium Ions
    Tomohide Takami; Yusuke Akutsu; Naoki Kaneko; Rio Yoneda; Hideyuki Magara; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Oct. 2022, Refereed, Not invited
  • Evaluation of Doped Potassium Concentrations in Stacked Two-Layer Graphene using Real-time XPS
    Shuichi Ogawa; Yasutaka Tsuda; Tetsuya Sakamoto; Yuki Okigawa; Tomoaki Masuzawa; Akitaka Yoshigoe; Tadashi Abukawa; Takatoshi Yamada
    Applied Surface Science, Sep. 2022, Refereed, Not invited
    Lead
  • Multilayer Deposition of Octakis(octyloxy) Phthalocyanine Observed by Scanning Tunneling Microscopy, Scanning Electron Microscopy, Transmission Electron Microscopy, and X-ray Diffraction
    Rio Yoneda; Masaki Ageishi; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa; Tomohide Takami
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Jun. 2022, Refereed, Not invited
  • Oxygen Gas Barrier Property of Monolayer CVD Graphene
    Takatoshi Yamada; Shuichi Ogawa
    MEMBRANE, Apr. 2022, Refereed, Invited
    Last
  • Synthesis and characterization of potassium-doped multilayer graphene prepared by wet process using potassium hydroxide
    Tomoaki Masuzawa; Yuki Okigawa; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Kazuto Hatakeyama; Takatoshi Yamada
    Nano Express, Sep. 2021, Refereed, Not invited
  • Two-step model for reduction reaction of ultrathin nickel oxide by hydrogen
    Shuichi Ogawa; Ryo Taga; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
    Journal of Vacuum Science & Technology A, Jun. 2021, Refereed, Not invited
    Lead
  • Oxidation Reaction Kinetics on Transition Metal Surfaces Observed by Real-time Photoelectron Spectroscopy
    Shuichi OGAWA; Bingruo ZHANG; Akitaka YOSHIGOE; Yuji TAKAKUWA
    Vacuum and Surface Science, May 2021, Refereed, Invited
    Lead
  • Synthesis of Chloroauric Acid from Gold Electrodes in Alkali Halide Salt Solution by AC Electrolysis and the Sequential Formation of Gold Nanoparticles by Turkevich Method
    Kei Oya; Kei Aoshika; Masaki Ageishi; Hideyuki Magara; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Tomohide Takami
    Chemistry Letters, Jan. 2021, Refereed, Not invited
  • Gas Barrier Properties of Chemical Vapor-Deposited Graphene to Oxygen Imparted with Sub-electronvolt Kinetic Energy
    Shuichi Ogawa; Hisato Yamaguchi; Edward F. Holby; Takatoshi Yamada; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
    The Journal of Physical Chemistry Letters, Oct. 2020, Refereed, Not invited
    Lead
  • Roles of strain and carrier in silicon oxidation
    Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Jaiyi Tang; Yuki Sekihata; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Apr. 2020, Refereed, Invited
    Lead
  • Flattening of copper surfaces with a low energy xenon-ion source generated by photoemission-assisted plasma
    Saijian Ajia; Shuichi Ogawa; Nobuhisa Kamata; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Aug. 2019, Refereed, Not invited
    Corresponding
  • Simultaneous Observation of Si Oxidation Rate and Oxidation-induced Strain Using XPS
    OGAWA Shuichi; YOSHIGOE Akitaka; TAKAKUWA Yuji
    Vacuum and Surface Science, Jun. 2019, Refereed, Not invited
    Lead
  • Band alignment determination of bulk h-BN and graphene/h-BN laminates using photoelectron emission microscopy
    Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Ryo Kadowaki; Takashi Taniguchi; Tadashi Abukawa; Yuji Takakuwa
    Journal of Applied Physics, Apr. 2019, Refereed, Not invited
    Lead
  • Interfacial oxidation kinetics at SiO2/Si(001) mediated by the generation of point defects: Effect of raising O2 pressure
    Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    AIP Advances, Jul. 2018, Refereed, Not invited
    Lead
  • Decreased hydrogen content in diamond-like carbon grown by CH4/Ar photoemission-assisted plasma chemical vapor deposition with CO2 gas
    Shuichi Ogawa; Rintaro Sugimoto; Nobuhisa Kamata; Yuji Takakuwa
    Surface & Coatings Technoligy, Apr. 2018, Refereed, Not invited
    Lead
  • Polarity identification of ZnO(0001) surface by reflection high-energy electron diffraction
    Yoshimi Horio; Junji Yuhara; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa; Koji Abe
    Japanese Journal of Applied Physics, Feb. 2018, Refereed, Not invited
  • Chemical structure and electrical characteristics of diamondlike carbon films
    Susumu Takabayashi; Hiroyuki Hayashi; Meng Yang; Rintaro Sugimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Diamond and Related Materials, Nov. 2017, Refereed, Not invited
  • Chemical structural analysis of diamondlike carbon films: I. Surface growth model
    Susumu Takabayashi; Radek Jesko; Masanori Shinohara; Hiroyuki Hayashi; Rintaro Sugimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Surface Science, Oct. 2017, Refereed, Not invited
  • Chemical structural analysis of diamondlike carbon films: II. Raman analysis
    Susumu Takabayashi; Radek Jesko; Masanori Shinohara; Hiroyuki Hayashi; Rintaro Sugimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Surface Science, Oct. 2017, Refereed, Not invited
  • Argon gas flow through glass nanopipette
    Tomohide Takami; Kiwamu Nishimoto; Tadahiko Goto; Shuichi Ogawa; Futoshi Iwata; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Nov. 2016, Refereed, Not invited
  • Detection of molecular oxygen adsorbate during room-temperature oxidation of Si(100) 2 x 1 surface: In situ synchrotron radiation photoemission study
    Akitaka Yoshigoe; Yoichi Yamada; Ryo Taga; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, Sep. 2016, Refereed, Not invited
  • Enhancement of SiO2/Si(001) interfacial oxidation induced by thermal strain during rapid thermal oxidation
    Shuichi Ogawa; Jiayi Tang; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuji Takakuwa
    Journal of Chemical Physics, Sep. 2016, Refereed, Not invited
    Lead
  • Valence-band electronic structure evolution of graphene oxide upon thermal annealing for optoelectronics
    Hisato Yamaguchi; Shuichi Ogawa; Daiki Watanabe; Hideaki Hozumi; Yongqian Gao; Goki Eda; Cecilia Mattevi; Takeshi Fujita; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishizuka; Lyudmyla Adamska; Takatoshi Yamada; Andrew M. Dattelbaum; Gautam Gupta; Stephen K. Doorn; Kirill A. Velizhanin; Yuden Teraoka; Mingwei Chen; Han Htoon; Manish Chhowalla; Aditya D. Mohite; Yuji Takakuwa
    Physica Status Solidi A, Apr. 2016, Refereed, Not invited
  • Auger intensity anomalies from ZnO(0001) surface excited by RHEED incident beam
    Yoshimi Horio; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa; Koji Abe
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Mar. 2016, Refereed, Not invited
  • Experimental estimation of oxidation-induced Si atoms emission on Si(001) surfaces
    Shuichi Ogawa; Jiayi Tang; Yuji Takakuwa
    AIP Advances, Aug. 2015, Refereed, Not invited
    Lead
  • RHEED patterns calculated for Pt nano clusters on TiO2(110) substrate
    Yoshimi Horio; Yoshihide Watanabe; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Mar. 2015, Refereed, Not invited
  • Coating the Outer Surface of Glass Nanopipette with Chlorobenzene-Terminated Polysiloxane
    Tomohide Takami; Yoshihiro Ojiro; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Yoshihide Ogawa; Mikako Saito; Hideaki Matsuoka; Shin-ichi Tate
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Mar. 2015, Refereed, Not invited
  • Controlled oxygen-doped diamond-like carbon film synthesized by photoemission-assisted plasma
    Susumu Takabayashi; Meng Yang; Takanori Eto; Hiroyuki Hayashi; Shuichi Ogawa; Taiichi Otsuji; Yuji Takakuwa
    Diamond and Related Materials, Jan. 2015, Refereed, Not invited
  • Relationship between the structure and electrical characteristics of diamond-like carbon films
    Susumu Takabayashi; Meng Yang; Shuichi Ogawa; Hiroyuki Hayashi; Radek Jesko; Taiichi Otsuji; Yuji Takakuwa
    Journal of Applied Physics, Sep. 2014, Refereed, Not invited
  • Crystallographic and Electric Properties of Multilayer Graphene Grown by Photoemission Assisted-Plasma Enhanced CVD : H2 versus Ar for career gas
    尾白 佳大; 小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
    表面科学, Aug. 2014, Refereed, Not invited
    Corresponding
  • Dimer configuration of Si(001)2x1 surface by projected potential approach of reflection high-energy electron diffraction
    Yoshimi Horio; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Aug. 2014, Refereed, Not invited
  • Self-accelerating oxidation on Si(111)7 x 7 surfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy
    Jiayi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Yoshigoe Akitaka; Shinnji Ishidzuka; Daiki Watanabe; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, Jun. 2014, Refereed, Not invited
  • Auger intensity anomalies from the Si(001)2 x 1 surface excited by the wave field of RHEED
    Yoshimi Horio; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa
    SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, Jun. 2014, Refereed, Not invited
  • 表面科学と精密工学の接点
    高桑 雄二; 小川 修一
    精密工学会誌, May 2014, Refereed, Invited
    Last
  • High sensitivity photodetector made of amorphous selenium and diamond cold cathode
    T. Masuzawa; I. Saito; M. Onishi; T. Ebisudani; A. T. T. Koh; D. H. C. Chua; T. Yamada; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Shimosawa; K. Okano
    Canadian Journal of Physics, Apr. 2014, Refereed, Not invited
  • Low-temperature synthesis of diamond films by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
    Mayuri Kawata; Yoshihiro Ojiro; Shuichi Ogawa; Tomoaki Masuzawa; Ken Okano; Yuji Takakuwa
    Journal of Vacuum Science & Technology A, Dec. 2013, Refereed, Not invited
  • SiO desorption kinetics of Si(111) surface oxidation studied by real-time photoelectron spectroscopy
    Jiayi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Daiki Watanabe; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Nov. 2013, Refereed, Not invited
  • Graphene Growth and Carbon Diffusion Process during Vacuum Heating on Cu(111)/Al2O3 Substrates
    Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Shinji Ishidzuka; Akitaka Yoshigoe; Masataka Hasegawa; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Oct. 2013, Refereed, Invited
    Lead
  • Relation Between Oxidation Rate and Oxidation-Induced Strain at SiO2/Si(001) Interfaces during Thermal Oxidation
    Shuichi Ogawa; Jiayi Tang; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Oct. 2013, Refereed, Invited
    Lead
  • Formation of Diamond-Like Carbon Films by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
    Meng Yang; Susumu Takabayashi; Shuichi Ogawa; Hiroyuki Hayashi; Radek Jesko; Taiichi Otsuji; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Oct. 2013, Refereed, Invited
  • Development of an Amorphous Selenium-Based Photodetector Driven by a Diamond Cold Cathode
    Tomoaki Masuzawa; Ichitaro Saito; Takatoshi Yamada; Masanori Onishi; Hisato Yamaguchi; Yu Suzuki; Kousuke Oonuki; Nanako Kato; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Angel T. T. Koh; Daniel H. C. Chua; Yusuke Mori; Tatsuo Shimosawa; Ken Okano
    SENSORS, Oct. 2013, Refereed, Not invited
  • Incident Electron Wave-Field at Si(001) Surface by RHEED
    堀尾吉巳; 高桑雄二; 小川修一
    表面科学, Jul. 2013, Refereed, Not invited
  • High quantum efficiency UV detection using a-Se based photodetector
    Tomoaki Masuzawa; Masanori Onishi; Ichitaro Saito; Takatoshi Yamada; Angel T. T. Koh; Daniel H. C. Chua; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Yusuke Mori; Tatsuo Shimosawa; Ken Okano
    Physica Status Solidi-Rapid Research Letters, Jul. 2013, Refereed, Not invited
  • Spectroscopic Analysis of Graphitization and Grain Orientation of Carbon Films Grown by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
    Manabu Inukai; Eiji Ikenaga; Takayuki Muro; Shuichi Ogawa; Yoshihiro Ojiro; Yuji Takakuwa; Motonobu Sato; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
    Japanese Journal of Applied Physics, Jun. 2013, Refereed, Not invited
  • Electrical properties and reliability of networked-nanographite wires grown on SiO2 dielectric without catalysts for multi-layer graphene interconnects
    Motonobu Sato; Shuichi Ogawa; Manabu Inukai; Eiji Ikenaga; Takayuki Muro; Yuji Takakuwa; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
    Microelectronic Engineering, Feb. 2013, Refereed, Not invited
  • Dielectric-tuned Diamondlike Carbon Materials for an Ultrahigh-speed Self-aligned Graphene Channel Field Effect Transistor
    Susumu Takabayashi; Meng Yang; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Tetsuya Suemitsu; Taiichi Otsuji
    Advances in Science and Technology, 2013, Refereed, Not invited
  • Vacuum Annealing Formation of Graphene on Diamond C(111) Surfaces Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy
    Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Shinji Ishizduka; Akitaka Yoshigoe; Masataka Hasegawa; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Nov. 2012, Refereed, Not invited
    Lead
  • Synthesis of diamond-like carbon films on Si substrates by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
    Meng Yang; Shuichi Ogawa; Susumu Takabayashi; Taiichi Otsuji; Yuji Takakuwa
    Thin Solid Films, Nov. 2012, Refereed, Not invited
    Corresponding
  • Strong temperature dependence of the initial oxide growth on the Si(111)7 × 7 surface
    Jia Yi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Sep. 2012, Refereed, Not invited
  • Observation of Graphene-on-Diamond Formation Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy
    小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 渡辺大輝; 吉越章隆; 長谷川雅孝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    表面科学, Aug. 2012, Refereed, Not invited
    Lead
  • Surface morphology of a Cu substrate flattened by a 2 '' photoemission-assisted ion beam source
    Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Surface and Interface Analysis, Jun. 2012, Refereed, Not invited
    Corresponding
  • Dielectric-tuned diamondlike carbon materials for high-performance self-aligned graphene-channel field effect transistors
    Susumu Takabayashi; Meng Yang; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Tetsuya Suemitsu; Taiichi Otsuji
    Materials Research Society Symposium Proceedings, May 2012, Refereed, Not invited
  • Development of the Photoemission-assisted Plasma Enhanced CVD Process for Diamond-like Carbon Insulator Films of Graphene FET Gate Stack
    Y. Meng; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    MRS Spring Meeting 2012 Symp. Proc, Apr. 2012, Refereed, Not invited
  • Fabrication of Graphene Directly on SiO2 without Transfer Processes by Annealing Sputtered Amorphous Carbon
    Motonobu Sato; Manabu Inukai; Eiji Ikenaga; Takayuki Muro; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Haruhisa Nakano; Akio Kawabata; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
    Japanese Journal of Applied Physics, Apr. 2012, Refereed, Not invited
  • ラマン分光法およびXPSによるSiO2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究
    尾白佳大; 小川修一; 犬飼学; 佐藤元伸; 池永英司; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
    電子情報通信学会技術報告, Mar. 2012, Not refereed, Invited
  • Carbonaceous field effect transistor with graphene and diamondlike carbon
    Susumu Takabayashi; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Hyun-Chul Kang; Ryota Takahashi; Hirokazu Fukidome; Maki Suemitsu; Tetsuya Suemitsu; Taiichi Otsuji
    Diamond and Related Materials, Feb. 2012, Refereed, Not invited
  • Irradiation effects of photoemission-assisted direct current discharge plasma on metal surfaces
    Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Journal of the Vacuum Society of Japan, Mar. 2011, Refereed, Not invited
    Corresponding
  • 光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト成長 : 結晶性の放電条件依存
    小川修一; 佐藤元伸; 角治樹; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    電子情報通信学会技術研究報告, Jan. 2011, Not refereed, Invited
    Lead
  • Effect of Carrier Gas (Ar and He) on the Crystallographic Quality of Networked Nanographite Grown on Si Substrates by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
    Haruki Sumi; Shuichi Ogawa; Motonobu Sato; Akihiko Saikubo; Eiji Ikenaga; Mizuhisa Nihei; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Jul. 2010, Refereed, Not invited
    Lead
  • Si(001)-(2×1)表面の初期酸化過程における放出Si原子挙動の走査型トンネル顕微鏡観察
    渡邉清人; 池田正則; 清水博文; 小川修一; 高桑雄二
    表面科学, Dec. 2009, Refereed, Not invited
  • Catalyst-free growth of networked nanographite on Si and SiO2 substrates by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
    Tomohide Takami; Shuichi Ogawa; Haruki Sumi; Toshiteru Kaga; Akihiko Saikubo; Eiji Ikenaga; Motonobu Sato; Mizuhisa Nihei; Yuji Takakuwa
    e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Dec. 2009, Refereed, Not invited
    Lead
  • CVD成長多層グラフェン膜のラマン分光とバルク敏感XPSによる評価
    角治樹; 小川修一; 高見知秀; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    表面科学, Jul. 2009, Refereed, Invited
    Lead
  • Si(001) surface layer-by-layer oxidation studied by real-time photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation
    Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, May 2007, Refereed, Not invited
    Lead
  • Simultaneous observation of oxygen uptake curves and electronic states during room-temperature oxidation on Si(001) surfaces by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
    Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Surface Science, Apr. 2007, Refereed, Not invited
    Lead
  • Translational kinetic energy induced oxidation on Ti(0001) surfaces using a supersonic O2 beam
    Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Shinji Ishidzuka; Akitaka Yoshigoe; Yuden Teraoka; Kousuke Moritani; Yoshiyuki Mizuno
    IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems, Feb. 2007, Refereed, Not invited
    Lead
  • Real-time photoelectron spectroscopy for nitridation at Ti(0001) surface using supersonic N2 molecular beams
    Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Shinji Ishidzuka; Akitaka Yoshigoe; Yuden Teraoka; Yoshiyuki Mizuno
    Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan, Dec. 2006, Refereed, Not invited
    Lead
  • Thermal oxidation kinetics of an Si1-xCx alloy layer (x similar or equal to 0.1) on Si(001) surfaces monitored in real time by RHEED combined with AES
    Shuichi Ogawa; Tomofurni Kawamura; Yuji Takakuwa
    Materials Science and Engineering B, Dec. 2006, Refereed, Not invited
    Lead
  • Rate-limiting reactions of growth and decomposition kinetics of very thin oxides on Si(001) surfaces studied by reflection high-energy electron diffraction combined with Auger electron spectroscopy
    Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Japanese Journal of Applied Physics, Sep. 2006, Refereed, Not invited
  • Consumption kinetics of Si atoms during growth and decomposition of very thin oxide on Si(001) surfaces
    Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    THIN SOLID FILMS, Jun. 2006, Refereed, Not invited
  • Oxidation-induced changes of work function and interfacial electronic states on Si (001) surfaces studied by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
    Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan, May 2006, Refereed, Not invited
    Lead
  • SiとTi表面での極薄酸化膜形成のリアルタイム表面分析
    高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿
    Jounal of Surface Analysis, Jan. 2006, Refereed, Invited
  • Surface chemical reaction dynamics illuminated by high brilliance and high energy-resolution synchrotron radiation -in-situ photoemission spectroscopy for surface oxidation induced by supersonic O2 molecular beams-
    寺岡有殿; 吉越章隆; 盛谷浩右; 高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 岡田美智雄; 福山哲也; 笠井俊夫
    放射光, Sep. 2005, Refereed, Invited
  • リアルタイム光電子分光によるTi(0001)表面酸化反応の観察
    高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿
    触媒, Aug. 2005, Refereed, Invited
  • Temperature dependence of oxidation-induced changes of work function on Si(001)2 x 1 surface studied by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
    S Ogawa; Y Takakuwa
    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS, Aug. 2005, Refereed, Not invited
    Lead
  • Oxidation state during growth of very thin oxide on Ti(0001) surface
    Yuji Takakuwa; Shinji Ishidzuka; Akitaka Yoshigoe; Yuden Teraoka; Kousuke Moritani; Shuichi Ogawa; Yoshiyuki Mizuno; Hideki Tonda; Teiichi Homma
    Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan, Jun. 2004, Refereed, Not invited
  • Initial oxidation of Ti(0001) surfaces induced by supersonic oxygen molecular beam
    S. Ogawa; Y. Takakuwa; S. Ishidzuka; Y. Mizuno; H. Tonda; T. Homma; Y. Teraoka; A. Yoshigoe; K. Moritani; S. Hachiue
    JAERI-Tech, Jun. 2004, Refereed, Not invited
    Lead
  • Si(001)とSi(111)表面の極薄酸化膜形成過程の比較
    小川修一; 高桑雄二
    真空, Mar. 2004, Refereed, Not invited
    Lead

MISC

  • ★二次元原子層物質コーティングによる電子放出源の耐久性/性能向上の両立
    小川 修一
    ISOTOPE NEWS, 01 Feb. 2024, Refereed, Invited
    Lead
  • ★特集号「表面反応観察における大気圧光電子分光の現状、利用研究と展望」企画説明
    吉越章隆; 小川修一; 髙桑雄二
    放射光, May 2022, Refereed, Invited
  • ★X線光電子分光によるガス雰囲気中の表面反応観察:歴史、応用、課題、将来展望
    髙桑雄二; 小川修一; 吉越章隆
    放射光, May 2022, Refereed, Invited
  • ★Gas Barrier Properties of Graphene Against O2 Molecules with High Kinetic Energy
    小川修一; Hisato Yamaguchi; Edward F. Holby; 山田貴壽; 吉越章隆; 高桑雄二
    SPring-8/SACLA利用者情報, 21 Aug. 2021, Refereed, Invited
    Lead
  • ★並進運動エネルギーで誘起されるO2分子のグラフェン透過現象
    小川 修一; 山田 貴壽
    NEW DIAMOND, 25 Apr. 2021, Not refereed, Invited
    Lead
  • 東北大学 国際放射光イノベーション・スマート研究センター 基幹研究部門 界面計測スマートラボの紹介
    小川修一; 虻川匡司
    NEWS LETTER, 15 Jun. 2022, Not refereed, Invited
    Lead
  • PM-06 Electronic Structure of Nitrogen-Doped Graphite Films Studied by Soft X-ray Emission Spectroscopy
    K Matsuura; Y Sato; M Terauchi; M Aono; S Hashimoto; S Ogawa; Y Takakuwa
    Microscopy, 01 Nov. 2019, Not refereed, Not invited
  • Suppression of electron emission from cathode in photoemission-assisted Ar plasma
    N. Kamata; S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    2018 31st International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC), Jul. 2018, Refereed, Not invited
  • Field emission from n-type diamond NEA surface and graphene/n-type diamond junction
    Takatoshi Yamada; Tomoaki Masuzawa; Yoichiro Neo; Hidenori Mimura; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Ken Okano
    2017 30TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE (IVNC), 2017, Refereed, Not invited
  • Interface oxidation enhancement at SiO2/Si(001) by raising O2 pressure
    S. Ogawa; J. Tang; R. Taga; Y. Takakuwa
    Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanotechnology, 09 Dec. 2016, Refereed, Not invited
  • Effect of oxygen doping on chemical bonding and mechanical properties of CVD-grown DLC films
    R. Sugimoto; H. Abe; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
    Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanotechnology, 09 Dec. 2016, Refereed, Not invited
  • Comparison of Photoemission-assisted plasma discharge characteristics between n-type and p-type diamond surfaces
    Mayuri Kawata; Atsuko Ohno; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Refereed, Not invited
  • Estimate of Critical Ion Energy for Surface Planarization Process Using Photoemission-Assisted Plasma Ion Source
    Yuki Kotanigawa; Ajia Saijan; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Refereed, Not invited
  • Ion incident energy dependence for Cu surface smoothing using Ar+ ions generated by photoemission-assisted plasma
    Saijian Ajia; Yuki Kotanigawa; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Refereed, Not invited
  • 学会だより~ICDCM2014
    徳田 規夫; 近藤 剛史; 児玉 英之; 小川 修一; 尾白 佳大; 土井 悠生
    NEW DIAMOND, Oct. 2014, Not refereed, Invited
  • Thermal Stability of Thick DLC Dielectric Films for Graphene-Channel THz Laser Prepared by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
    R. Jesko; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etoh; Y. Kurita; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    ACSIN: 12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, 7PN-31, Tsukuba, Japan,, 07 Nov. 2013, Refereed, Not invited
  • Growth Mechanism Analysis and Precise Control of Electrical and Optical Characteristics of Diamond-Like Carbon Films
    S. Takabayashi; H. Hayashi; M. Yang; R. Jesko; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    ACSIN: 12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, 7PN-33, Tsukuba, Japan,, 07 Nov. 2013, Refereed, Not invited
  • Formation of a δ-Doped Diamond-Like Carbon Film with a Modulation-doped Gate Dielectric Structure
    S. Takabayashi; H. Hayashi; M. Yang; R. Jesko; R. Shishido; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    ACSIN: 12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, 7PN-34, Tsukuba, Japan,, 07 Nov. 2013, Refereed, Not invited
  • Deposition of thick dielectric films of diamond-like carbon for graphene-channel THz laser by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    R. Jesko; M. Yang; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etou; Y. Kurita; T. Otsuji; T. Takakuwa
    ISSP: the 12th Int. Symp. on Sputtering & Plasma Processes, PI-4, Kyoto, Japan, 12 Jul. 2013, Refereed, Not invited
  • Graphene-channel FET with doped diamondlike carbon top-gate dielectrics
    T. Eto; S. Takabayashi; Y. Kurita; M. Yang; H. Hayashi; R. Jesko; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Suemitsu; T. Otsuji
    The 9th International Thin-Film Transistor Conference Dig., March 1-2, 2013., 01 Mar. 2013, Refereed, Not invited
  • Dielectric-tuning of diamondlike carbon gate dielectrics prepared by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
    M. Yang; S. Takabayashi; S. Ogawa; H. Hayashi; T. Eto; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    ISGD: International Symposium on Graphene Devices DIg., Soleil, France, Nov. 5, 2012., 08 Nov. 2012, Refereed, Not invited
  • Graphene FET with Diamondlike Carbon Dielectrics
    TAKABAYASHI Susumu; YANG Meng; OGAWA Shuichi; HAYASHI Hiroyuki; KURITA Yuki; TAKAKUWA Yuji; SUEMITSU Tetsuya; OTSUJI Taiichi
    IEICE technical report. Electron devices, 19 Jul. 2012
  • 学会だより 応用物理関係連合講演会
    赤坂大樹; 寺地徳之; 小川修一
    New Diamond, Apr. 2012, Not refereed, Invited
  • C-10-15 Graphene-channel FET with a Diamondlike Carbon Top-gate Dielectric Film
    Takabayashi Susumu; Yang Meng; Ogawa Shuichi; Takakuwa Yuji; Suemitsu Maki; Suemitsu Tetsuya; Otsuji Taiichi
    Proceedings of the IEICE General Conference, 06 Mar. 2012
  • 表面物理計測の進展と機能性薄膜創製への展開
    高桑雄二; 虻川匡司; 小川修一
    マテリアル インテグレーション, Jun. 2011, Not refereed, Invited
  • Complimentary logic inverter on epitaxial graphene/6H-SiC field effect transistor with diamond-like carbon film as gate dielectrics at room temperature
    Amine El Moutaouakil; Susumu Takabayashi; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Hyun-Chul Kang; Ryota Takahashi; Hirokazu Fukidome; Maki Suemitsu; Eiichi Sano; Tetsuya Suemitsu; Taiichi Otsuji
    nature Graphene Conference, 11 May 2011, Refereed, Not invited
  • Networked-Nanographite Wire Grown by Metal-Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD without Catalysts
    SATO Motonobu; OGAWA Shuichi; IKENAGA Eiji; TAKAKUWA Yuji; NIHEI Mizuhisa; YOKOYAMA Naoki
    IEICE technical report, 31 Jan. 2011
  • Mechanism of Resistivity Decrease in Networked-Nanographite Wires for Multi-layer Graphene Interconnects
    Motonobu Sato; Shuichi Ogawa; Manabu Inukai; Eiji Ikenaga; Takayuki Muro; Yuji Takakuwa; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
    2011 IEEE INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE AND MATERIALS FOR ADVANCED METALLIZATION (IITC/MAM), 2011, Not refereed, Not invited
  • Networked-nanographite wire grown on SiO2 dielectric without catalysts using metal-photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    Motonobu Sato; Shuichi Ogawa; Toshiteru Kaga; Haruki Sumi; Eiji Ikenaga; Yuji Takakuwa; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
    2010 IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2010, 2010, Not refereed, Not invited
  • Rate-Limiting Reaction of Layer-by-Layer Oxidation on Si(001) Surfaces : Dependence on the First Oxide Layer Growth Kinetics
    OGAWA Shuichi; TAKAKUWA Yuji
    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 13 Sep. 2006
  • Substrate orientation dependence of first- And second-oxide-layer growth kinetics: Comparison between Si(001)2 × 1 and Si(111)7 × 7 surfaces
    Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2004, Dec. 2004, Refereed, Not invited
  • 13aXF-2 In-situ observation of decomposition kinetics of very thin oxide grown by different oxidation schemes on Si(001)
    Ogawa S.; Takakuwa Y.
    Meeting abstracts of the Physical Society of Japan, 25 Aug. 2004
  • Influence of 2×1/1×2 domain ratio on the initial oxidation kinetics on Si(001) surface
    Takakuwa Y.; Ogawa S.
    Meeting abstracts of the Physical Society of Japan, 15 Aug. 2003

Books and other publications

  • 放射光利用の手引き -農水産・医療、エネルギー、環境、材料開発分野などへの応用-
    小川 修一; 高桑 雄二, Joint work, 第4部33節
    アグネ技術センター, Feb. 2019, Not refereed
    9784901496957
  • X線光電子分光法
    小川 修一, Contributor, 5章4節、付録A、付録B
    講談社, Dec. 2018, Not refereed
    9784065140475
  • グラフェンが拓く材料の新領域 -物性・作製法から実用化まで-
    高桑雄二; 小川修一, Joint work, 第3編第1章第3節 pp.51-64
    エヌ・ティー・エス, Jun. 2012, Not refereed
    9784864690355

Lectures, oral presentations, etc.

  • 機能性材料の保護と高度化を両立させる二次元物質コーティング
    小川 修一
    Controlled growth and characterization研究会, Mar. 2024, Invited
  • Siドライ酸化におけるSiO2/Si界面での過剰少数キャリア再結合と化学吸着O2種の役割
    津田 泰孝; 吉越 章隆; 小川 修一; 坂本 徹也; 山本 善貴; 山本 幸男; 髙桑 雄二
    第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024, Invited
  • DOSモデルに代わる新たなSi(001)表面酸化モデルの提案
    古西浩志; 津田泰孝; 吉越章隆; 高桑雄二; 小川修一
    令和5年度表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2024, Not invited
  • グラフェン酸化処理による粒径と電気抵抗率変化
    樫村悠人; 沖川侑揮; 岡田光博; 小川修一; 山田貴壽
    令和5年度表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2024, Not invited
  • 原子層物質コーティングによるカソード表面の長寿命化と電子放出量増加の両立
    小川修一
    文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ 第2回 革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル領域シンポジウム, Jan. 2024, Invited
  • Si表面酸化における酸化誘起点欠陥発生の役割の研究
    古西浩志; 津田泰孝; 吉越章隆; 高桑雄二; 小川修一
    第56回(令和5年度)日本大学生産工学部学術講演会, Dec. 2023, Not invited
  • Work Function Changes by 2D Material coatings on LaB6
    S. Ogawa; R. Yusa; G. Wang; M. Pettes; F. Liu; Y. Tsuda; A. Yoshigoe; T. Abukawa; N. Moody; H. Yamaguchi
    2023 International Thin Film Conference, Nov. 2023, Not invited
  • Chemical structure of graphene treated by photoemission-assisted Townsend discharge plasma
    Susumu Takabayashi; Akito Fukuda; Shuto Tanaka; Haruhiro Naito; Hisato Yamaguchi; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe
    2023年日本表面真空学会学術講演会, Oct. 2023, Not invited
  • 2次元材料被覆によるLaB6仕事関数変化のPEEM観察
    小川 修一; 遊佐 龍之介; G. Wang; M. T. Pettes; F. Liu; 津田 泰孝; 吉越 章隆; 虻川 匡司; N. A. Moody; H. Yamaguchi
    第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2023, Not invited
  • 光電⼦制御プラズマによるグラフェン改質 (II) 〜 光電⼦分光解析 〜
    鷹林 将; 福田 旺土; 内藤 陽大; 田中 修斗; 山口 尚登; 小川 修一; 高桑 雄二; 津田 泰孝; 吉越 章隆
    第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2023, Not invited
  • 光電⼦制御プラズマによるグラフェン改質 (I) 〜 ラマン分光解析 〜
    福田 旺土; 鷹林 将; 内藤 陽大; 田中 修斗; 山口 尚登; 小川 修一; 高桑 雄二; 津田 泰孝; 吉越 章隆
    第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2023, Not invited
  • 光電子制御タウンゼント放電によるグラフェンの活性化
    福田 旺土; 鷹林 将; 山口 尚登; 小川 修一; 高桑 雄二; 津田 泰孝; 吉越 章隆
    令和5年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会, Jun. 2023, Not invited
  • ガラスピペットを通過するアルゴンガスの真空コンダクタンスの解析検討
    高見 知秀; 大友 千恵; 金子 直暉; 澁谷 興; 宮下 一帆; 太田 望月; 米田 里緒; 小澤 眞美子; 真柄 英之; 小川 修一; 虻川 匡司
    第70回応用物理学会 春季学術講演会, Mar. 2023, Not invited
  • 光電⼦制御プラズマ処理によるグラフェンの修飾
    鷹林 将; 福田 旺土; 塚嵜 琉太; 古賀 永; 山口 尚登; 小川修一; 高桑 雄二; 津田 泰孝; 吉越 章隆
    第70回応用物理学会 春季学術講演会, Mar. 2023, Not invited
  • 分子状吸着O2によるSiO2/Si(001)界面酸化反応過程の分岐
    津田 泰孝; 吉越 章隆; 小川 修一; 坂本 徹哉; 髙桑 雄二
    第83回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2022, Not invited
  • Ni箔上に背面から拡散成長させたh-BNのPEEM観察
    遊佐 龍之介; 青山 大晃; Li Boxua; 小川 修一; 虻川 匡司
    第83回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2022, Not invited
  • CVDグラフェンの電気特性のh-BN膜厚依存性
    山田 貴壽; 沖川 侑揮; 増澤 智昭; 小川 修一; 谷口 尚
    第83回応用物理学会秋春季学術講演会, Sep. 2022, Not invited
  • Potassium desorption from K-doped stacked graphene
    Shuichi Ogawa; Yasutaka Tsuda; Yuki Okigawa; Tomoaki Masuzawa; Akitaka Yoshigoe; Tadashi Abukawa; Takatoshi Yamada
    The 22nd International Vacuum Congress, Sep. 2022, Not invited
  • Modification of Graphene Sheet by Photoemission-Assisted Townsend Discharge Plasma
    Akito Fukuda; Hisashi Koga; Ryuta Tsukazaki; Hisato Yamaguchi; Shuichi Ogawa; Susumu Takabayashi
    The 22nd International Vacuum Congress, Sep. 2022, Not invited
  • Role of molecularly-adsorbed O2 on oxidation at SiO2/Si(001) interface
    Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Shuichi Ogawa; Tetsuya Sakamoto; Yuji Takakuwa
    The 22nd International Vacuum Congress, Sep. 2022, Not invited
  • In-situ PEEM study of h-BN growth on Ni foil using backside to surface diffusion
    Ryunosuke Yusa; Hiroaki Aoyama; Tetsuya Shimizu; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa
    The 22nd International Vacuum Congress, Sep. 2022, Not invited
  • 光電子分光法によるナノ炭素材料の電子状態/化学状態評価
    小川修一
    表面分析研究会第58回研究会, Jun. 2022, 表面分析研究会, Invited
  • Quantitative Evaluation of Dopant Concentration in n-type Potassium-doped graphene using SR-XPS
    Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Yuki Okigawa; Tomoaki Masuzawa; Yasutaka Tsuda; Tetsuya Sakamoto; Akitaka Yoshigoe; Tadashi Abukawa
    15th International Conference on New Diamond and Nano Carbons, Jun. 2022, Not invited
  • Gas Barrier Properties of Chemical Vapor-Deposited Graphene to Oxygen Imparted with Sub-eV Kinetic Energy
    Shuichi Ogawa; Hisato Yamaguchi; Edward Holby; Takatoshi Yamada; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
    2022 MRS Spring Meeting & Exhibit, May 2022, Not invited
  • SiO2/Si(001)界面酸化反応におけるn型とp型の比較
    津田 泰孝; 小川 修一; 吉越 章隆; 坂本 徹哉; 冨永 亜希; 山本 善貴; 山本 幸男; 高桑 雄二
    第69回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2022, Not invited
  • リアルタイム光電子分光法による表面反応キネティクスの複合解析
    小川修一
    令和 3 年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2022, Invited
  • Ni箔上に表面偏析成長させたh-BNの光電子顕微鏡その場観察
    遊佐龍之介; 志水哲也; 小川修一; 虻川匡司
    令和3年度⽇本表⾯真空学会東北・北海道⽀部学術講演会, Mar. 2022, Not invited
  • Changes of rate-limiting reactions with progress of the reduction process on oxidized Ni(111)
    Shuichi Ogawa; Ryo Taga; Ryunosuke Yusa; Yasutaka Tsuda; Tetsuya Sakamoto; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa; Tadashi Abukawa
    The 9th International Symposium on Surface Science, Dec. 2021, Not invited
  • Molecular beams study on satellite peak observed in O1s photoelectron spectra for Si(001)2×1 surface oxidation at room temperature
    Akitaka Yoshigoe; Yas utaka Tsuda; Aki Tominaga; Tetsuya Sakamoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    The 9th International Symposium on Surface Science, Nov. 2021, Not invited
  • PEEM study of the growth process of h-BN and graphene on Ni foil for fabrication of graphene/h-BN heterostructure
    Ryunosuke Yusa; Tetsuya Shimizu; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa
    The 9th International Symposium on Surface Science, Nov. 2021, Not invited
  • Comparison of the oxidation reaction kinetics between SiO2/n- and p-Si(001) interfaces
    Yasutaka Tsuda; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Tetsuya Sakamoto; Yuji Takakuwa
    The 9th International Symposium on Surface Science, Nov. 2021, Not invited
  • Initial oxidation structure analysis of Si(111)-7×7 surface
    Takeuchi Soichiro; Akitaka Yoshigoe; Yasutaka Tsuda; Yusuke Hashimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Syunjo Koga; Masaki Tanaka; Sun Zexu; Tomohiro Matsushita
    13th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '21, Oct. 2021, Not invited
  • 光電子ホログラフィーを用いたSi(111)-7×7表面の初期酸化構造解析
    竹内走一郎; 古賀峻丞; 田中晶貴; 孫澤旭; 津田泰孝; 小川修一; 髙桑雄二; 橋本由介; 室隆桂之; 吉越章隆; 松下智裕
    日本物理学会2021年秋季大会, Sep. 2021, Not invited
  • Ni箔上へのグラフェン/h-BNヘテロ成長のPEEMによるその場観察
    遊佐龍之介; 志水哲也; 小川修一; 虻川匡司
    日本物理学会2021年秋季大会, Sep. 2021, Not invited
  • カリウム添加多層グラフェンの電気特性評価
    山田 貴壽; 増澤 智昭; 小川 修一; 高桑 雄二; 沖川 侑揮
    第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2021, Not invited
  • 動的 Shirley 法を用いた二層グラフェン中微量ドーパントのXPS測定
    小川 修一; 山田 貴壽; 沖川 侑揮; 増澤 智昭; 津田 泰孝; 吉越 章隆; 虻川 匡司
    第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2021, Not invited
  • SiO2/Si(001)界面のバンドベンディングへの酸素と放射光のON-OFF効果
    津田 泰孝; 小川 修一; 吉越 章隆; 坂本 徹哉; 高桑 雄二
    第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2021, Not invited
  • Si(001)2×1表面室温酸化に観られるO1s光電子スペクトルのサテライトピークと酸素分子の並進運動エネルギーの関係
    吉越 章隆; 津田 泰孝; 冨永 亜希; 坂本 哲哉; 小川 修一; 髙桑 雄二
    第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2021, Not invited
  • Introduction of real-time XPS for material processing
    Shuichi Ogawa
    MIRAI 2.0 R&I Week 2021, Jun. 2021, Invited
  • Characterization of K-doped multilayer graphene by wet process
    T. Yamada; Y. Okigawa; K. Hatakeyama; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Masuzawa
    International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2020/2021, Jun. 2021, Not invited
  • Si(551)基板上に形成されたSi(15 17 3)3x1ファセット表面の表面構造解析
    青山大晃; 内藤完; 中塚聡平; 小川修一; 虻川匡司; 江口豊明; 服部賢; 服部梓; 黒田理人
    日本物理学会第76回年次大会, Mar. 2021, Not invited
  • Ni箔上に成長するグラフェンおよびh-BNの光電子顕微鏡その場観察
    遊佐龍之介; 志水哲也; 虻川匡司; 小川修一
    日本物理学会第76回年次大会, Mar. 2021, Not invited
  • Ni(111)表面に形成したNiO膜の還元過程のリアルタイム光電子分光観察
    張氷若; 小川修一; 吉越章隆; 高桑雄二
    令和2年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2021, Not invited
  • Si(551)および(15 17 3)表面の構造解析
    青山大晃; 内藤完; 中塚聡平; 小川修一; 虻川匡司; 江口豊明; 服部賢; 服部梓; 黒田理人
    令和2年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2021, Not invited
  • Ni箔上におけるグラフェンおよびh-BNの光電子顕微鏡による成長観察
    遊佐龍之介; 志水哲也; 小川修一; 虻川匡司
    令和2年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2021, Not invited
  • ガスバリア特性評価のためのグラフェン用触媒金属膜の検討
    小川修一; 山田貴壽; 津田泰孝; 吉越章隆; 虻川匡司
    令和2年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2021, Not invited
  • Si(551)表面のW-RHEEDとSTMによる構造解析
    内藤 完; 中塚 聡平; 小川 修一; 虻川 匡司; 江口 豊明; 服部 賢; 服部 梓; 黒田 理人
    2020年日本表面真空学会学術講演会, Nov. 2020, Not invited
  • Si(551)表面の表面構造解析I
    内藤 完; 中塚 聡平; 小川 修一; 虻川 匡司; 江口 豊明; 服部 賢; 服部 梓; 黒田 理人
    日本物理学会 2020年秋季大会, Sep. 2020, Not invited
  • 高エネルギーO2分子ビームに対するCu上グラフェンのバリア性能評価
    小川 修一; H. Yamaguchi; E. F. Holby; 山田 貴壽; 吉越 章隆; 高桑 雄二
    第81回 応用物理学会 秋季学術講演会, Sep. 2020, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる窒素ドープ黒鉛薄膜の合成
    芳賀義弥; 小川修一; 高桑雄二
    令和元年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2020, Not invited
  • 欠陥酸化を介した高エネルギーO2分子のグラフェン膜透過
    小川修一; 山田貴壽; H. Yamaguchi; E. F. Holby; 吉越章隆; 高桑雄二
    令和元年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2020, Not invited
  • O2 pressure dependence of changes of band bending of p-NiO layer grown on Ni (111) surface studied by photoelectron spectroscopy
    Bingruo Zhang\\; Shuichi Ogawa\\; Akitaka Yoshigoe\\; Yuji Takakuwa
    8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces, Nov. 2019, Not invited
  • Role of stress and carrier in oxidation on Si surfaces
    Jaiyi Tang; Yuki Sekihata; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
    2019 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES – SCIENCE AND TECHNOLOGY –, Nov. 2019, Invited
  • H2 annealing effect on redaction of NiO films grown on Ni(111) surfaces
    Bingruo Zhang; Nobuhisa Kamata; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
    International Thin Films Conference 2019, Nov. 2019, Not invited
  • Photoemission-assisted plasma enhanced CVD Synthesis of nitrogen-doped graphite for Pt alternative catalyst
    Shuichi Ogawa; Susumu Hashimoto; Yoshiya Haga; Xiang-Bin Han; Shen Ye; Yuji Takakuwa
    International Thin Films Conference 2019, Nov. 2019, Not invited
  • 東北次世代放射光施設の紹介
    小川 修一
    第2回日本表面真空学会若手部会研究会, Oct. 2019, Invited
  • Oxidation-induced Generation Kinetics of Point Defect on Si(001) Surfaces Observed in situ by UPS, XPS, and RHEED Combined with AES
    Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
    12th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '19, Oct. 2019, Invited
  • PEEM observation of band alignment on graphene/hexagonal boron nitride laminate structure
    Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Ryo Kadowaki; Takashi Taniguchi; Tadashi Abukawa; Yuji Takakuwa
    The 11th annual Recent Progress in Graphene and Two-dimensional Materials Research Conference, Oct. 2019, Not invited
  • Rapid-temperature-rising induced reduction of NiO film grown on Ni(111) surface
    Bingruo Zhang; Nobuhisa Kamata; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
    第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2019, Not invited
  • Morphology changes of Cu surfaces by comparison of Ar+ and Xe+ ion irradiation induced by photoemission-assisted plasma
    Saijian AJIA; Nobuhisa Kamata; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2019, Not invited
  • Mechanism of subnanometer level flattening of Cu surfaces with low energy Xe+ ions
    Nobuhisa Kamata; Saijian Ajia; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    21st International Vacuum Congress, Jul. 2019, Not invited
  • Oxidation on Ni(111) studied by UPS and XPS
    Bingruo Zhang; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
    平成30年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2019, Not invited
  • 光電子制御プラズマイオン源の放電機構の解明
    蒲田修久; 阿加賽見; 小川修一; 高桑雄二
    平成30年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2019, Not invited
  • リアルタイムXPSによるSi表面酸化プロセスの反応速度・酸化誘起歪みの同時観察
    小川修一
    2018年日本表面真空学会学術講演会, Nov. 2018, Invited
  • Interaction of DC Discharge Ar Plasma with Photoelectrons from UV-irradiated Au surface
    N. Kamata; S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited
  • Behavior of Ni Vacancy during Oxidation on Ni(111) Surfaces
    Binguo Zhang; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited
  • Band Alignment of Bulk h-BN/Graphene Measured by PEEM
    Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Ryo Kadowaki; Takashi Taniguchi; Tadashi Abukawa; Yuji Takakuwa
    14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited
  • Synthesis of Nitrogen-doped Graphite by Photoemission-assisted PECVD
    Susumu Hashimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited
  • Flattening of Cu Surfaces with 26-eV Xe+ ion from Rq = 2.9 to 1.3 nm
    Saijian Ajia; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited
  • O2 Pressure Dependence of Oxidation Rate on p- and n-Si(001) Surfaces
    Y. Sekihata; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited
  • 軟X線発光分光によるDLCの電子状態研究III
    寺内正己; 小川修一; 橋本 晋; 高桑雄二
    日本物理学会2018年秋季大会, Sep. 2018, Not invited
  • Synthesis of Carbon nitrogen films using photoemission-assisted plasma enhanced CVD using nitrogen diluted methane
    Susumu Hashimoto; Rintaro Sugimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    29th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2018, Not invited
  • O2 pressure dependence of initial oxidation kinetics on Ni(111) surfaces
    S. Ogawa; R. Taga; T. Ozaki; A. Yoshigoe; Y. Takakuwa
    The 34th European Conference on Surface Science, Aug. 2018, Not invited
  • Photo-induced enhancement of oxidation on p- and n-type Si(001) surfaces
    Y. Sekihata; S. Ogawa; A. Yoshigoe; R. Taga; A. Klyushin; E. Carbonio; A. Knop-Gericke; Y. Takakuwa
    The 34th European Conference on Surface Science, Aug. 2018, Not invited
  • Space charge effect on photoemission-assisted Ar plasma
    N. Kamata; S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    31st International Vacuum Nanoelectronics Conference, Jul. 2018, Not invited
  • リアルタイム光電子分光による表面反応プロセスの解明
    小川 修一
    2018年度微細構造解析プラットフォームシンポジウム, Jul. 2018, Invited
  • SXESによるDLCの電子状態の研究
    寺内正己; 小川修一; 橋本晋; 高桑雄二
    第74回日本顕微鏡学会 学術講演会, May 2018, Not invited
  • 極薄酸化Ni(111)表面の還元過程:真空およびH2中加熱の比較
    多賀稜; 小川修一; 尾崎司; 吉田光; 吉越章隆; 髙桑雄二
    第65回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018, Not invited
  • Ni(111)表面初期酸化過程のリアルタイム光電子分光観察
    尾崎司; 多賀稜; 小川修一; 高桑雄二
    平成29年度日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2018, Not invited
  • 光電子制御プラズマを用いた低速Ar+イオン/Ar原子ビームの開発
    蒲田修久; 阿加賽見; 小川修一; 高桑雄二
    平成29年度日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2018, Not invited
  • Two-step treatments of photoemission-assisted plasma irradiation for Cu/Si surfaces smoothing
    S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    10th Anniversary Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 11th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science, Mar. 2018, Not invited
  • Comparoson of the oxidation kinetics between p- and n-tupe Si(001) surfaces
    Y. Sekihata; S. Ogawa; A. Yoshigoe; R. Yaga; A. Klyushin; E. Carbonio; A. Knop-Gerike; Y. Takakuwa
    International Workshop on Mineral Processing and Metallurgy 2018, Mar. 2018, Not invited
  • Photo-Induced Enhancement of Oxidation on p- and n-type Si(001) surfaces
    Y. Sekihata; S. Ogawa; Y. Akitaka; R. Taga; A. Klyushin; E. Carbonio; A. Knop-Gericke; Y. Takakuwa
    2017 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices, Nov. 2017, Not invited
  • Photoemission-assisted plasma CVD growth of N-doped diamond like carbon films on Si substrates
    S. Hashimoto; R. Sugimoto; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    39th International Symposium on Dry Process, Nov. 2017, Not invited
  • O2 Pressure Dependence of SiO2/Si Interfacial Oxidation Rate Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
    S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
    AVS 64th International Symposium & Exhibition 2017, Nov. 2017, Not invited
  • Real-time Photoelectron Spectroscopy Observation of Oxidation and Reduction Kinetics of Ni(111) Surface
    R. Taga; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    AVS 64th International Symposium & Exhibition 2017, Oct. 2017, Not invited
  • Comparison of Initial Oxidation Kinetics between p- and n-type Si(001) Surfaces Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
    Y. Sekihata; S. Ogawa; A. Yoshigoe; R. Taga; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
    AVS 64th International Symposium & Exhibition 2017, Oct. 2017, Not invited
  • Mechanism of initial thermal oxidation on Si(113) surfaces
    A. Ogawa; H. Tanaka; S. Ohno; M. Tanaka; K. Miki; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    The 8th International Symposium on Surface Science, Oct. 2017, Not invited
  • Temperature Dependence of Thermal Reduction Kinetics of Oxidized Ni(111) Surfaces Studied by in-situ UPS and XPS
    R. Taga; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    The 8th International Symposium on Surface Science, Oct. 2017, Not invited
  • Synthesis of Oxygen-doped DLC using CH4/Ar photoemission-assisted plasma CVD with CO2 doping gas
    S Ogawa; R. Sugimoto; N. Kamata; Y. Takakuwa
    2017 International Thin Film Conference, Oct. 2017, Not invited
  • Growth of nitrogen doped DLC by photoemission-assisted plasma CVD with N2 gas
    S. Hashimoto; R. Sugimoto; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    2017 International Thin Film Conference, Oct. 2017, Not invited
  • 軟X線発光分光によるDLCの電子状態研究
    寺内 正己; 小川 修一; 橋本 晋; 高桑 雄二
    日本物理学会 秋季大会, Sep. 2017, Not invited
  • Valence band evaluation of graphene using in-situ photoelectron spectroscopy with non-monochromatic He I line
    S. Ogawa; T. Yamada; R. Taga; A. Yoshigoe; Y. Takakuwa
    The 9th annual Recent Progress in Graphene and Two-dimensional Materials Research Conference, Sep. 2017, Not invited
  • 酸化Ni(111)表面の還元過程:水素雰囲気と真空雰囲気の比較
    多賀 稜; 小川 修一; 高桑 雄二
    第78回応用物理学会 秋季学術講演会, Sep. 2017, Not invited
  • 圧力急増によるSiO2/Si(001)界面酸化促進とその律速過程の解明
    小川 修一; 高桑 雄二
    第78回応用物理学会 秋季学術講演会, Sep. 2017, Not invited
  • 水素暴露による酸化 Ni(111)表面還元過程のリアルタイム光電子分光観察
    多賀 稜; 小川 修一; 高桑 雄二
    日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2017, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVD装置の開発
    布川 雄一; 後藤 忠彦; 荒舘 笙; 杉本 倫太朗; 小川 修一; 高桑 雄二
    日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2017, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる窒素ドープDLCの合成
    橋本 晋; 杉本 倫太朗; 小川 修一; 高桑 雄二
    日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2017, Not invited
  • リアルタイム光電子分光によるSi(001)基板初期酸化過程におけるp型n型伝導度依存の解明
    堰端 勇樹; 多賀 稜; 小川 修一; 高桑 雄二
    日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2017, Not invited
  • 光電子顕微鏡を用いた グラフェン/h-BNからの電子放出過程の解明
    小川 修一
    新学術領域「原子層科学」 第8回全体領域会議,, Jan. 2017, Not invited
  • Si(100)表面室温酸化中の「分子状吸着酸素」の発見
    吉越章隆; 多賀稜; 小川修一; 高桑雄二
    東北大学金属材料研究所共同利用研究ワークショップ「3GeV 高輝度放射光SLiT-J と産学協創」, Dec. 2016, Not invited
  • Si(100)表面室温酸化中の「分子状吸着酸素」の発見 -放射光が30年来の謎を解く-
    吉越章隆; 多賀稜; 小川修一; 高桑雄二
    第16回東北大学多元物質科学研究所 研究発表会, Dec. 2016, Not invited
  • CO2/CH4/Ar 混合ガスを用いた光電子制御プラズマ CVD による酸素ドープ DLC 薄膜の合成
    杉本 倫太朗; 橋本 晋; 小川 修一; 竹野 貴法; 足立 幸志; 高桑 雄二
    2016年(平成28年)応用物理学会東北支部 第71回学術講演会, Dec. 2016, Not invited
  • 表面機能・ナノプロセス観察ビームライン
    小川 修一
    SLiT-J エンドステーション・デザインコンペ 公開シンポジウム, Nov. 2016, Invited
  • Interface oxidation enhancement at SiO2/Si(001) by raising O2 pressure
    S. Ogawa; J. Tang; R. Taga; Y. Takakuwa
    The 13th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2016, Not invited
  • Effect of oxygen doping on chemical bonding and mechanical properties of CVD-grown DLC films
    R. Sugimoto; H. Abe; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
    The 13th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2016, Not invited
  • Si(113) 表面酸化における表面構造と電子状態の解析
    小川 新; 田中 博也; 大野 真也; 田中 正俊; 三木 一司; 小川 修一; 高桑 雄二
    2016年度応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2016, Not invited
  • RHEED による極性表面の識別
    堀尾 吉已; 柚原 淳司; 安部 功二; 高桑 雄二; 小川 修一
    2016年度応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2016, Not invited
  • RHEEDによるZnO(0001)極性表面の識別
    堀尾吉已; 柚原淳司; 高桑雄二; 小川修一; 安部功二
    日本物理学会2016年秋季大会, Sep. 2016, Not invited
  • Chemical bonding and mechanical properties of O-doped DLC films synthesized by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    R. Sugimoto; H. Abe; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
    The 15th International Conference on Plasma Surface Engineering, Sep. 2016, Not invited
  • Temperature dependence of chemical bonding and mechanical property of DLC films grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    R. Sugimoto; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
    International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2016, Not invited
  • Comparative Study of O2 Adsorption Kinetics on p- and n-Si(001) Surfaces at Room Temperature
    R. Taga; K. Nishimoto; J. Tang; Z. Yu; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    The 20th International Vacuum Congress, Aug. 2016, Not invited
  • Chemical Bonding and Mechanical Property of CVD-Grown DLC Films Controlled by Temperature and Oxygen Doping
    R. Sugimoto; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
    The 20th International Vacuum Congress, Aug. 2016, Not invited
  • Dissociative Adsorption and Desorption Kinetics of NO on Clean and Oxidized Ni(111) Surfaces
    R. Taga; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    The 20th International Vacuum Congress, Aug. 2016, Not invited
  • Temperature dependence of chemical bonding and mechanical property of DLC films grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    R. Sugimoto; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
    2016 International Conference on Diamond and Carbon Materials, Aug. 2016, Not invited
  • Chemical and mechanical properties of DLC films grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    R. Sugimoto; Connor S. Liston; S. Ogawa; T.Takeno; K. Adachi; Yuji Takakuwa
    CWRU-TU 3rd Joint workshop, Aug. 2016, Not invited
  • Photoemission-assisted plasma-enhanced CVD growth of diamond-like carbon films and its characterization
    R. Sugimoto; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Muramatsu; Y. Takakuwa
    The 10th International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2016, May 2016, Not invited
  • Synthesis of oxyhen doped diamond-like carbon films by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    H. Abe; R. Sugimoto; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    The 13th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology, May 2016, Not invited
  • Sputtering yield of low energy photoemission-assisted plasma Ar+-ion source for surface smoothing
    S. Ajia; Y. Kotanigawa; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    The 13th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology, May 2016, Not invited
  • RHEEDによるZnO(0001)表面緩和の構造解析
    堀尾 吉已; 柚原 淳司; 安部 功二; 高桑雄二; 小川修一
    第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDを用いたCO2 による酸素ドープDLC膜の合成
    阿部寛生; 杉本倫太朗; 小川修一; 高桑雄二
    Mar. 2016, Not invited
  • Ni(111)表面でのNO解離吸着過程への表面酸素の影響
    多賀稜; 小川修一; 高桑雄二
    平成27年度日本表面科学会 東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2016, Not invited
  • Sputtering Effect and Enhancement of Surface Migration Induced by Low Energy Photoemission-Assisted Plasma Ion Source
    S. Ajia; Y. Kotanigawa; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    8th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 9th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science, Mar. 2016, Not invited
  • p型とn型Si(001)表面室温酸化におけるO2解離吸着過程の比較
    多賀 稜; 唐 佳芸; Yu Zhou; 小川 修一; 髙桑 雄二
    第35回表面科学学術講演会, Dec. 2015, Not invited
  • RHEEDによるZnO(0001)表面構造解析
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一; 安部功二
    第35回表面科学学術講演会, Dec. 2015, Not invited
  • Rapid Temperature Oxidation at SiO2/Si(001) Interface Studied by Real-Time X-Ray Photoelectron Spectroscopy: Rapid Cooling Versus Rapid Heating
    J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
    2015 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES – SCIENCE AND TECHNOLOGY –, Nov. 2015, Not invited
  • Auger Intensity Anomalies from ZnO(0001) Surface Excited by RHEED Incident Beam
    Y. Horio; Y. Takakuwa; S. Ogawa; K. Abe
    10th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15, Oct. 2015, Not invited
  • Strain-induced Reaction Kinetics of O2 Molecule at SiO2/Si Interfaces studied by Real-time X-ray Photoelectron Spectroscopy
    J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
    10th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15, Oct. 2015, Not invited
  • Development of high pressure X-ray photoelectron spectroscopy with Cr and Al Dual X-ray sources
    L. Zhang; T. Takeno; S.Ogawa; K. Adachi; K. Kurihara; Y. Takakuwa
    16th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis, Sep. 2015, Not invited
  • RHEED励起によるZnO(0001)表面からのBRAESプロファイル
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一; 安部功二
    日本物理学会2015年秋季大会, Sep. 2015, Not invited
  • 中速電子回折と表面波共鳴との相関性
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
    第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2015, Not invited
  • Interaction of Au(200 nm)/Si surface with photoemission-assisted plasma ion source: the surface flattening effect of He+, Ar+, Kr+, and Xe+ ions
    Y. Kotanigawa; X. Ajiasaijian; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    31st European Conference on Surface Science, Sep. 2015, Not invited
  • Ultraviolet photoelectron spectroscopy study of Cu(200 nm)/Si substrates treated by Ar ion sputtering and vacuum annealing
    X. Ajiasaijian; Y. Kotanigawa; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    31st European Conference on Surface Science, Sep. 2015, Not invited
  • Strain-induced oxide decomposition at SiO2/Si(001) and SiO2/Si(111) interfaces studied by X-ray photoelectron spectroscopy and scanning tunnelling microscopy
    J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    31st European Conference on Surface Science, Sep. 2015, Not invited
  • Comparison of photoemission-assisted plasma discharge characteristics between n-type and p-type diamond surfaces
    M. Kawata; A. Ohno; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Not invited
  • Estimation of critical ion energy for surface planarization process using photoemission-assisted plasma ion source
    Y. Kotanigawa; S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Not invited
  • Ion incident energy dependence for Cu surface smoothing using Ar+ ions generated by photoemission-assisted plasma
    S. Ajia; Y. Kotanikawa; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Not invited
  • Oxygen Doping into Networked Nanographite by using Photoemission Assisted Plasma Enhanced CVD with CO2 doping Gas
    Y.Ojiro; S.Ogawa; T.Muro; Y. Takakuwa
    9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, May 2015, Not invited
  • Electronic and Chemical States Changes During Formation of Graphene on Diamond C(111) Substrates Measured by XPS
    S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, May 2015, Not invited
  • Discharge characteristics and growth of diamond using high-pressure glow discharge mediated photoemission-assisted plasma
    A. Ohno; M. Kawata; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, May 2015, Not invited
  • Mechanical Property and Chemical configuration of diamond-like carbon films grown by photoemission-assisted plasma enhanced CVD
    R. Sugimoto; H. Hayashi; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
    9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, May 2015, Not invited
  • HAXPES study of the CVD growth kinetics of networked nanographite on SiO2(90 nm)/Si: CH4/Ar and CH4/H2 gases
    Y. Ojiro; M. Inukai; S. Ogawa; M. Sato; E. Ikenaga; T. Muro; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
    HAXPES2015, Mar. 2015, Not invited
  • Thickness and chemical bonding states of thick nanographitite on SiO2(90 nm)/Si evaluated by HAXPES
    S. Ogawa; Y. Ojiro; M. Inukai; E. Ikenaga; T. Muro; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    HAXPES2015, Mar. 2015, Not invited
  • 細胞への自動インジェクション装置実現のための要素技術開発
    高見知秀; 尾白佳大; 西本究; 小川佳英; 小山真人; 小川修一; 高桑雄二; 斉藤美佳子; 松岡英明; 楯真一
    日本物理学会第70回年次大会, Mar. 2015, Not invited
  • EF-MEEDによるGeハットクラスタの観察
    堀尾吉已; 田代将人; 高桑雄二; 小川修一
    日本物理学会第70回年次大会, Mar. 2015, Not invited
  • SiO2/Si(001)界面酸化プロセスにおける熱歪みの寄与
    小川 修一; 唐 佳芸; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 寺岡 有殿; 高桑 雄二
    第62回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2015, Not invited
  • ガラスナノピペットにおける希ガスの真空コンダクタンス
    高見 知秀; 西本 究; 後藤 忠彦; 小川 修一; 高桑 雄二
    第62回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2015, Not invited
  • 光電子制御ArプラズマによるAu 表面平坦化処理の効果
    小谷川祐貴; 阿加賽見; 小川修一; 高桑雄二
    平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2015, Not invited
  • CVD多層グラフェンのXAFSとXPSによる解析:結晶配向性と電気抵抗率の相関
    尾白佳大; 小川修一; 室隆桂之; 高桑雄二
    平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2015, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVD合成DLC膜の機械特性と化学状態の関係性
    杉本倫太朗; 林広幸; 小川修一; 竹野貴法; 足立幸志; 高桑雄二
    平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2015, Not invited
  • p型ダイヤモンド表面での光電子制御プラズマ放電特性の解明
    大野敦子; 川田麻由梨; 小川修一; 高桑雄二
    平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2015, Not invited
  • 「その場」観察光電子分光によるグラフェン・オン・ダイヤモンド構造作製プロセスの解明
    小川 修一
    多元物質科学研究所若手交流講演会, Jan. 2015, Invited
  • RHEED励起オージェ電子分光法の開発と応用
    堀尾 吉已; 高桑 雄二; 小川 修一; 田代 将人
    第14回東北大学多元物質科学研究所研究発表会, Dec. 2014, Not invited
  • ナノカーボン材料開発における硬X線および軟X線光電子分光法の活用
    小川 修一
    日本真空学会 2014年12月研究例会, Dec. 2014, Invited
  • ラングミュアプローブ法による光電子制御Arプラズマの放電特性評価
    小谷川 祐貴; 阿加 賽見; 小川 修一; 高桑 雄二
    Plasma Conference 2014, Nov. 2014, Not invited
  • Ion Mass Dependence of Surface Planarization by Photoemission-Assisted Plasma Ion Source with He+, Ar+ and Kr+
    Saijian Ajia; Yuki Kotanigawa; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    Plasma Conference 2014, Nov. 2014, Not invited
  • Oxide Growth Kinetics at SiO2/Si(001) Interfaces Induced by Rapid Temperature Raising
    S. Ogawa; J. Tang; A. Yoshigoe; K. Nishimoto; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    AVS 61st International Symposium and Exhibition, Nov. 2014, Not invited
  • Enhancement of Surface Migration by Photoemission-assisted Plasma for Atomic-Scale Surface Smoothing
    A. Saijian; Yuki Kotanikawa; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    AVS 61st International Symposium and Exhibition, Nov. 2014, Not invited
  • ガラスナノピペット先端表面の改質と顕微ラマン分光法による分析評価
    高見知秀; 尾白佳大; 小川佳英; 小川修一; 高桑雄二; 斉藤美佳子; 松岡英明; 楯真一
    第34回表面科学学術講演会, Nov. 2014, Not invited
  • 温度増加によるSiO2/Si(001)界面酸化増速機構の観察
    小川修一; 唐佳芸; 西本究; 高桑雄二
    第34回表面科学学術講演会, Nov. 2014, Not invited
  • Development of a Laboratory-based Cr X-ray Source for Ambient-Pressure HAXPES
    L. Zhang; T. Takeno; S. Ogawa; K. Adachi; K. Kurihara; Y. Takakuwa
    The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited
  • Effect of Oxidation-Induced Strain on Thermal Decomposition of Ultrathin Oxide Grown on Si(111) and Si(111) Surfaces
    J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; K. Nishimoto; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited
  • Electric Resistivity Decrement of Networked Nano Graphite on DLC Surface Grown by Photoemission Assisted Plasma Enhanced CVD
    Y. Ojiro; H. Honma; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited
  • Surface modification of glass nanopipette with chlorobenzene-terminated polysiloxane
    T. Takami; Y. Ojiro; Y. Ogawa; S. Ogawa; Y. Takakuwa; M. Saito; H. Matsuoka; S. Tate
    The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited
  • RHEED Patterns Calculated for Pt Nano Clusters on TiO2(110) Substrate
    Y. Horio; Y. Watanabe; Y. Takakuwa; S. Ogawa
    The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited
  • 実験準大気圧硬X線光電子分光のためのCr-X線発生装置の開発
    張 蕾; 竹野貴法; 小川修一; 足立幸志; 栗原和枝; 高桑雄二
    第50回X線分析討論会, Oct. 2014, Not invited
  • Reaction kinetics of oxygen molecule at SiO2/Si(111) interface monitored in real time by X-ray photoelectron spectroscopy
    J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; K. Nishimoto; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    16th International Conference on Thin Films, Oct. 2014, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト合成と低抵抗化への挑戦
    小川 修一
    2014年電気化学秋季大会, Sep. 2014, Invited
  • 若手放射光ユーザーの視点:その場観察光電子分光の現状と希望
    小川 修一
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Invited
  • ダイヤモンドライクカーボン薄膜のラマン解析 (II): 電気特性との関係性
    鷹林 将; 林 広幸; 楊 猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited
  • ダイヤモンドライクカーボン薄膜のラマン解析 (I): 関数解析について
    鷹林 将; 林 広幸; 楊 猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited
  • ダイヤモンライクカーボン薄膜へのナノ制御ドーピング
    鷹林 将; 林 広幸; 楊 猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited
  • Thermal Decomposition Reaction Mechanism of Ultrathin Oxide on Si(111)
    唐 佳芸; 小川修一; 吉越章隆; 西本 究; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited
  • RHEED鏡面反射電子に対する表面プラズモンの異常励起
    堀尾吉已; 原 朋尚; 高桑雄二; 小川修一
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited
  • Ar+ Ion Flux Dependence of Surface Morphology of Cu Surface Treated by Photoemission-Assisted Plasma
    Xxx Ajiasaijian; Yuki Kotanikawa; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    13th European Vacuum Conference, Sep. 2014, Not invited
  • Quick-Cooling Induced Accelaration of Oxidation on Si(001) Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy
    Jiayi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinnji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    13th European Vacuum Conference, Sep. 2014, Not invited
  • Growth mechanism of graphene on Cu(111) substrates studied by in-situ photoelectron spectroscopy
    S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    25th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2014, Not invited
  • Decrease mechanism of the resistivity of networked nanographite grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD using CH4/Ar and CH4/H2
    Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    25th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2014, Not invited
  • DLC synthesis by Photoemission-assisted plasma enhanced CVD: CH4 concentration dependence of dielectric constant
    H. Hayashi; S. Takabayashi; M. Yang; R. Jesko; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    25th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2014, Not invited
  • EF-MEED装置の開発
    堀尾吉已; 田代将人; 高桑雄二; 小川修一
    日本物理学会2014年秋季大会, Sep. 2014, Not invited
  • Migration Enhancement of Cu atom during Surface Flattening by Photoemission-Assisted Plasma Ion Source with He, Ar and Kr Gases
    X. Ajiasaijian; Y. Kotanikawa; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    30th European Conference on Surface Science, Sep. 2014, Not invited
  • Temperature Dependence of Oxidation Reaction Paths on Si(111)7×7 Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy and Theoretical Calculations
    J. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishiduka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    30th European Conference on Surface Science, Sep. 2014, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜低温合成
    川田 麻由梨; 尾白 佳大; 小川 修一; 増澤 智昭; 岡野 健; 高桑 雄二
    第52回炭素材料夏季セミナー, Aug. 2014, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるFETゲート絶縁膜用DLC薄膜の合成
    林 広幸; 鷹林 将; 楊 猛; 小川 修一; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
    第52回炭素材料夏季セミナー, Aug. 2014, Not invited
  • 多層グラフェンのCVD成長過程および電気特性に与えるキャリアガスの影響に関する研究
    尾白 佳大; 小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
    第52回炭素材料夏季セミナー, Aug. 2014, Not invited
  • Real-Time Electronic Structure Evolution of Thermally Reduced Graphene Oxide
    H. Yamaguchi; D. Watanabe; S. Ogawa; H. Hozumi; L. Adamska; G. Eda; C. Mattevi; T. Yamada; M. Chhowalla; A. M Dattelbaum; G. Gupta; A. D Mohite; K. A Velizhanin; Y. Takakuwa
    2014 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2014, Not invited
  • Self-accelerating oxidation at oxide/Si(111) interfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy
    唐 佳芸; 西本 究; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2014, Not invited
  • 金属ナノクラスタに対するRHEED図形シミュレーション
    堀尾吉已; 渡邊佳英; 高桑雄二; 小川修一
    2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2014, Not invited
  • 真空加熱実験に基づくグラフェン/Cu(111)エピタキシャル成長機構の考察
    小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 吉越章隆; 長谷川雅孝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2014, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるゲートスタック用DLCの誘電率制御:Low-kからHigh-kまで
    林 広幸; 鷹林 将; 楊 猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
    2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2014, Not invited
  • 光電子分光によるCu(111)基板上グラフェン成長過程の解明
    小川 修一
    平成25年度文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業微細構造解析プラットフォーム 第2回利用研究セミナー, Mar. 2014, Invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト/DLC膜合成の研究
    本間寛人; 尾白佳大; 小川修一; 高桑雄二
    日本表面科学会平成25年度東北・北海道支部講演会, Mar. 2014, Not invited
  • リアルタイム光電子分光によるNi(111)表面およびRh(111)表面酸化機構の比較
    渡邉彩香; 渡辺大輝; 林広幸; 小川修一; 高桑雄二
    日本表面科学会平成25年度東北・北海道支部講演会, Mar. 2014, Not invited
  • リアルタイム光電子分光によるSi表面酸化反応機構の解明
    小川 修一
    日本鉄鋼協会シンポジウム「放射光を用いたナノ・ミクロの表面・バルク解析」~ソフト・ハードX線による極限的評価~」, Jan. 2014, Invited
  • グラフェンFET用DLCの光電子制御プラズマCVDプロセスの開発
    林 広幸; 鷹林 将; 楊 猛; イエシュコ ラデク; 小川 修一; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
    第19回ゲートスタック研究会, Jan. 2014, Not invited
  • 硬X線光電子分法、偏光X線吸収分光法および赤外線吸収分光法による SiO2上への多層グラフェン成長機構の研究
    尾白佳大; 小川修一; 犬養学; 佐藤元伸; 池永英司; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    平成25年度放射光表面科学研究部会・顕微ナノ材料科学研究会合同シンポジウム, Dec. 2013, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるダイヤモンドの低温気相合成:Arガスの効果
    川田麻由梨; 尾白佳大; 小川修一; 増澤智昭; 岡野健; 高桑雄二
    第68回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2013, Not invited
  • グラフェンチャネルFET用DLC膜の誘電率制御
    林広幸; 鷹林将; 楊猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
    第68回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2013, Not invited
  • Real-Time XPS Study of Reduction of Graphene Oxide: Effect of Hydrazine Treatment
    D. Watanabe; S. Ogawa; H. Yamaguchi; H. Hozumi; C. Mattevi; A. Yoshigoe; S. Ishizuka; Y. Teraoka; T. Yamada; M. Chhowalla; Y. Takakuwa.
    2013 MRS Fall Meeting Exhibit, Dec. 2013, Not invited
  • Self-ccelerating Oxidation on Si(111)7×7 Surfaces Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy and Molecular Orbital Calculations
    J. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    9th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '13, Dec. 2013, Not invited
  • Residual Nitrogen Evaluation on NO Adsorbed Ni(111) and Rh(111) Surfaces using Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy
    S. Ogawa; D. Watanabe; J. Tang; S. Matsumoto; H. Hirata; Y. Takakuwa
    9th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '13, Dec. 2013, Not invited
  • Auger Intensity Anomalies from Si(001)2×1 Surface Excited by Wave-Field of RHEED
    Y. Horio; Y. Takakuwa; S. Ogawa
    9th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '13, Dec. 2013, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるDLC膜合成機構:タウンゼント放電とグロー放電の比較
    林広幸; 楊猛; 鷹林将; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
    2013年真空・表面科学合同講演会, Nov. 2013, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェンの結晶性と電気特性:H2とArキャリアガスの比較
    尾白佳大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2013年真空・表面科学合同講演会, Nov. 2013, Not invited
  • Evaluation of thickness and oxidation state of Graphene/Cu(111)/Al2O3 substrates using photoelectron spectroscopy
    S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    6th International Symposium on Practical Surface Analysis, Nov. 2013, Not invited
  • Tuning of the Dielectric Constant of Diamond-Like Carbon Films Synthesized by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
    H. Hayashi; S. Takabayashi; M. Yang; R. Jesko; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    2013 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES - SCIENCE AND TECHNOLOGY -, Nov. 2013, Not invited
  • Relaxation of Dimer Structure on Si(001)2x1 Surface at High Temperature
    Y. Horio; Y. Takakuwa; S. Ogawa; M. Tashiro
    12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited
  • Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Oxide Formation at Epitaxial Graphene/Cu(111) Interface Exposed to the Atmosphere
    S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited
  • Protrusion Formations on Cu and Si Surfaces by Irradiation of Photoemission- Assisted Ar Plasma
    S. Ajia; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited
  • Temperature Dependence of Strained Si Atoms at SiO2/Si(111) Interface Studied by Real-time X-ray Photoelectron Spectroscopy
    J.Y. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited
  • Formation of a δ-Doped Diamond-Like Carbon Film with a Modulation-doped Gate Dielectric Structure
    S. Takabayashi; H. Hayashi; M. Yang; R. Jesko; R. Shishido; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited
  • Growth Mechanism Analysis and Precise Control of Electrical and Optical Characteristics of Diamond-Like Carbon Films
    S. Takabayashi; H. Hayashi; M. Yang; R. Jesko; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited
  • Thermal Stability of Thick DLC Dielectric Films for Graphene-Channel THz Laser Prepared by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
    R. Jesko; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etoh; Y. Kurita; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited
  • Characterization of Amorphous Selenium p-n Junction Fabricated Using Bidirectional Electrolysis in NaCl aq.
    M. Onishi; I. Saito; K. Komiyama; K. Takeno; W. Miyazaki; T. Ebisudani; T. Masuzawa; A.T. Koh; D.C. Chua; T. Yamada; N. Sano; Y. Mori; S. Ogawa; Y. Takakuwa; K. Okano
    12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited
  • 高温Si(001)2×1表面の多波RHEED法による構造解析
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一; 田代将人
    日本物理学会2013年秋季大会, Sep. 2013, Not invited
  • Nanometer-Scale Modification of Si and Cu Surfaces by Photoemission-Assisted Ar-Plasma: Enhancement of Surface Adatom Diffusion
    S. J. Ajia; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    2013 JSAP-MRS Joint Symposia, Sep. 2013, Not invited
  • RHEED による高温でのSi(001)表面構造解析
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一; 田代将人
    第74回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2013, Not invited
  • 光電子制御プラズマ CVD 法による δ- ドープダイヤモンドライクカーボン薄膜の作製
    鷹林将; 楊 猛; 林広幸; ラデク イェシコ; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
    第74回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2013, Not invited
  • Real-time Photoelectron Spectroscopy and First-principle Calculations Study of Very Thin Oxide Formation on Si(111)7X7 Surfaces
    J. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    2013 JSAP-MRS Joint Symposia, Sep. 2013, Not invited
  • Catalytic graphene growth mechanism on epitaxial Cu(111)/Al2O3(0001) substrate
    S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    The 5th International Conference on Recent Progress in Graphene Research, Sep. 2013, Not invited
  • Career gas effect on the CVD growth kinetics and electric properties of multilayer graphene and networked nanographite: Ar versus H2
    Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    The 5th International Conference on Recent Progress in Graphene Research, Sep. 2013, Not invited
  • Dissociation reaction kinetics of metastable oxygen molecule on partially oxidized Si(111) surfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy
    K. Nishimoto; J. Y. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    19th International Vacuum Congress, Sep. 2013
  • Langmuir-probe analysis of photoemission-assisted Ar plasma for planarization process
    A. Saijian; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    19th International Vacuum Congress, Sep. 2013, Not invited
  • Phase Transition of Oxide Growth on Si(111)7×7 Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy and Theoretical Calculations"
    J. Y. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    19th International Vacuum Congress, Sep. 2013, Not invited
  • High Sensitivity Photodetector Made of Amorphous Selenium and Diamond Cold Cathode
    T. Masuzawa; I. Saito; M. Onishi; T. Ebisudani; A.T.T. Koh; D.H.C. Chua; T. Yamada; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Shimosawa; K. Okano
    The 25th International Conference on Amorphous and Nano-crystalline Semiconductors, Aug. 2013, Not invited
  • Nonlinear O2 pressure dependence of initial oxide growth on Si(111)7×7 and Si(001)2×1 surfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy and First-principles calculations
    Jiayi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
    38th International Conference on Vacuum Ultraviolet and X-ray physics, Jul. 2013, Not invited
  • Annealing-induced changes of the density of states at Fermi level of reduced graphene oxides studied by real-time photoelectron spectroscopy
    D. Watanabe; S. Ogawa; H. Yamaguchi; H. Hozumi; C. Mattivei; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; T. Yamada; M. Chhowalla; Y. Takakuwa
    38th International Conference on Vacuum Ultraviolet and X-ray physics, Jul. 2013
  • Low-temperature synthesis of diamond films by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
    M. Kawata; Y. Ojiro; S. Ogawa; T. Masuzawa; K. Okano; Y. Takakuwa
    The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, Jul. 2013, Not invited
  • Deposition of thick dielectric films of diamond-like carbon for graphene-channel THz laser by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    R. Jesko; M. Yang; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etou; Y. Kurita; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, Jul. 2013, Not invited
  • Surface morphology improvement of Cu substrate by photoemission-assisted Ar+ ion beam and fast Ar0 atom beam
    S. Ajia; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, Jul. 2013, Invited
  • a-Se based wide wave-range photodetector driven by diamond cold cathode
    T. Masuzawa; I. Saito; M. Onishi; T. Yamada; S. Ogawa; Y. Takakuwa; A. T T Koh; D. H C Chua; Y. Mori; T. Shimosawa; K. Okano
    The 26th International Vacuum Nanoelectronics Conference, Jul. 2013, Not invited
  • Vacuum annealing decomposition of graphene on Cu studied by in situ photoelectron spectroscopy
    S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    The 14th International Conference on the Formation of Semiconductor Interface, Jul. 2013, Not invited
  • Temperature dependence of O2 adsorption reaction path on Si(001) and Si(111): photoelectron spectroscopy observation and DV-Xa calculations
    J.Y Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; and Y. Takakuwa
    The 14th International Conference on the Formation of Semiconductor Interface, Jul. 2013, Not invited
  • DC discharge characteristics on hydrogen terminated diamond surface with negative electron affinity
    M. Kawata; Y. Ojiro; S. Ogawa; T. Masuzawa; K. Okano; Y. Takakuwa
    The 14th International Conference on the Formation of Semiconductor Interface, Jul. 2013
  • Development of a Photoemission-Assisted Plasma Ion Source for Atomic-Scale Surface Planarization
    AJIASAIJIAN X.; Ohtomo Y.; Ogawa S.; Takakuwa Y
    Particle - surface interactions: from surface analysis to materials processing, Jun. 2013, Not invited
  • Analysis of Plasma Potential in Photoemission-Assisted Plasma Used for Dry Planarization Process
    Saijian Ajia; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
    第60回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2013, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDプロセスによるダイヤモンド薄膜合成
    川田麻由梨; 尾白佳大; 小川修一; 増澤智昭; 岡野健; 高桑雄二
    第60回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2013, Not invited
  • 高温Si(001)2x1構造のRHEED解析
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
    第60回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2013, Not invited
  • 統合Si酸化反応モデルの実験的検証(6):Si(111)における準安定吸着酸素分子の挙動
    西本究; 唐佳芸; 小川修一; 吉越章越; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第60回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2013, Not invited
  • ヒドラジン処理酸化グラフェンの真空加熱還元過程の光電子分光観察
    渡辺大輝; 小川修一; 山口尚登; 穂積英彬; 江田剛輝; C. Mattevi; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 山田貴壽; M. Chhowalla; 高桑雄二
    平成24年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2013, Not invited
  • Deposition of thick dielectric films of diamond-like carbon by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    R. Jesko; M. Yang; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etou; Y. Kurita; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    平成24年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2013, Not invited
  • Si(111)表面上準安定吸着酸素分子の酸化膜被覆率依存
    西本究; 唐佳芸; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    平成24年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2013, Not invited
  • テラヘルツ通信を志向したダイヤモンドライクカーボンゲート絶縁膜を有するグラフェンFET
    江藤 隆紀; 鷹林 将; 栗田 裕記; 楊 猛; 林 広幸; イェシコ ラディック; 小川 修一; 高桑 雄二; 末光 哲也; 尾辻 泰一
    「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 第18回研究会, Jan. 2013, Not invited
  • Si(111)表面酸化膜形成初期過程における非線形酸素圧力依存:酸化状態の光電子分光観察と分子軌道計算
    唐 佳芸; 西本 究; 小川 修一; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 渡辺 大輝; 寺岡 有殿; 高桑 雄二
    「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 第18回研究会, Jan. 2013, Not invited
  • グラフェン加熱形成過程のリアルタイム光電子分光観察
    小川修一
    物性分光研究会 ~薄膜作成とその物性およびその評価~, Jan. 2013, Invited
  • 光電子制御プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜合成プロセスの開発
    川田麻由梨; 尾白佳大; 小川修一; 増澤智昭; 岡野健; 高桑雄二
    応用物理学会東北支部講演会, Dec. 2012, Not invited
  • Si(111)表面酸化における準安定吸着酸素分子の解離反応キネティクス
    西本究; 唐佳芸; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    応用物理学会東北支部講演会, Dec. 2012, Not invited
  • ドライ研磨用光電子制御プラズマの放電機構の解明
    阿加賽見; 大友悠大; 小川修一; 高桑雄二
    応用物理学会東北支部講演会, Dec. 2012, Not invited
  • ダイヤモンドライクカーボン薄膜の誘電率制御およびリモートキャリア注入機構
    鷹林将; 楊猛; 林広幸; 江藤隆紀; 小川修一; 高桑雄二; 末光哲也; 尾辻泰一
    第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited
  • DLC膜表面での光電子制御プラズマ生成機構の解明
    楊猛; 小川修一; 鷹林将; 尾辻泰一; 高桑雄二
    第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited
  • 酸化グラフェンの還元におけるヒドラジン処理効果
    渡辺大輝; 小川修一; 山口尚登; 穂積英彬; 江田剛輝; C.Mattevi; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 山田貴壽; M.Chhowalla; 高桑雄二
    第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited
  • 高温Si(111)表面酸化における相転移のリアルタイム光電子分光観察
    唐佳芸; 西本究; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited
  • O2供給停止後のSi(111)表面酸化状態の変化:UPSとXPS観察
    西本究; 唐佳芸; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited
  • Si(001)表面に対するRHEED入射電子波動場
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
    第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited
  • SiO2表面での多層グラフェン成長過程の解析:硬X線光電子分光、偏光依存X線吸収分光、赤外吸収分光
    尾白佳大; 犬飼学; 小川修一; 佐藤元伸; 池永英司; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
    第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited
  • プローブ法による光電子制御プラズマの空間電位解析
    阿加賽見; 大友悠大; 小川修一; 高桑雄二
    第53回真空に関する連合講演会, Nov. 2012, Not invited
  • ダイヤモンド表面での光電子制御プラズマの放電特性測定
    川田麻由梨; 尾白佳大; 小川修一; 増澤智昭; 岡野健; 高桑雄二
    第53回真空に関する連合講演会, Nov. 2012, Not invited
  • Si(111)表面酸化状態のO2圧力依存
    唐佳芸; 西本究; 小川修一; 高桑雄二
    第53回真空に関する連合講演会, Nov. 2012, Not invited
  • Dielectric-Tuning of Diamondlike Carbon Gate Dielectrics Prepared by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
    M. Yang; S. Takabayashi; S. Ogawa; H. Hayashi; T. Eto; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    The International Symposium on Graphene Devices, Nov. 2012, Not invited
  • Carrier Remote Doping Effect in Graphene-Channel FET's with Diamondlike Carbon Gate Dielectrics
    S. Takabayashi; M. Yang; T. Eto; H. Hayashi; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Suemitsu; T. Otsuji
    The International Symposium on Graphene Devices, Nov. 2012, Not invited
  • Initial Growth Observation of Networked Nano Graphite on SiO2 (90nm)/Si dependent on Process Gas Concentration
    Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
    2012 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2012, Not invited
  • Si(001)表面に対するRHEED励起オージェ強度とロッキング曲線
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
    日本物理学会2012年秋季大会, Sep. 2012, Not invited
  • Growth kinetics of multilayer graphene on SiO2 studied by Hard X-ray photoelectron spectroscopy and infrared spectroscopy
    Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Inukai; M. Sato; E. Ikenaga; T. Muro; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
    International Conference on Electron Spectroscopy and Structure, Sep. 2012, Not invited
  • Chemical Bonding States and Electronic States of Reduced Graphene Oxides Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy
    D. Watanabe; S. Ogawa; H. Yamaguchi; H. Hozumi; G. Eda; C. Mattevi; A. Yoshigoe; S. Ishizuka; Y. Teraoka; T. Yamada; M. Chhowalla; Y.Takakuwa
    International Conference on Electron Spectroscopy and Structure, Sep. 2012, Not invited
  • Transport and Escape Processes of Photoelectron from SiO2(350 nm)/Si Interfaces with 7.2-eV UV Irradiation
    S. Ogawa; T. Kaga; H. Hozumi; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
    International Conference on Electron Spectroscopy and Structure, Sep. 2012, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVD による多層グラフェン成長(13):初期成長過程のCH4濃度依存
    尾白佳大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
    2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会, Sep. 2012, Not invited
  • Co触媒を用いた多層グラフェン生成過程における化学結合状態分析
    池永英司; 室隆桂之; 高嶋明人; 佐藤元伸; 小川修一; 高桑雄二; 二瓶瑞久; 横山直樹
    2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会, Sep. 2012, Not invited
  • BRAES プロファイルの入射電子エネルギー依存性
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
    2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会, Sep. 2012, Not invited
  • SiO2表面へのナノグラフェン成長過程の硬X線光電子分光と偏光X線吸収分光による解明
    尾白佳大; 犬飼学; 小川修一; 佐藤元伸; 池永英司; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
    九州シンクロトロン光研究センター・東北大学多元物質科学研究所 合同シンポジウム『多元的物質とシンクロトロン放射光が紡ぎ出すイノベーション』, Jul. 2012, Not invited
  • 酸化グラフェン還元過程における化学結合状態のリアルタイム光電子分光解析
    渡辺大輝; 小川修一; 山口尚登; 穂積英彬; 江田剛輝; 石塚眞治; 吉越章隆; C. Mattevi; 寺岡有殿; 山田貴壽; M. Chhowalla; 高桑雄二
    九州シンクロトロン光研究センター・東北大学多元物質科学研究所 合同シンポジウム『多元的物質とシンクロトロン放射光が紡ぎ出すイノベーション』, Jul. 2012, Not invited
  • ダイヤモンドC(001)単結晶表面構造制御によるグラフェン形成過程の光電子分光による「その場」観察
    小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 吉越章隆; 長谷川雅孝; 寺岡有殿; 高桑雄二
    九州シンクロトロン光研究センター・東北大学多元物質科学研究所 合同シンポジウム『多元的物質とシンクロトロン放射光が紡ぎ出すイノベーション』, Jul. 2012, Not invited
  • ダイヤモンドライクカーボン絶縁膜を用いたグラフェンFET
    鷹林将; 楊猛; 小川修一; 林広幸; 栗田裕記; 高桑雄二; 末光哲也; 尾辻泰一
    電子情報通信学会電子デバイス研究会, Jul. 2012, Not invited
  • Development of the Photoemission-assisted Plasma Enhanced CVD Process for Diamond-like Carbon Insulator Films of Graphene FET Gate Stack
    M. Yang; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    2012 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2012, Not invited
  • Dielectric-tuned Diamondlike Carbon Materials for a High-performance Self-aligned Graphene-channel Field Effect Transistor
    S. Takabayashi; M. Yang; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Suemitsu; T. Otsuji
    2012 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2012, Not invited
  • Vacuum Annealing Formation of Graphene on Diamond C(111) Surfaces Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
    S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishizduka; A. Yoshigoe; D. Watanabe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    2012 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2012, Not invited
  • Oriented Multi-layer Graphene Grown Directly on SiO2 Dielectric Film by Annealing Sputtered Amorphous Carbon with a Co Catalyst
    M. Sato; M. Takahashi; T. Murakami; H. Nakano; A. Kawabata; T. Muro; Y. Takakuwa; M. Nihei; N. Yokoyama
    2012 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2012, Not invited
  • ダイヤモンドライクカーボン薄膜をトップゲート絶縁膜としたグラフェンFET
    鷹林 将; 楊 猛; 小川修一; 高桑雄二; 末光眞希; 末光哲也; 尾辻泰一
    2012年電子情報通信学会総合大会, Mar. 2012, Not invited
  • Si(001)2x1表面に対するRHEED励起オージェ電子分光
    堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
    2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, Mar. 2012, Not invited
  • ダイヤモンドライクカーボントップゲート絶縁膜によるグラフェンチャネルFETのチャネルドーピング制御
    鷹林将; 楊猛; 小川修一; 高桑雄二; 末光眞希; 末光哲也; 尾辻泰一
    2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, Mar. 2012, Not invited
  • 統合Si酸化反応モデルの実験的検証( 5 ):酸化初期の欠陥発生
    西本 究; 唐 佳芸; 小川 修一; 高桑 雄二
    2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, Mar. 2012, Not invited
  • 酸化グラフェン還元過程のリアルタイムXPS観察:ヒドラジン処理効果
    渡辺 大輝; 小川 修一; 山口 尚登; 穂積 英彬; 江田 剛輝; C.Mattevi; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 寺岡 有殿; 山田 貴壽; M.Chhowalla; 高桑 雄二
    2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, Mar. 2012, Not invited
  • Spectroscopic Analysis of Multilayer Graphene Films at SPring-8 for Realizing Nanocarbon Interconnects of Future Low Power LSI
    T.Muro; M.Inukai; E.Ikenaga; S.Ogawa; Y.Ojiro; Y.Takakuwa; M.Sato; M.Nihei; N.Yokoyama
    International Symposium on Development of Core Technologies for Green Nanoelectronics, Mar. 2012, Not invited
  • Initial Growth Mechanism of Multilayer Graphene on SiO2/Si Substrates using Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
    S.Ogawa; Y.Ojiro; M.Inukai; M.Sato; E.Ikenaga; T.Muro; M.Nihei; Y.Takakuwa; N.Yokoyama
    International Symposium on Development of Core Technologies for Green Nanoelectronics, Mar. 2012, Not invited
  • Si表面初期酸化における欠陥発生過程:Si基板面方位依存
    西本究; 唐佳芸; 小川修一; 高桑雄二
    平成23年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2012, Not invited
  • ヒドラジン処理酸化グラフェンの真空加熱過程の光電子分光観察
    渡辺 大輝; 小川 修一; 山口 尚登; 穂積 英彬; 江田 剛輝; C.Mattevi; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 寺岡 有殿; 山田 貴壽; M.Chhowalla; 高桑 雄二
    平成23年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2012, Not invited
  • ラマン分光法およびXPSによるSiO2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究
    尾白 佳大; 小川 修一; 犬飼 学; 佐藤 元伸; 池永 栄司; 室 隆桂之; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二; 横山 直樹
    配線技術研究集会, Mar. 2012, Invited
  • トップゲート型グラフェン・チャネルFETのゲートスタック用炭素系絶縁膜の合成プロセスの開発
    楊 猛; 小川 修一; 鷹林 将; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
    ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―(第17回), Jan. 2012
  • 初期SiO2膜形成における準安定吸着酸素の役割の解明:Si(111)7×7とSi(001)2×1の比較
    唐佳芸; 西本究; 小川修一; 高桑雄二
    ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―(第17回), Jan. 2012, Not invited
  • ダイヤモンドライクカーボン薄膜をトップゲート絶縁膜としたグラフェンFET
    鷹林 将; 楊 猛; 小川 修一; 高桑 雄二; 末光 哲也; 尾辻 泰一
    ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―(第17回), Jan. 2012, Not invited
  • ダイヤモンドライクカーボンの光電子制御プラズマCVD 成長:CH4/Ar 濃度依存
    楊 猛; 小川 修一; 鷹林 将; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
    第31回表面科学学術講演会, Dec. 2011, Not invited
  • リアルタイム光電子分光によるグラフェン・オン・ダイヤモンド形成過程の観察
    小川 修一; 山田 貴壽; 石塚 眞治; 吉越 章隆; 長谷川 雅孝; 寺岡 有殿; 高桑 雄二
    第31回表面科学学術講演会, Dec. 2011, Not invited
  • Si(111)表面室温酸化の光電子分光観察:仕事関数と酸化膜被覆率
    西本 究; 唐 佳芸; 小川 修一; 高桑 雄二
    第31回表面科学学術講演会, Dec. 2011, Not invited
  • Strong-temperature dependence of initial oxide growth on Si (111)7×7 surface
    J. Y. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    6th International Symposium on Surface Science, Dec. 2011, Not invited
  • 真空加熱処理によるグラフェン・オン・ダイヤモンド構造形成の光電子分光観察
    小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 吉越章隆; 渡辺大輝; 長谷川雅考; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第11回多元物質科学研究所研究発表会, Dec. 2011, Not invited
  • Si(111)7X7表面酸化における準安定吸着酸素の役割の解明
    唐 佳芸; 西本 究; 小川修一; 高桑雄二
    第11回多元物質科学研究所研究発表会, Dec. 2011, Not invited
  • トップゲート・グラフェンFETのダイヤモンドライクカーボン絶縁膜形成プロセスの開発
    楊猛; 小川修一; 鷹林将; 尾辻泰一; 高桑雄二
    応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2011, Not invited
  • 光電子制御イオン源によるCu蒸着膜の表面処理
    大友 悠大; 阿加 賽見; 小川 修一; 高桑 雄二
    第52回真空に関する連合講演会, Nov. 2011, Not invited
  • DLC膜成長の光電子制御プラズマ放電条件依存
    楊 猛; 小川 修一; 鷹林 将; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
    第52回真空に関する連合講演会, Nov. 2011, Not invited
  • Formation of Graphene on Diamond C(111) Surfaces by Vacuum Annealing
    S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; T. Kaga; H. Hozumi; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    2011 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2011, Not invited
  • Initial Growth Observation of Multilayer Graphene on SiO2/Si substrates Using Raman Spectroscopy and XPS
    Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Inukai; M. Sato; E. Ikenaga; T. Muro; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
    2011 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2011, Not invited
  • Fabrication of Graphene Directly on SiO2 without Transfer Processesby Annealing Sputtered Amorphous Carbon
    M. Sato; M. Inukai; E.Ikenaga; T. Muro; S. Ogawa; Y. Takakuwa; H. Nakano; A. Kawabata; M. Nihei; N. Yokoyama
    2011 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2011, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(12):膜質の成長時間依存
    尾白佳大; 小川修一; 犬飼学; 池永英司; 佐藤元伸; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
    2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, Sep. 2011, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるDLC合成
    楊 猛; 小川 修一; 鷹林 将; 末光 哲也; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
    2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, Aug. 2011, Not invited
  • 高輝度放射光によるLSI配線用カーボン薄膜の化学状態・配向性分析
    犬飼 学; 池永英司; 室隆桂之; 小川修一; 尾白佳大; 高桑雄二; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 横山直樹
    2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, Aug. 2011, Not invited
  • 真空中熱処理によるダイヤモンド(111)表面の化学結合状態変化の温度依存
    小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 吉越章隆; 加賀利瑛; 穂積英彬; 長谷川雅考; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, Aug. 2011, Not invited
  • Synthesis of DLC Films on Si substrates using Photoemission-assisted plasmaenhanced CVD
    M. Yang; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Suemitsu; T. Otsuji; Y. Takakuwa
    第24回プラズマ材料科学シンポジウム, Jul. 2011, Not invited
  • Surface Morphology of Al, Si, and Cu Substrates Flattened by a 2”-size Photoemission-assisted Ion Beam Source
    Yudai Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
    8th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '11, May 2011, Not invited
  • Raman Spectroscopy, Hard X-ray Photoemission Spectroscopy, and Infrared Spectroscopy Studies of Networked Nanographite Grown by Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD
    Shuichi Ogawa; Y. Ojiro; M. Inukai; T. Kaga; M. Sato; E. Ikenaga; T. Muro; M. Nihei; Y. Takakuwa
    8th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '11, May 2011, Not invited
  • Origin of the Electronic States at Fermi Level induced by Thermal Reduction of Chemically Derived Graphene Oxide
    H. Yamaguchi; H. Hozumi; T. Kaga; G. Eda; C. Mattevi; S . Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishizuka; T. Yamada; Y. Teraoka; Y. Takakuwa; M. Chhowalla
    International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2011, May 2011, Not invited
  • Complimentary Logic Inverter on Epitaxial Graphene/6H-SiC Field Efect Transistor with Diamond-Like Carbon Film as Gate Dielectrics at Room Temperature
    A. E. Moutaouakil; S. Takabayashi; S. Ogawa; Y. Takakuwa; H.-C. Kang; R. Takahashi; H. Fukidome; M. Suemitsu; E. Sano; T. Suemitsu; T. Otsuji
    Graphene: The Road to Applications, May 2011, Not invited
  • Mechanism of Resistivity Decrease in Networked-Nanographite Wires for Multi-layer Graphene Interconnects
    M. Sato; S. Ogawa; M. Inukai; E. Ikenaga; T. Muro; Y. Takakuwa; M. Nihei; N. Yokoyama
    The 2011 IEEE International Interconnect Technology Conference, May 2011, Not invited
  • ダイヤモンドライクカーボンをゲート絶縁膜としたグラフェンFET
    鷹林 将; 小川修一; 高桑雄二; Hyun-Chul Kang; 高橋良太; 吹留博一; 末光眞希; 末光哲也; 尾辻泰一
    第58回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2011, Not invited
  • ネットワークナノグラファイト配線の低抵抗化メカニズム
    佐藤元伸; 小川修一; 犬飼 学; 池永英司; 室隆桂之; 高桑雄二; 二瓶瑞久; 横山直樹
    第58回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2011, Not invited
  • 光電子制御プラズマによる基板表面処理の開発: Al. Si表面へのプラズマ照射効果
    大友悠大; 小川修一; 高桑雄二
    第58回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2011, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDで成長したグラファイト結晶性の温度依存
    尾白佳大; 小川修一; 加賀利瑛; 犬飼 学; 室隆桂之; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    日本表面科学会北海道・東北支部学術講演会, Mar. 2011, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線
    佐藤元伸; 小川修一; 池永英司; 高桑雄二; 二瓶瑞久; 横山直樹
    配線技術研究集会, Feb. 2011, Invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト成長:結晶性の放電条件依存
    小川修一; 佐藤元伸; 角治樹; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    配線技術研究集会, Feb. 2011, Invited
  • Si1-xGex合金層における酸化誘起Ge濃縮過程:リアルタイム光電子分光による解明
    小川修一; 穂積英彬; 吉岡章隆; 石塚眞治; 加賀利瑛; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第16回「ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理」, Jan. 2011, Not invited
  • Oxidation-induced Diffusion of C and Ge on Si1-xGex and Si1-xCx Alloy Layers Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
    H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; T. Kaga; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    2011 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electronic Devices -Science and Technology -, Jan. 2011, Not invited
  • 酸化グラフェン還元過程のリアルタイムXPS観察
    小川修一; 山口尚人; 穂積英彬; 加賀利瑛; 江田剛輝; C. Mattevi; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 山田貴壽; 高桑雄二; M. Chhowalla
    第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2011, Not invited
  • DLC をゲート絶縁膜としたグラフェンFET
    鷹林将; 小川修一; 高桑雄二; 阿部峻佑; 高橋良太; 吹留博一; 末光眞希; 末光哲也; 尾辻 泰一
    第37回炭素材料学会年会, Dec. 2010, Not invited
  • Electronic states near Fermi level of chemically derived graphene oxide induced by thermal reduction
    H. Yamaguchi; H. Hozumi; T. Kaga; G. Eda; C. Mattevi; S. Ogawa; T. Yamada; Y. Takakuwa; M. Chhowalla
    2010 Materials Research Society Fall Meeting, Nov. 2010, Not invited
  • 光電子分光法によるSiO2(350 nm)/Si 基板からの電子放出過程の解明
    加賀利瑛; 穂積英彬; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第65回応用物理学会東北支部学術講演会, Nov. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマによる金属表面の平坦化処理プロセスの開発
    大友悠大; 小川修一; 高桑雄二
    真空・表面科学合同講演会, Nov. 2010, Not invited
  • 酸化グラフェンの高温加熱処理過程のリアルタイム放射光光電子分光観察
    穂積英彬; 山口尚登; 加賀利瑛; 江田剛輝; セシリア マッテヴィ; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 山田貴壽; 高桑雄二; マニッシュ チョワ
    真空・表面科学合同講演会, Nov. 2010, Not invited
  • Si混晶表面の酸化過程のリアルタイムXPS観察:CとGe混入効果の比較
    穂積英彬; 加賀利瑛; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    真空・表面科学合同講演会, Nov. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるSiO2 (350 nm)/Si基板へのナノグラファイト直接成長:膜質の温度依存
    小川修一; 尾白佳大; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 髙桑雄二
    真空・表面科学合同講演会, Nov. 2010, Not invited
  • Multilayer graphene growth using photoemission-assisted plasma-enhanced CVD without any metal catalysts
    S. Ogawa; M. Sato; Y. Ojiro; H. Sumi; M. Nihei; Y. Takakuwa
    International Symposium on Graphene Devices, Oct. 2010, Not invited
  • Oxidation kinetics of SiGe alloy layer studied by real-time XPS
    H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J.R. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    The 5th International Symposium on Practical Surface Analysis/7th Korea-Japan Symposium on Surface Analysis, Oct. 2010, Not invited
  • Plasma Discharge Condition Dependence of the Crystallographic Quality of Networked Nanographite Grown by the Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
    S. Ogawa; T. Kaga; Y. Ohtomo; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    2010 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2010, Not invited
  • Effect of Annealing on Electrical Properties of Networked-Nanographite Wire Grown by Metal-Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD
    M. Sato; S. Ogawa\,T. Kaga; E. Ikenaga; Y. Takakuwa; M. Nihei; N. Yokoyama
    2010 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2010, Not invited
  • Temperature Dependence of Exclusive SiO2Formation during Thermal Oxidation of SiO1-X GeX Alloy Layer on Si(001) Surfaces
    H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J. R. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    2010 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2010, Not invited
  • 光電子分光による酸化グラフェンの熱処理還元過程その場観察
    山口 尚登; 穂積 英彬; 加賀 利瑛; 江田 剛輝; セシリア マッテヴィ; 小川 修一; 山田 貴壽; 高桑 雄二; マニッシュ チョワラ
    2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(11) : SiO2(350 nm) / Si界面からの光電子放出
    加賀 利瑛; 穂積 英彬; 小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
    2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(10):SiO2/Si基板への直接成長
    小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
    2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited
  • SiGe/Si表面の酸化反応機構(1):GeO2形成の温度依存
    穂積 英彬; 小川 修一; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 寺岡 有殿; 高桑 雄二
    2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線
    佐藤元伸; 小川修一; 加賀利瑛; 池永英司; 高桑雄二; 二瓶瑞久; 横山直樹
    2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線の特性
    佐藤 元伸; 小川 修一; 加賀 利瑛; 池永 英司; 高桑 雄二; 二瓶 瑞久; 横山 直樹
    第15回電子デバイスにおける原子輸送・応力問題研究会, Jul. 2010, Invited
  • Networked-Nanographite Wire Grown on SiO2 Dielectric without Catalysts using Metal- Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD
    M. Sato; S. Ogawa; T. Kaga; H. Sumi; E. Ikenaga; Y. Takakuwa; M. Nihei; N. Yokoyama
    2010 IEEE International Interconnect Technology Conference, Jun. 2010, Not invited
  • Thickness Dependence of Crystallinity of Networked Nanographite Grown by Photoemission-assisted Plasma Enhanced CVD on Si and SiO2/Si Substrates
    S. Ogawa; H. Sumi; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    The 37th International Symposium on Compound Semiconductors, Jun. 2010, Not invited
  • CVD Growth of Networked Nanographite on SiO2/Si Substrates:Dependence on Photoemission-assisted Plasma Discharge Conditions
    T. Kaga; S. Ogawa; Y. Ohtomo; H. Sumi; M. Sato; M. Nihei; Y.Takakuwa
    The 37th International Symposium on Compound Semiconductors, Jun. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(7):SiO2/SiとSi基板での光電子制御プラズマ生成機構の比較
    加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(5):Ar希釈CH4濃度依存
    角治樹; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(6):結晶性の基板バイアス電圧依存
    小川修一; 角治樹; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited
  • SiO2/Si界面酸化における格子歪みの役割(3) : 酸化誘起炭素濃縮による3C-SiC成長
    穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; J.R. Harris; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(9):H2プラズマ放電特性と発光分光観察
    大友悠大; 加賀利瑛; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(8):Arプラズマ放電特性と発光分光観察
    加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマ発生におけるSi表面のSiO2膜の役割
    加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    平成21年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2010, Not invited
  • 酸素によるSi(001)表面エッチングにおける炭素濃縮
    穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; J.R. Harris; 寺岡有殿; 高桑雄二
    平成21年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2010, Not invited
  • Ar-diluted CH4 concentration dependence of the crystallinity of multilayer graphene grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
    H. Sumi; S. Ogawa; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, Mar. 2010, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによるSiO2(350 nm)/Si基板への多層グラフェン成長
    加賀 利瑛; 大友 悠大; 小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
    第27回プラズマプロセッシング研究会, Feb. 2010, Not invited
  • 3インチTaN/SiO2(350 nm)/Si基板での光電子制御プラズマCVDプロセス
    小川 修一; 加賀 利瑛; 穂積 英彬; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
    第27回プラズマプロセッシング研究会, Feb. 2010, Not invited
  • Carbon condensation and 3C-SiC growth caused by oxidizing Si1-xCx alloy layers on Si(001) substrate
    H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J.R. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    5th Int. Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics, Jan. 2010, Not invited
  • Si1-xCx合金層/Si(001)表面における酸化誘起炭素拡散:酸化膜成長とエッチング条件での比較
    穂積英彬; 小川修一; 吉岡章隆; 石塚眞治; James Harries; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第15回「ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理ー」, Jan. 2010, Not invited
  • Characterization of Crystal Structure and Chemical Bonding Configuration of Multi-layer Graphene Grown on SiO2 Substrate
    S. Ogawa; H. Sumi; A. Saikubo; E. Ikenaga; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’09, Dec. 2009, Not invited
  • Real-time Photoelectron Spectroscopy Study of 3C-SiC Nucleation and Growth on Si(001) Surface by Carbonization with Ethylene
    H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’09, Dec. 2009, Not invited
  • 多層グラフェンCVD成長のAr希釈CH4濃度依存
    角治樹; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第64回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2009, Not invited
  • SiO2(350 nm)/Si基板での光電子制御プラズマ生成機構
    加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第64回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2009, Not invited
  • Electrical Properties of CVD-grown Multi-layer Graphene for Carbon-based Interconnects
    M. Nihei; M. Sato; D. Kondo; S. Sato; S. Ogawa; E. Ikenaga; Y. Takakuwa
    22nd International Miroprocesses and Nanotechnology Conference, Nov. 2009, Invited
  • 光電子制御プラズマCVD によるSiO2基板への多層グラフェン成長
    小川修一; 角治樹; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第50回真空に関する連合講演会, Nov. 2009, Not invited
  • 光電子制御プラズマ放電特性のArガス圧力依存
    加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第50回真空に関する連合講演会, Nov. 2009, Not invited
  • H2とN2ガスにおける光電子制御プラズマの放電特性
    大友悠大; 加賀利瑛; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第50回真空に関する連合講演会, Nov. 2009, Not invited
  • Si(001)表面炭化反応における3C-SiC核発生の時間遅れ:表面近傍の臨界炭素濃度
    穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; James Harries; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第29回表面科学学術講演会, Oct. 2009, Not invited
  • Strained Si atoms at SiO2/Si interface during oxidation of Si1-xCx alloy layer on Si(001) surfaces
    H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    International Workshop on Electronic Spectroscopy for Gas-phase Molecules and Solid Surfaces, Oct. 2009, Not invited
  • Generation Mechanism of Photoemission-assisted Plasma on SiO2(350 nm)/Si Substrate
    T. Kaga; S. Ogawa; H. Hozumi; H. Sumi; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    2009 International Conference on Solid State Devices and Materials, Oct. 2009, Not invited
  • Effect of Carrier Gas (Ar and He) on the Crystallographic Quality of Multi-layer Graphene Grown on Si by Photoemission-assisted Plasma CVD
    H. Sumi; S. Ogawa; A. Saikubo; E. Ikenaga; M. Nihei; Y. Takakuwa
    2009 International Conference on Solid State Devices and Materials, Oct. 2009, Not invited
  • Active Oxidation Kinetics on Si1-xCx Alloy Layer Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
    H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    2009 International Conference on Solid State Devices and Materials, Oct. 2009, Not invited
  • Raman Spectroscopy, TEM and Bulk-sensitive XPS Study of Multi-layer Graphene Grown on SiO2(350 nm)/Si
    S. Ogawa; H; Sumi; A. Saikubo; E. Ikenaga; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
    2009 International Conference on Solid State Devices and Materials, Oct. 2009, Not invited
  • 硬X線光電子分光によるSiO2基板上の多層グラフェンの電子状態評価
    西窪明彦; 池永英司; 小川修一; 角治樹; 高桑雄二; 佐藤元伸; 二瓶瑞久
    2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(4) : SiO2(350nm)/Si 基板
    小川修一; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(3):SiO2/Si基板からの電子放出
    加賀利瑛; 小川修一; 穂積英彬; 角治樹; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVD により成長した多層グラフェンの抵抗率
    佐藤元伸; 小川修一; 加賀利瑛; 角治樹; 池永英司; 高桑雄二; 二瓶瑞久
    2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited
  • SiO2/Si界面酸化における格子歪みの役割(2):2次元島成長における炭素拡散
    穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; H. James; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited
  • Multi-layer Graphene Grown by Low Temperature CVD for Advanced Carbon-based Interconnects
    M. Nihei; M. Sato; D. Kondo; S. Sato; S. Ogawa; Y.Takakuwa; E. Ikenaga; Y. Awano
    2009 Material Research Society Spring meeting, Apr. 2009, Invited
  • SiO2/Si界面酸化における格子歪みの役割(1):炭素原子の挙動
    穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2009年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Apr. 2009, Not invited
  • 光電子制御プラズマによるLSI配線用多層グラフェン合成プロセスの開発
    小川修一; 角治樹; 高見知秀; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2009年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Apr. 2009, Invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(I): キャリアガス(Ar, He)の効果
    角治樹; 小川修一; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2009年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2009, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(II):TaN表面でのI-V 特性
    加賀利瑛; 小川修一; 角治樹; 穂積英彬; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2009年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2009, Not invited
  • 光電子制御プラズマのI-V特性
    加賀利瑛; 小川修一; 角治樹; 穂積英彬; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    表面科学会東北支部講演会, Mar. 2009, Not invited
  • Thermal oxidation kinetics on Si(001) surface studies by RHEED combined with AES
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    International Workshop on "Diffraction studies for in situ epitaxial systems and surface structures", Feb. 2009, Invited
  • LSI配線用多層グラフェン成長のための光電子制御プラズマCVDの開発
    小川修一; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    プラズマ科学シンポジウム2009, Feb. 2009, Not invited
  • SiO2/Si(001)界面の炭素原子によるSi酸化反応機構への影響
    穂積英彬; 小川修一; 吉岡章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第14回「ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理ー」, Jan. 2009, Not invited
  • 硬X線XPSによる多層グラフェン成長温度依存の解明
    小川修一; 角治樹; 高見知秀; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第22回放射光科学会年会放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2009, Not invited
  • CVD多層グラフェン膜の成長温度依存の解析
    角治樹; 小川修一; 高見知秀; 窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第63回東北支部学術講演会, Dec. 2008, Not invited
  • Si(100)-(2x1)表面初期酸化過程のSTM観察
    渡邉清人; 池田正則; 清水博文; 小川修一; 高桑雄二
    第63回東北支部学術講演会, Dec. 2008, Not invited
  • CVD成長多層グラフェン膜のラマン分光とバルク敏感XPSによる評価
    角治樹; 小川修一; 高見知秀; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    第28回表面科学学術講演会, Nov. 2008, Not invited
  • ラングミュア型吸着温度領域におけるSi(100)-(2×1)表面初期酸化過程のSTM観察
    渡邉清人; 池田正則; 清水博文; 小川修一; 高桑雄二
    第28回表面科学学術講演会, Nov. 2008, Not invited
  • Si1-xCx合金層/Si(001)酸化反応過程のリアルタイムXPS観察
    穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑 雄二
    第28回表面科学学術講演会, Nov. 2008, Not invited
  • Multi-Layer Graphene Grown by Photoemission-Controlled Plasma CVD
    S. Ogawa; T. Takami; H. Sumi; A. Saikubo; E. Ikenaga; M. Nihei; Y. Takakuwa
    5th International Symposium on Surface Science and Nanotechnology, Nov. 2008, Not invited
  • Si(001)表面炭化/酸化反応過程のリアルタイムXPS測定
    穂積英彬; 小川修一; 吉岡章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2008年度 実用表面分析講演会, Oct. 2008, Not invited
  • 多層グラフェンのバルク敏感XPSによる解析
    小川修一; 高見知秀; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2008年度 実用表面分析講演会, Oct. 2008, Not invited
  • 統合Si酸化反応モデルの実験的検証(4):表面酸化反応様式への依存
    小川修一; 穂積英彬; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2008年(平成20年)秋季第69回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited
  • 硬X線光電子分光による多層グラフェンの電子状態評価
    西窪明彦; 池永英司; 小川修一; 高見知秀; 角治樹; 高桑雄二; 二瓶瑞久
    2008年(平成20年)秋季第69回応用物理学会学術講演会, Sep. 2008, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン形成
    小川修一; 高見知秀; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    2008年(平成20年)秋季第69回応用物理学会学術講演会, Sep. 2008, Not invited
  • エチレンによるSi(001)表面炭化反応過程のリアルタイムXPS観察
    高桑雄二; 小川修一; 穂積英彬; 川村知史; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿
    2008年(平成20年)秋季第69回応用物理学会学術講演会, Sep. 2008, Not invited
  • 硬X線光電子分光による多層グラフェンの電子状態評価
    西窪明彦; 池永英司; 小川修一; 高見知秀; 角治樹; 高桑雄二; 二瓶瑞久
    平成20年度飯綱・サイエンスサマー道場, Aug. 2008, Not invited
  • 光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェンの触媒なし成長
    小川修一; 高見知秀; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
    平成20年度飯綱・サイエンスサマー道場, Aug. 2008, Not invited
  • 統合Si酸化反応モデルの実験的検証(3):界面酸化の活性化エネルギー
    小川修一; 高桑雄二
    第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2008, Not invited
  • ラングミュア型吸着温度領域におけるO2曝露したSi(100)-(2x1)表面の走査型トンネル顕微鏡観察
    渡邉清人; 池田正則; 清水博文; 小川修一; 高桑雄二
    第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2008, Not invited
  • 極薄Si酸化膜形成過程における酸化誘起歪みと欠陥発生の光電子分光観察
    小川修一
    第3回JAEA放射光科学研究シンポジウム, Feb. 2008, Invited
  • SiO2/Si(001)界面における酸化誘起点欠陥と酸素分子の反応過程
    小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―(第13回研究会), Jan. 2008, Not invited
  • リアルタイム光電子分光観察を用いた表面研究
    小川修一
    第48回真空に関する連合講演会, Nov. 2007, Invited
  • Temperature Dependence of the Oxidation-Induced Strain at SiO2/Si(001) Interface Studied by XPS Using Synchrotron Radiation
    S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    9th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2007, Not invited
  • Real-Time Observation of the Oxidation Reaction Kinetics of a Si1-xCx Alloy Layer Grown on Si(001) with C2H4 by UPS and RHEED Combined with AES
    Y. Takakuwa; S. Ogawa; T. Kawamura
    6th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '07, Oct. 2007, Not invited
  • Influence of Rapid O2 Pressure Increase on the Oxide Growth Kinetics at SiO2/Si(001) Interface Studied by Real-Time X-ray Photoelectron Spectroscopy
    S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    6th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '07, Oct. 2007, Not invited
  • 統合Si酸化反応モデルの実験的検証(2):界面酸化のO2圧力依存
    小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会, Sep. 2007, Not invited
  • Rate-Limiting Reactions of the Growth and Decomposition Kinetics of Very Thin Oxide on Si(001) Surfaces Studied by Reflection High Energy Electron Diffraction Combined with Auger Electron Spectroscopy
    小川修一
    2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会, Sep. 2007, Invited
  • Si1-xCx合金層/p-Si(001)表面の酸化過程:室温での吸着酸素の挙動
    高桑雄二; 小川修一
    2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会, Sep. 2007, Not invited
  • Real-time monitoring of stained Si atoms at SiO2/Si(001) interface during layer-by-layer oxide growth by Si 2p photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation
    Y. Takakuwa; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka
    The 15th International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics, Jul. 2007, Not invited
  • Real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy study on the oxidation reaction kinetics of an Si1-xCx ally layer (x ~0.1) grown on p-type Si(001) surface with ethylene
    Y. Takakuwa; S. Ogawa
    17th International Vacuum Congress, Jul. 2007, Not invited
  • Real-time photoelectron spectroscopy study on the oxidation-induced strained Si atom at SiO2/Si(001) interface: dependence on oxidation temperature
    S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    17th International Vacuum Congress, Jul. 2007, Not invited
  • Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(X):歪みSi層と第2層酸化速度の相関
    小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    2007年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2007, Not invited
  • リアルタイム表面計測を用いた統合Si酸化反応モデルの実験的検証
    小川修一; 高桑雄二
    2007年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2007, Invited
  • Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(XI):p及びn型伝導度への依存
    小川修一; 高桑雄二
    2007年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2007, Not invited
  • Si(001)表面酸化過程の高輝度放射光を用いた光電子分光観察
    小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    平成18年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2007, Not invited
  • Si酸化表面における欠陥発生過程のリアルタイム光電子分光観察
    小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第20回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2007, Not invited
  • Layer-by-Layer Oxidation on Si(001) Surface Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy Using Synchrotron Radiation
    S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    2006 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY, Nov. 2006, Not invited
  • Unified Si oxidation reaction model mediated by the point defect generation at SiO2/Si interfaces
    Y. Takakuwa; S. Ogawa
    2006 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY, Nov. 2006, Invited
  • Rate-Limiting Reaction of Layer-by-Layer Oxidation on Si(001) Surfaces: Dependence on the First Oxide Layer Growth Kinetics
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    2006 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2006, Not invited
  • Simultaneous observation of oxygen uptake curves and electronic states during room-temperature oxidation on Si(001) surfaces by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    24th European Conference on Surface Science, Sep. 2006, Not invited
  • Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(IX):室温酸化
    小川修一; 高桑雄二
    第67回応用物理学会学術講演会, Sep. 2006, Not invited
  • Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(VIII):第2層酸化速度の温度依存
    小川修一; 高桑雄二
    第67回応用物理学会学術講演会, Aug. 2006, Not invited
  • Growth and decomposition kinetics of very thin oxide on Si(001) surfaces studied by RHEED combined with AES
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    JSPS-KOSEF Asian Core Program1st Japan-Korea Symposium on Surface Nanostructures, Jun. 2006, Invited
  • Si(001)表面初期酸化過程におけるSi原子放出過程(VII):酸化誘起界面欠陥発生
    小川修一; 高桑雄二
    第53回応用物理関連連合講演会, Mar. 2006, Not invited
  • リアルタイム紫外光電子分光によるTi(0001)1×1表面酸化の「その場」観察
    高桑雄二; 大平雅之; 小川修一
    第53回応用物理関連連合講演会, Mar. 2006, Not invited
  • 超音速窒素分子ビームによるTi表面窒化反応ダイナミクス
    小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之
    第53回応用物理関連連合講演会, Mar. 2006, Not invited
  • エチレンにより炭化したSi(001)c(4×4)-C表面の酸化過程のRHEED-AES観察
    川村知史; 小川修一; 高桑雄二
    第53回応用物理関連連合講演会, Mar. 2006, Not invited
  • 酸化膜形成と欠陥発生の同時観察によるSi(001)表面酸化の統合的解明
    小川修一; 高桑雄二
    「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」第11回研究会, Feb. 2006, Not invited
  • Ti(0001)表面窒化反応過程の温度依存のリアルタイム光電子分光観察
    小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之
    第19回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2006, Not invited
  • Si(001)表面における酸化誘起仕事関数変化の温度依存
    小川修一; 高桑雄二
    第60回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2005, Not invited
  • Si(001)表面酸化過程のリアルタイム光電子分光観察:仕事関数と界面電子状態
    小川修一; 高桑雄二
    第46回真空に関する連合講演会, Nov. 2005, Not invited
  • 超音速窒素分子ビームを用いたTi(0001)表面の窒素吸着反応モデルの解明
    小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之
    第46回真空に関する連合講演会, Nov. 2005, Not invited
  • Growth and subsequent decomposition kinetics of very thin oxide on Si(001) surface studied by real-time RHEED combined with AES
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    52nd International symposium of American Vacuum Society, Nov. 2005, Not invited
  • Initial growth kinetics of oxide on Si(111) surface studied by real-time Auger electron spectroscopy
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    23rd European Conference on Surface Science, Sep. 2005, Not invited
  • Consumption Kinetics of Si Atoms during Growth and Decomposition of Very Thin Oxide on Si(001) Surfaces
    S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
    4th International conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures, May 2005, Not invited
  • Real-time monitoring of chemical composition, surface structure and morphology, surface electronic state and work function during thermal oxidation on Si(001) surfaces
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    2005 MRS Spring meeting, Mar. 2005, Invited
  • 超音速窒素分子ビームを用いたTi表面窒化反応ダイナミクスのリアルタイム光電子分光観察
    小川修一; 大平雅之; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之
    日本表面科学会東北支部講演会, Mar. 2005, Not invited
  • リアルタイムRHEED-AESによるSi(001)表面層状酸化の律速反応の解明
    小川修一; 高桑雄二
    「ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理-」第10回研究会, Jan. 2005, Not invited
  • 超音速酸素分子ビームを用いたTi(0001)表面酸化ダイナミクスのリアルタイム光電子分光観察
    小川修一; 大平雅之; 高桑雄二; 石塚眞治; 盛谷浩右; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之; 頓田英機; 本間禎一
    第18回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2005, Not invited
  • 超音速酸素分子ビームによるTi表面酸化反応ダイナミクス
    大平雅之; 小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 盛谷浩右; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之; 頓田英機; 本間禎一
    第59回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2004, Not invited
  • Si(001)表面酸化過程における仕事関数の「その場」観察
    小川修一; 八木貴之; 大平雅之; 高桑雄二
    第24回表面科学講演大会, Nov. 2004, Not invited
  • Si(111)表面における極薄酸化膜形成過程の温度依存
    小川修一; 大平雅之; 高桑雄二
    第45回真空に関する連合講演会, Oct. 2004, Not invited
  • Substrate orientation dependence of first- and second-oxide-layer growth kinetics: comparison between Si(001)2×1 and Si(111)7×7 surfaces
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    2004 International Microprocess and nanotechnology Conference, Oct. 2004, Not invited
  • 極薄Ti酸化膜の分解過程のリアルタイム光電子分光観察
    高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    日本物理学会2004年秋季大会, Sep. 2004, Not invited
  • Si(001)表面酸化様式に依存した極薄酸化膜分解過程の「その場」観察
    小川修一; 高桑雄二
    日本物理学会2004年秋季大会, Sep. 2004, Not invited
  • Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程(VI):分解における吸着Si原子との競合
    小川修一; 高桑雄二
    2004年秋季第65回応用物理学会学術講演会, Sep. 2004, Not invited
  • Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程(V):界面の酸化・分解の律速反応
    小川修一; 高桑雄二
    2004年秋季第65回応用物理学会学術講演会, Sep. 2004, Not invited
  • Ti(0001)表面酸化過程の酸素分子並進運動エネルギー依存(II):酸化状態
    小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    2004年秋季第65回応用物理学会学術講演会, Sep. 2004, Not invited
  • Progress of stoichiometry of very thin oxides on Ti (0001) surfaces monitored by real-time photoelectron spectroscopy
    S. Ogawa; Y. Takakuwa; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; Y. Teraoka; K. Moritani; S. Hachiue; Y. Mizuno; H. Tonda; T. Homma
    12th International Conference on Solid Films and Surfaces, Jun. 2004, Not invited
  • Rate-limiting reaction of growth and decomposition of very thin oxide on Si(001) surface
    S. Ogawa; Y. Takakuwa
    2004 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices: Science and Technology, May 2004, Not invited
  • Ti(0001)表面に形成した極薄酸化膜の分解過程
    高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    第51回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2004, Not invited
  • Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程 (IV):酸化様式への依存
    高桑雄二; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿
    第51回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2004, Not invited
  • Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程 (III):界面反応
    小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第51回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2004, Not invited
  • Ti(0001)表面初期酸化過程の酸素分子並進運動エネルギー依存
    小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    第51回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2004, Not invited
  • Si(001)表面での極薄酸化膜形成・分解過程のRHEED-AES/STMによる「その場」観察
    小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第9回「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会, Jan. 2004, Not invited
  • 超音速酸素分子ビームによるTi(0001)表面の運動エネルギー誘起酸化反応
    小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    第23回表面科学講演大会, Nov. 2003
  • Si(001)表面での極薄酸化膜形成・分解過程におけるSi原子の挙動
    小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
    第23回表面科学講演大会, Nov. 2003, Not invited
  • Ti(0001)表面酸化における極薄酸化膜成長と酸化状態
    高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 小川修一; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    第44回真空に関する連合講演会, Nov. 2003, Not invited
  • Si(001)とSi(111)表面の極薄酸化膜形成過程の比較
    小川修一; 高桑雄二
    第44回真空に関する連合講演会, Nov. 2003, Not invited
  • Ti(0001)表面酸化における極薄酸化膜形成過程のリアルタイム計測
    高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 小川修一; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    日本物理学会2003年秋季大会, Sep. 2003, Not invited
  • Si(001)表面での初期酸化過程への2x1/1x2分域比の影響
    高桑雄二; 小川修一
    日本物理学会2003年秋季大会, Sep. 2003, Not invited
  • Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程(II)
    小川修一; 高桑雄二
    2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会, Sep. 2003, Not invited
  • Ti(0001)表面酸化への酸素分子並進運動エネルギーの効果
    高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 小川修一; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会, Aug. 2003, Not invited
  • Ti(0001)表面での極薄酸化膜形成における酸化状態の「その場」観察
    高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 小川修一; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
    2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会, Aug. 2003, Not invited
  • RHEED-AESによるSi表面酸化におけるSi原子放出の「その場」観察
    小川修一; 高桑雄二
    第19回化学反応討論会, Jun. 2003, Not invited
  • Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程
    小川修一; 川和拓央; 高桑雄二
    第50回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2003, Not invited
  • リアルタイム光電子分光によるSi(001)表面初期酸化過程の「その場」観察
    小川修一; 八木貴之; 高桑雄二
    平成14年度表面科学会東北支部講演会, Mar. 2003, Not invited
  • Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出の実験的検証
    高桑雄二; 小川修一; 川和拓央
    第8回「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会, Jan. 2003, Not invited
  • Si(001)表面酸化におけるSi原子放出のRHEED-AES観察
    小川修一; 川和拓央; 高桑雄二
    第2回多元物質科学研究所研究発表会, Jan. 2003, Not invited
  • Si(001)表面初期酸化における表面形態のRHEED-AES観察
    小川修一; 川和拓央; 高桑雄二
    第22回表面科学講演大会, Nov. 2002, Not invited

Courses

  • Apr. 2024 - Present
  • Apr. 2024 - Present
  • Apr. 2023 - Present
  • Apr. 2023 - Present
  • Apr. 2023 - Present

Affiliated academic society

  • 日本表面真空学会
  • 応用物理学会

Research Themes

  • 層間挿入によるh-BNの半導体化とベータボルタ電池応用
    日本学術振興会, 科学研究費助成事業, Apr. 2023 - Mar. 2027
    山田 貴壽; 小川 修一; 増澤 智昭
  • Catalytic application of mechanochemical effects by controlling material strain
    Japan Society for the Promotion of Science, Grants-in-Aid for Scientific Research, Apr. 2023 - Mar. 2026
    小川 修一
  • SiCパワーMOSFETの高効率化に向けたゲート絶縁膜形成プロセスの検証
    公益財団法人池谷科学技術振興財団, 池谷科学技術振興財団単年度研究助成, Apr. 2023 - Mar. 2024
    小川修一
  • Silicene surrounded by oxide -quality improvement and its application to transistors
    Japan Society for the Promotion of Science, Grants-in-Aid for Scientific Research, Apr. 2018 - Mar. 2024
    小川 修一
  • カリウム修飾積層グラフェンの物性解明と二次元層状物質用ウエハへの応用
    日本学術振興会, 科学研究費助成事業, Apr. 2020 - Mar. 2023
    山田 貴壽; 小川 修一; 岡崎 俊也
  • 歪み誘起メカノケミカル効果を利用した高効率水素燃料製造の実験的検証
    公益財団法人前川報恩会, 2021年度学術研究助成, Jan. 2022 - Dec. 2022
    小川修一
  • 酸化膜で囲まれたシリセン -酸化反応自己停止と酸化誘起歪みを用いた作製法の開発
    日本学術振興会, 科学研究費補助金 若手研究(A), Apr. 2016 - Mar. 2019
    小川 修一
  • ダイヤモンド表面を原子レベルに平坦化するイオンアシスト表面拡散研磨法の開発
    日本学術振興会, 科学研究費補助金 挑戦的萌芽研究, Apr. 2016 - Mar. 2018
    小川 修一
  • 原子層スタック型電界放射電子放出デバイス ―放出機構解明と放出量増加への挑戦
    日本学術振興会, 科学研究費補助金 新学術領域研究(研究領域提案型), Apr. 2016 - Mar. 2018
    小川 修一
  • 酸化反応自己停止現象を用いたシリセン・イン・オキサド構造形成プロセスの開発
    公益財団法人倉田記念日立科学技術財団, 倉田奨励金, Apr. 2014 - Mar. 2016
    小川 修一
  • ダメージレス・低コストな転写を目指す金属触媒酸化を介したグラフェン剥離プロセス
    日本学術振興会, 科学研究費補助金 若手研究(B), Apr. 2013 - Mar. 2015
    小川 修一
  • Surface treatment process using photoemission-assisted plasma for achievement of atomic scale flattened surface
    Japan Society for the Promotion of Science, Grants-in-Aid for Scientific Research, 01 Apr. 2012 - 31 Mar. 2014
    YUJI Takakuwa; OGAWA Shuichi
  • 黒鉛の光核反応を用いた高品質ホウ素ドープグラフェン作製プロセスの研究
    公益財団法人マツダ財団, マツダ研究助成, Nov. 2011 - Oct. 2012
    小川 修一
  • 歪み誘起熱酸化プロセスを用いたシリコン極薄酸化膜形成機構の解明
    日本学術振興会, 科学研究費助成事業, 2007 - 2008
    小川 修一