Ph.D (Engineering), Tohoku University, Mar. 2008

半導体材料プロセス

プラズマプロセス

ナノ炭素材料

表面分析

Manufacturing technology (mechanical, electrical/electronic, chemical engineering), Manufacturing and production engineering

Manufacturing technology (mechanical, electrical/electronic, chemical engineering), Chemical reaction and process system engineering

Manufacturing technology (mechanical, electrical/electronic, chemical engineering), Electric/electronic material engineering

Nanotechnology/Materials, Thin-film surfaces and interfaces

Apr. 2023 - Present
Nihon University, College of Industrial Technology, Department of Electrical and Electronic Engineering, Associate Professor

Oct. 2020 - Mar. 2023
Tohoku University, Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials Division of Measurements, 助教

Oct. 2020 - Mar. 2023
Tohoku University, International Center for Synchrotron Radiation Innovation Smart SR Core Research Division, 助教

Apr. 2010 - Sep. 2020
東北大学多元物質科学研究所, 多元物質科学研究所, 助教

Nov. 2018 - Apr. 2019
National University of Singapore, Faculty of Engineering, Visiting Scholar

Jan. 2016 - Sep. 2016
Fritz Haber Institute, Department of Inorganic Chemistry, Guest scientist

Jun. 2008 - Mar. 2010
東北大学多元物質科学研究所, 多元物質科学研究所, 産学官連携研究員、助教（研究特任）

Apr. 2008 - May 2008
東北大学, 多元物質科学研究所, 日本学術振興会特別研究員

Apr. 2007 - Mar. 2008
Tohoku University, Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, 日本学術振興会特別研究員（DC2）

Mar. 2008
Tohoku University, Graduate School of Engineering, ナノメカニクス専攻

Mar. 2005
Tohoku University, Graduate School of Engineering, 機械電子工学専攻

Mar. 2003
Tohoku University, Faculty of Engineering, 機械電子工学科

Sep. 2024 - Present

Apr. 2024 - Present

Feb. 2023 - Present

Apr. 2022 - Mar. 2024

Apr. 2021 - Mar. 2023

Apr. 2021 - Mar. 2022

Apr. 2021 - Mar. 2022

Apr. 2018 - Mar. 2022

Oct. 2019 - Sep. 2021

May 2019 - Apr. 2021

Apr. 2019 - Mar. 2021

Apr. 2017 - Mar. 2021
プログラム編集委員（6.5表面物理・真空担当）, 応用物理学会

Apr. 2015 - Mar. 2019

Mar. 2017 - Oct. 2018

Apr. 2016 - Mar. 2018

Apr. 2011 - Mar. 2016

Apr. 2013 - Mar. 2015
庶務幹事, 日本表面科学会 東北・北海道支部

Jan. 2011 - Jan. 2015
講演奨励賞選定委員会 委員, 日本表面科学会

Jan. 2011 - Jan. 2015

Oct. 2012 - Nov. 2013
steering committee, 6th International Symposium on Practical Surface Analysis

Apr. 2011 - Mar. 2013
東北・北海道支部 庶務・会計幹事, 日本表面科学会

May 2025
公益社団法人日本表面真空学会, 2024年度日本表面真空学会論文賞
Observation of Chemisorbed O₂ Molecule at SiO₂/Si(001) Interface During Si Dry Oxidation
津田 泰孝;吉越 章隆;小川 修一;坂本 徹哉;髙桑 雄二

Jul. 2015
13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, ISSP2015 Best Poster Award
Ion incident energy dependence for Cu surface smoothing using Ar+ ions generated by photoemission-assisted plasma, International society
Saijian Ajia;Yuki Kotanigawa;Yudai Ohtomo;Shuichi Ogawa;Yuji Takakuwa

Sep. 2014
International Conference on Diamond and Carbon Materials, Poster Award
Decrease mechanism of the resistivity of networked nano- graphite grown by photoemission -assisted plasma -enhanced CVD using CH₄/Ar and CH₄/H₂, International society
Y. Ojiro;S. Ogawa;M. Sato;M. Nihei;Y. Takakuwa

Dec. 2010
東北大学多元物質科学研究所, 第5回 籏野奨学基金多元物質科学研究奨励賞
光電子制御プラズマCVDを用いた多層グラフェン成長プロセスの開発, Others
小川修一

04 Feb. 2009
財団法人井上科学振興財団, 第25回井上研究奨励賞
熱酸化プロセスによる極薄シリコン酸化膜形成過程の研究, Publisher

25 Mar. 2008
東北大学, 平成19年度東北大学総長賞
Others

14 Nov. 2007
日本真空協会, 第16回真空進歩賞
リアルタイム光電子分光観察を用いた表面研究, Official journal

04 Sep. 2007
社団法人応用物理学会, 第29回応用物理学会論文賞（JJAP論文奨励賞）
Rate-Limiting Reactions of Growth and Decomposition Kinetics of Very Thin Oxides on Si(001) Surfaces Studied by Reflection High-Energy Electron Diffraction Combined with Auger Electron Spectroscopy, Official journal

27 Mar. 2007
社団法人応用物理学会, 第21回（2006年秋季）応用物理学会講演奨励賞
Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(VIII)：第2層酸化膜成長速度の温度依存, Japan society
小川修一

10 Nov. 2006
2006 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY, IWDTF Young Researcher Award
Layer-by-Layer Oxidation on Si(001) Surface Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy Using Synchrotron Radiation, International society
Shuichi OGAWA

04 Feb. 2006
応用物理学会 薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会, 第11回ゲートスタック研究会服部賞
酸化膜形成と欠陥発生の同時観察によるSi(001)表面酸化の統合的解明, Japan society

25 Mar. 2005
日本機械学会, 日本機械学会三浦賞
Publisher

Development of Multi-Functional Submicropipettes for Exploring Biomaterials
Takami Tomohide; Nishiyama Hokuto; Watanabe Yu; Omi Haruna; Ohta Mizuki; Ono Manami; Watabe Minami; Miyashita Kazuho; Mitsui Taiga; Yoneda Rio; Shibuya Kyo; Akutsu Yusuke; Kaneko Naoki; Ohtomo Chie; Inoue Mizuki; Ozawa Mamiko; Magara Hideyuki; Ogawa Shuichi; Abukawa Tadashi
工学院大学研究論叢, Feb. 2024, Refereed, Not invited

Evaluation of Electronic/Chemical State of Nano Carbon Materials Using Photoelectron Spectroscopy
Shuichi Ogawa
Journal of Surface Analysis, Jul. 2023, Refereed, Invited
Lead

Argon Gas Flow Through Micro- and Nano-pipettes
Tomohide Takami; Chie Ohtomo; Naoki Kaneko; Kyo Shibuya; Kazuho Miyashita; Mizuki Ohta; Rio Yoneda; Mamiko Ozawa; Hideyuki Magara; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Apr. 2023, Refereed, Not invited

Work function lowering of LaB₆ by monolayer hexagonal boron nitride coating for improved photo- and thermionic-cathodes
Hisato Yamaguchi; Ryunosuke Yusa; Gaoxue Wang; Michael T. Pettes; Fangze Liu; Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Tadashi Abukawa; Nathan A. Moody; Shuichi Ogawa
Applied Physics Letters, Apr. 2023, Refereed, Not invited
Last

Roles of excess minority carrier recombination and chemisorbed O₂ species at SiO₂/Si interfaces in Si dry oxidation: Comparison between p-Si(001) and n-Si(001) surfaces
Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Shuichi Ogawa; Tetsuya Sakamoto; Yoshiki Yamamoto; Yukio Yamamoto; Yuji Takakuwa
The Journal of Chemical Physics, Dec. 2022, Refereed, Not invited

Observation of Chemisorbed O₂ Molecule at SiO₂/Si(001) Interface During Si Dry Oxidation
Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Shuichi Ogawa; Tetsuya Sakamoto; Yuji Takakuwa
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Nov. 2022, Refereed, Not invited

Development of Dual Ion-selective Electrodes in Double-Barrel Glass Pipette at One Micrometer for Simultaneous Measurement of Sodium and Potassium Ions
Tomohide Takami; Yusuke Akutsu; Naoki Kaneko; Rio Yoneda; Hideyuki Magara; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Oct. 2022, Refereed, Not invited

Evaluation of Doped Potassium Concentrations in Stacked Two-Layer Graphene using Real-time XPS
Shuichi Ogawa; Yasutaka Tsuda; Tetsuya Sakamoto; Yuki Okigawa; Tomoaki Masuzawa; Akitaka Yoshigoe; Tadashi Abukawa; Takatoshi Yamada
Applied Surface Science, Sep. 2022, Refereed, Not invited
Lead

Multilayer Deposition of Octakis(octyloxy) Phthalocyanine Observed by Scanning Tunneling Microscopy, Scanning Electron Microscopy, Transmission Electron Microscopy, and X-ray Diffraction
Rio Yoneda; Masaki Ageishi; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa; Tomohide Takami
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Jun. 2022, Refereed, Not invited

Oxygen Gas Barrier Property of Monolayer CVD Graphene
Takatoshi Yamada; Shuichi Ogawa
MEMBRANE, Apr. 2022, Refereed, Invited
Last

Synthesis and characterization of potassium-doped multilayer graphene prepared by wet process using potassium hydroxide
Tomoaki Masuzawa; Yuki Okigawa; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Kazuto Hatakeyama; Takatoshi Yamada
Nano Express, Sep. 2021, Refereed, Not invited

Two-step model for reduction reaction of ultrathin nickel oxide by hydrogen
Shuichi Ogawa; Ryo Taga; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
Journal of Vacuum Science & Technology A, Jun. 2021, Refereed, Not invited
Lead

Oxidation Reaction Kinetics on Transition Metal Surfaces Observed by Real-time Photoelectron Spectroscopy
Shuichi OGAWA; Bingruo ZHANG; Akitaka YOSHIGOE; Yuji TAKAKUWA
Vacuum and Surface Science, May 2021, Refereed, Invited
Lead

Synthesis of Chloroauric Acid from Gold Electrodes in Alkali Halide Salt Solution by AC Electrolysis and the Sequential Formation of Gold Nanoparticles by Turkevich Method
Kei Oya; Kei Aoshika; Masaki Ageishi; Hideyuki Magara; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Tomohide Takami
Chemistry Letters, Jan. 2021, Refereed, Not invited

Gas Barrier Properties of Chemical Vapor-Deposited Graphene to Oxygen Imparted with Sub-electronvolt Kinetic Energy
Shuichi Ogawa; Hisato Yamaguchi; Edward F. Holby; Takatoshi Yamada; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
The Journal of Physical Chemistry Letters, Oct. 2020, Refereed, Not invited
Lead

Roles of strain and carrier in silicon oxidation
Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Jaiyi Tang; Yuki Sekihata; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Apr. 2020, Refereed, Invited
Lead

Flattening of copper surfaces with a low energy xenon-ion source generated by photoemission-assisted plasma
Saijian Ajia; Shuichi Ogawa; Nobuhisa Kamata; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Aug. 2019, Refereed, Not invited
Corresponding

Simultaneous Observation of Si Oxidation Rate and Oxidation-induced Strain Using XPS
OGAWA Shuichi; YOSHIGOE Akitaka; TAKAKUWA Yuji
Vacuum and Surface Science, Jun. 2019, Refereed, Not invited
Lead

Band alignment determination of bulk h-BN and graphene/h-BN laminates using photoelectron emission microscopy
Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Ryo Kadowaki; Takashi Taniguchi; Tadashi Abukawa; Yuji Takakuwa
Journal of Applied Physics, Apr. 2019, Refereed, Not invited
Lead

Interfacial oxidation kinetics at SiO₂/Si(001) mediated by the generation of point defects: Effect of raising O₂ pressure
Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
AIP Advances, Jul. 2018, Refereed, Not invited
Lead

Decreased hydrogen content in diamond-like carbon grown by CH₄/Ar photoemission-assisted plasma chemical vapor deposition with CO₂ gas
Shuichi Ogawa; Rintaro Sugimoto; Nobuhisa Kamata; Yuji Takakuwa
Surface & Coatings Technoligy, Apr. 2018, Refereed, Not invited
Lead

Polarity identification of ZnO(0001) surface by reflection high-energy electron diffraction
Yoshimi Horio; Junji Yuhara; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa; Koji Abe
Japanese Journal of Applied Physics, Feb. 2018, Refereed, Not invited

Chemical structure and electrical characteristics of diamondlike carbon films
Susumu Takabayashi; Hiroyuki Hayashi; Meng Yang; Rintaro Sugimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Diamond and Related Materials, Nov. 2017, Refereed, Not invited

Chemical structural analysis of diamondlike carbon films: I. Surface growth model
Susumu Takabayashi; Radek Jesko; Masanori Shinohara; Hiroyuki Hayashi; Rintaro Sugimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Surface Science, Oct. 2017, Refereed, Not invited

Chemical structural analysis of diamondlike carbon films: II. Raman analysis
Susumu Takabayashi; Radek Jesko; Masanori Shinohara; Hiroyuki Hayashi; Rintaro Sugimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Surface Science, Oct. 2017, Refereed, Not invited

Argon gas flow through glass nanopipette
Tomohide Takami; Kiwamu Nishimoto; Tadahiko Goto; Shuichi Ogawa; Futoshi Iwata; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Nov. 2016, Refereed, Not invited

Detection of molecular oxygen adsorbate during room-temperature oxidation of Si(100) 2 x 1 surface: In situ synchrotron radiation photoemission study
Akitaka Yoshigoe; Yoichi Yamada; Ryo Taga; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, Sep. 2016, Refereed, Not invited

Enhancement of SiO₂/Si(001) interfacial oxidation induced by thermal strain during rapid thermal oxidation
Shuichi Ogawa; Jiayi Tang; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuji Takakuwa
Journal of Chemical Physics, Sep. 2016, Refereed, Not invited
Lead

Valence-band electronic structure evolution of graphene oxide upon thermal annealing for optoelectronics
Hisato Yamaguchi; Shuichi Ogawa; Daiki Watanabe; Hideaki Hozumi; Yongqian Gao; Goki Eda; Cecilia Mattevi; Takeshi Fujita; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishizuka; Lyudmyla Adamska; Takatoshi Yamada; Andrew M. Dattelbaum; Gautam Gupta; Stephen K. Doorn; Kirill A. Velizhanin; Yuden Teraoka; Mingwei Chen; Han Htoon; Manish Chhowalla; Aditya D. Mohite; Yuji Takakuwa
Physica Status Solidi A, Apr. 2016, Refereed, Not invited

Auger intensity anomalies from ZnO(0001) surface excited by RHEED incident beam
Yoshimi Horio; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa; Koji Abe
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Mar. 2016, Refereed, Not invited

Experimental estimation of oxidation-induced Si atoms emission on Si(001) surfaces
Shuichi Ogawa; Jiayi Tang; Yuji Takakuwa
AIP Advances, Aug. 2015, Refereed, Not invited
Lead

RHEED patterns calculated for Pt nano clusters on TiO₂(110) substrate
Yoshimi Horio; Yoshihide Watanabe; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Mar. 2015, Refereed, Not invited

Coating the Outer Surface of Glass Nanopipette with Chlorobenzene-Terminated Polysiloxane
Tomohide Takami; Yoshihiro Ojiro; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Yoshihide Ogawa; Mikako Saito; Hideaki Matsuoka; Shin-ichi Tate
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Mar. 2015, Refereed, Not invited

Controlled oxygen-doped diamond-like carbon film synthesized by photoemission-assisted plasma
Susumu Takabayashi; Meng Yang; Takanori Eto; Hiroyuki Hayashi; Shuichi Ogawa; Taiichi Otsuji; Yuji Takakuwa
Diamond and Related Materials, Jan. 2015, Refereed, Not invited

Relationship between the structure and electrical characteristics of diamond-like carbon films
Susumu Takabayashi; Meng Yang; Shuichi Ogawa; Hiroyuki Hayashi; Radek Jesko; Taiichi Otsuji; Yuji Takakuwa
Journal of Applied Physics, Sep. 2014, Refereed, Not invited

Crystallographic and Electric Properties of Multilayer Graphene Grown by Photoemission Assisted-Plasma Enhanced CVD : H₂ versus Ar for career gas
尾白 佳大; 小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
表面科学, Aug. 2014, Refereed, Not invited
Corresponding

Dimer configuration of Si(001)2x1 surface by projected potential approach of reflection high-energy electron diffraction
Yoshimi Horio; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Aug. 2014, Refereed, Not invited

Self-accelerating oxidation on Si(111)7 x 7 surfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy
Jiayi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Yoshigoe Akitaka; Shinnji Ishidzuka; Daiki Watanabe; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, Jun. 2014, Refereed, Not invited

Auger intensity anomalies from the Si(001)2 x 1 surface excited by the wave field of RHEED
Yoshimi Horio; Yuji Takakuwa; Shuichi Ogawa
SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, Jun. 2014, Refereed, Not invited

表面科学と精密工学の接点
高桑 雄二; 小川 修一
精密工学会誌, May 2014, Refereed, Invited
Last

High sensitivity photodetector made of amorphous selenium and diamond cold cathode
T. Masuzawa; I. Saito; M. Onishi; T. Ebisudani; A. T. T. Koh; D. H. C. Chua; T. Yamada; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Shimosawa; K. Okano
Canadian Journal of Physics, Apr. 2014, Refereed, Not invited

Low-temperature synthesis of diamond films by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
Mayuri Kawata; Yoshihiro Ojiro; Shuichi Ogawa; Tomoaki Masuzawa; Ken Okano; Yuji Takakuwa
Journal of Vacuum Science & Technology A, Dec. 2013, Refereed, Not invited

SiO desorption kinetics of Si(111) surface oxidation studied by real-time photoelectron spectroscopy
Jiayi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Daiki Watanabe; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Nov. 2013, Refereed, Not invited

Graphene Growth and Carbon Diffusion Process during Vacuum Heating on Cu(111)/Al₂O₃ Substrates
Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Shinji Ishidzuka; Akitaka Yoshigoe; Masataka Hasegawa; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Oct. 2013, Refereed, Invited
Lead

Relation Between Oxidation Rate and Oxidation-Induced Strain at SiO2/Si(001) Interfaces during Thermal Oxidation
Shuichi Ogawa; Jiayi Tang; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Oct. 2013, Refereed, Invited
Lead

Formation of Diamond-Like Carbon Films by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
Meng Yang; Susumu Takabayashi; Shuichi Ogawa; Hiroyuki Hayashi; Radek Jesko; Taiichi Otsuji; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Oct. 2013, Refereed, Invited

Development of an Amorphous Selenium-Based Photodetector Driven by a Diamond Cold Cathode
Tomoaki Masuzawa; Ichitaro Saito; Takatoshi Yamada; Masanori Onishi; Hisato Yamaguchi; Yu Suzuki; Kousuke Oonuki; Nanako Kato; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Angel T. T. Koh; Daniel H. C. Chua; Yusuke Mori; Tatsuo Shimosawa; Ken Okano
SENSORS, Oct. 2013, Refereed, Not invited

Incident Electron Wave-Field at Si(001) Surface by RHEED
堀尾吉巳; 高桑雄二; 小川修一
表面科学, Jul. 2013, Refereed, Not invited

High quantum efficiency UV detection using a-Se based photodetector
Tomoaki Masuzawa; Masanori Onishi; Ichitaro Saito; Takatoshi Yamada; Angel T. T. Koh; Daniel H. C. Chua; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Yusuke Mori; Tatsuo Shimosawa; Ken Okano
Physica Status Solidi-Rapid Research Letters, Jul. 2013, Refereed, Not invited

Spectroscopic Analysis of Graphitization and Grain Orientation of Carbon Films Grown by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
Manabu Inukai; Eiji Ikenaga; Takayuki Muro; Shuichi Ogawa; Yoshihiro Ojiro; Yuji Takakuwa; Motonobu Sato; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
Japanese Journal of Applied Physics, Jun. 2013, Refereed, Not invited

Electrical properties and reliability of networked-nanographite wires grown on SiO₂ dielectric without catalysts for multi-layer graphene interconnects
Motonobu Sato; Shuichi Ogawa; Manabu Inukai; Eiji Ikenaga; Takayuki Muro; Yuji Takakuwa; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
Microelectronic Engineering, Feb. 2013, Refereed, Not invited

Dielectric-tuned Diamondlike Carbon Materials for an Ultrahigh-speed Self-aligned Graphene Channel Field Effect Transistor
Susumu Takabayashi; Meng Yang; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Tetsuya Suemitsu; Taiichi Otsuji
Advances in Science and Technology, 2013, Refereed, Not invited

Vacuum Annealing Formation of Graphene on Diamond C(111) Surfaces Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy
Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Shinji Ishizduka; Akitaka Yoshigoe; Masataka Hasegawa; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Nov. 2012, Refereed, Not invited
Lead

Synthesis of diamond-like carbon films on Si substrates by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
Meng Yang; Shuichi Ogawa; Susumu Takabayashi; Taiichi Otsuji; Yuji Takakuwa
Thin Solid Films, Nov. 2012, Refereed, Not invited
Corresponding

Strong temperature dependence of the initial oxide growth on the Si(111)7 × 7 surface
Jia Yi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Sep. 2012, Refereed, Not invited

Observation of Graphene-on-Diamond Formation Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy
小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 渡辺大輝; 吉越章隆; 長谷川雅孝; 寺岡有殿; 高桑雄二
表面科学, Aug. 2012, Refereed, Not invited
Lead

Surface morphology of a Cu substrate flattened by a 2 '' photoemission-assisted ion beam source
Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Surface and Interface Analysis, Jun. 2012, Refereed, Not invited
Corresponding

Dielectric-tuned diamondlike carbon materials for high-performance self-aligned graphene-channel field effect transistors
Susumu Takabayashi; Meng Yang; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Tetsuya Suemitsu; Taiichi Otsuji
Materials Research Society Symposium Proceedings, May 2012, Refereed, Not invited

Development of the Photoemission-assisted Plasma Enhanced CVD Process for Diamond-like Carbon Insulator Films of Graphene FET Gate Stack
Y. Meng; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Otsuji; Y. Takakuwa
MRS Spring Meeting 2012 Symp. Proc, Apr. 2012, Refereed, Not invited

Fabrication of Graphene Directly on SiO2 without Transfer Processes by Annealing Sputtered Amorphous Carbon
Motonobu Sato; Manabu Inukai; Eiji Ikenaga; Takayuki Muro; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Haruhisa Nakano; Akio Kawabata; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
Japanese Journal of Applied Physics, Apr. 2012, Refereed, Not invited

ラマン分光法およびXPSによるSiO₂/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究
尾白佳大; 小川修一; 犬飼学; 佐藤元伸; 池永英司; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
電子情報通信学会技術報告, Mar. 2012, Not refereed, Invited

Carbonaceous field effect transistor with graphene and diamondlike carbon
Susumu Takabayashi; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Hyun-Chul Kang; Ryota Takahashi; Hirokazu Fukidome; Maki Suemitsu; Tetsuya Suemitsu; Taiichi Otsuji
Diamond and Related Materials, Feb. 2012, Refereed, Not invited

Irradiation effects of photoemission-assisted direct current discharge plasma on metal surfaces
Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Journal of the Vacuum Society of Japan, Mar. 2011, Refereed, Not invited
Corresponding

光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト成長 : 結晶性の放電条件依存
小川修一; 佐藤元伸; 角治樹; 二瓶瑞久; 高桑雄二
電子情報通信学会技術研究報告, Jan. 2011, Not refereed, Invited
Lead

Effect of Carrier Gas (Ar and He) on the Crystallographic Quality of Networked Nanographite Grown on Si Substrates by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
Haruki Sumi; Shuichi Ogawa; Motonobu Sato; Akihiko Saikubo; Eiji Ikenaga; Mizuhisa Nihei; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Jul. 2010, Refereed, Not invited
Lead

Si(001)-(2×1)表面の初期酸化過程における放出Si原子挙動の走査型トンネル顕微鏡観察
渡邉清人; 池田正則; 清水博文; 小川修一; 高桑雄二
表面科学, Dec. 2009, Refereed, Not invited

Catalyst-free growth of networked nanographite on Si and SiO2 substrates by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
Tomohide Takami; Shuichi Ogawa; Haruki Sumi; Toshiteru Kaga; Akihiko Saikubo; Eiji Ikenaga; Motonobu Sato; Mizuhisa Nihei; Yuji Takakuwa
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Dec. 2009, Refereed, Not invited
Lead

CVD成長多層グラフェン膜のラマン分光とバルク敏感XPSによる評価
角治樹; 小川修一; 高見知秀; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
表面科学, Jul. 2009, Refereed, Invited
Lead

Si(001) surface layer-by-layer oxidation studied by real-time photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation
Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, May 2007, Refereed, Not invited
Lead

Simultaneous observation of oxygen uptake curves and electronic states during room-temperature oxidation on Si(001) surfaces by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Surface Science, Apr. 2007, Refereed, Not invited
Lead

Translational kinetic energy induced oxidation on Ti(0001) surfaces using a supersonic O2 beam
Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Shinji Ishidzuka; Akitaka Yoshigoe; Yuden Teraoka; Kousuke Moritani; Yoshiyuki Mizuno
IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems, Feb. 2007, Refereed, Not invited
Lead

Real-time photoelectron spectroscopy for nitridation at Ti(0001) surface using supersonic N2 molecular beams
Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Shinji Ishidzuka; Akitaka Yoshigoe; Yuden Teraoka; Yoshiyuki Mizuno
Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan, Dec. 2006, Refereed, Not invited
Lead

Thermal oxidation kinetics of an Si1-xCx alloy layer (x similar or equal to 0.1) on Si(001) surfaces monitored in real time by RHEED combined with AES
Shuichi Ogawa; Tomofurni Kawamura; Yuji Takakuwa
Materials Science and Engineering B, Dec. 2006, Refereed, Not invited
Lead

Rate-limiting reactions of growth and decomposition kinetics of very thin oxides on Si(001) surfaces studied by reflection high-energy electron diffraction combined with Auger electron spectroscopy
Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Japanese Journal of Applied Physics, Sep. 2006, Refereed, Not invited

Consumption kinetics of Si atoms during growth and decomposition of very thin oxide on Si(001) surfaces
Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
THIN SOLID FILMS, Jun. 2006, Refereed, Not invited

Oxidation-induced changes of work function and interfacial electronic states on Si (001) surfaces studied by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan, May 2006, Refereed, Not invited
Lead

SiとTi表面での極薄酸化膜形成のリアルタイム表面分析
高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿
Jounal of Surface Analysis, Jan. 2006, Refereed, Invited

Surface chemical reaction dynamics illuminated by high brilliance and high energy-resolution synchrotron radiation -in-situ photoemission spectroscopy for surface oxidation induced by supersonic O₂ molecular beams-
寺岡有殿; 吉越章隆; 盛谷浩右; 高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 岡田美智雄; 福山哲也; 笠井俊夫
放射光, Sep. 2005, Refereed, Invited

リアルタイム光電子分光によるTi(0001)表面酸化反応の観察
高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿
触媒, Aug. 2005, Refereed, Invited

Temperature dependence of oxidation-induced changes of work function on Si(001)2 x 1 surface studied by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
S Ogawa; Y Takakuwa
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS, Aug. 2005, Refereed, Not invited
Lead

Oxidation state during growth of very thin oxide on Ti(0001) surface
Yuji Takakuwa; Shinji Ishidzuka; Akitaka Yoshigoe; Yuden Teraoka; Kousuke Moritani; Shuichi Ogawa; Yoshiyuki Mizuno; Hideki Tonda; Teiichi Homma
Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan, Jun. 2004, Refereed, Not invited

Initial oxidation of Ti(0001) surfaces induced by supersonic oxygen molecular beam
S. Ogawa; Y. Takakuwa; S. Ishidzuka; Y. Mizuno; H. Tonda; T. Homma; Y. Teraoka; A. Yoshigoe; K. Moritani; S. Hachiue
JAERI-Tech, Jun. 2004, Refereed, Not invited
Lead

Si(001)とSi(111)表面の極薄酸化膜形成過程の比較
小川修一; 高桑雄二
真空, Mar. 2004, Refereed, Not invited
Lead

★二次元原子層物質コーティングによる電子放出源の耐久性／性能向上の両立
小川 修一
ISOTOPE NEWS, 01 Feb. 2024, Refereed, Invited
Lead

★特集号「表面反応観察における大気圧光電子分光の現状、利用研究と展望」企画説明
吉越章隆; 小川修一; 髙桑雄二
放射光, May 2022, Refereed, Invited

★X線光電子分光によるガス雰囲気中の表面反応観察：歴史、応用、課題、将来展望
髙桑雄二; 小川修一; 吉越章隆
放射光, May 2022, Refereed, Invited

★Gas Barrier Properties of Graphene Against O2 Molecules with High Kinetic Energy
小川修一; Hisato Yamaguchi; Edward F. Holby; 山田貴壽; 吉越章隆; 高桑雄二
SPring-8/SACLA利用者情報, 21 Aug. 2021, Refereed, Invited
Lead

★並進運動エネルギーで誘起されるO₂分子のグラフェン透過現象
小川 修一; 山田 貴壽
NEW DIAMOND, 25 Apr. 2021, Not refereed, Invited
Lead

東北大学 国際放射光イノベーション・スマート研究センター 基幹研究部門 界面計測スマートラボの紹介
小川修一; 虻川匡司
NEWS LETTER, 15 Jun. 2022, Not refereed, Invited
Lead

PM-06 Electronic Structure of Nitrogen-Doped Graphite Films Studied by Soft X-ray Emission Spectroscopy
K Matsuura; Y Sato; M Terauchi; M Aono; S Hashimoto; S Ogawa; Y Takakuwa
Microscopy, 01 Nov. 2019, Not refereed, Not invited

Suppression of electron emission from cathode in photoemission-assisted Ar plasma
N. Kamata; S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
2018 31st International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC), Jul. 2018, Refereed, Not invited

Field emission from n-type diamond NEA surface and graphene/n-type diamond junction
Takatoshi Yamada; Tomoaki Masuzawa; Yoichiro Neo; Hidenori Mimura; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Ken Okano
2017 30TH INTERNATIONAL VACUUM NANOELECTRONICS CONFERENCE (IVNC), 2017, Refereed, Not invited

Interface oxidation enhancement at SiO₂/Si(001) by raising O₂ pressure
S. Ogawa; J. Tang; R. Taga; Y. Takakuwa
Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanotechnology, 09 Dec. 2016, Refereed, Not invited

Effect of oxygen doping on chemical bonding and mechanical properties of CVD-grown DLC films
R. Sugimoto; H. Abe; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanotechnology, 09 Dec. 2016, Refereed, Not invited

Comparison of Photoemission-assisted plasma discharge characteristics between n-type and p-type diamond surfaces
Mayuri Kawata; Atsuko Ohno; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Refereed, Not invited

Estimate of Critical Ion Energy for Surface Planarization Process Using Photoemission-Assisted Plasma Ion Source
Yuki Kotanigawa; Ajia Saijan; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Refereed, Not invited

Ion incident energy dependence for Cu surface smoothing using Ar+ ions generated by photoemission-assisted plasma
Saijian Ajia; Yuki Kotanigawa; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Proceedings of the thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Refereed, Not invited

学会だより～ICDCM2014
徳田 規夫; 近藤 剛史; 児玉 英之; 小川 修一; 尾白 佳大; 土井 悠生
NEW DIAMOND, Oct. 2014, Not refereed, Invited

Thermal Stability of Thick DLC Dielectric Films for Graphene-Channel THz Laser Prepared by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
R. Jesko; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etoh; Y. Kurita; T. Otsuji; Y. Takakuwa
ACSIN: 12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, 7PN-31, Tsukuba, Japan,, 07 Nov. 2013, Refereed, Not invited

Growth Mechanism Analysis and Precise Control of Electrical and Optical Characteristics of Diamond-Like Carbon Films
S. Takabayashi; H. Hayashi; M. Yang; R. Jesko; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
ACSIN: 12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, 7PN-33, Tsukuba, Japan,, 07 Nov. 2013, Refereed, Not invited

Formation of a δ-Doped Diamond-Like Carbon Film with a Modulation-doped Gate Dielectric Structure
S. Takabayashi; H. Hayashi; M. Yang; R. Jesko; R. Shishido; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
ACSIN: 12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, 7PN-34, Tsukuba, Japan,, 07 Nov. 2013, Refereed, Not invited

Deposition of thick dielectric films of diamond-like carbon for graphene-channel THz laser by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
R. Jesko; M. Yang; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etou; Y. Kurita; T. Otsuji; T. Takakuwa
ISSP: the 12th Int. Symp. on Sputtering & Plasma Processes, PI-4, Kyoto, Japan, 12 Jul. 2013, Refereed, Not invited

Graphene-channel FET with doped diamondlike carbon top-gate dielectrics
T. Eto; S. Takabayashi; Y. Kurita; M. Yang; H. Hayashi; R. Jesko; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Suemitsu; T. Otsuji
The 9th International Thin-Film Transistor Conference Dig., March 1-2, 2013., 01 Mar. 2013, Refereed, Not invited

Dielectric-tuning of diamondlike carbon gate dielectrics prepared by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
M. Yang; S. Takabayashi; S. Ogawa; H. Hayashi; T. Eto; T. Otsuji; Y. Takakuwa
ISGD: International Symposium on Graphene Devices DIg., Soleil, France, Nov. 5, 2012., 08 Nov. 2012, Refereed, Not invited

Graphene FET with Diamondlike Carbon Dielectrics
TAKABAYASHI Susumu; YANG Meng; OGAWA Shuichi; HAYASHI Hiroyuki; KURITA Yuki; TAKAKUWA Yuji; SUEMITSU Tetsuya; OTSUJI Taiichi
IEICE technical report. Electron devices, 19 Jul. 2012

学会だより 応用物理関係連合講演会
赤坂大樹; 寺地徳之; 小川修一
New Diamond, Apr. 2012, Not refereed, Invited

C-10-15 Graphene-channel FET with a Diamondlike Carbon Top-gate Dielectric Film
Takabayashi Susumu; Yang Meng; Ogawa Shuichi; Takakuwa Yuji; Suemitsu Maki; Suemitsu Tetsuya; Otsuji Taiichi
Proceedings of the IEICE General Conference, 06 Mar. 2012

表面物理計測の進展と機能性薄膜創製への展開
高桑雄二; 虻川匡司; 小川修一
マテリアル インテグレーション, Jun. 2011, Not refereed, Invited

Complimentary logic inverter on epitaxial graphene/6H-SiC field effect transistor with diamond-like carbon film as gate dielectrics at room temperature
Amine El Moutaouakil; Susumu Takabayashi; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Hyun-Chul Kang; Ryota Takahashi; Hirokazu Fukidome; Maki Suemitsu; Eiichi Sano; Tetsuya Suemitsu; Taiichi Otsuji
nature Graphene Conference, 11 May 2011, Refereed, Not invited

Networked-Nanographite Wire Grown by Metal-Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD without Catalysts
SATO Motonobu; OGAWA Shuichi; IKENAGA Eiji; TAKAKUWA Yuji; NIHEI Mizuhisa; YOKOYAMA Naoki
IEICE technical report, 31 Jan. 2011

Mechanism of Resistivity Decrease in Networked-Nanographite Wires for Multi-layer Graphene Interconnects
Motonobu Sato; Shuichi Ogawa; Manabu Inukai; Eiji Ikenaga; Takayuki Muro; Yuji Takakuwa; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
2011 IEEE INTERNATIONAL INTERCONNECT TECHNOLOGY CONFERENCE AND MATERIALS FOR ADVANCED METALLIZATION (IITC/MAM), 2011, Not refereed, Not invited

Networked-nanographite wire grown on SiO2 dielectric without catalysts using metal-photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
Motonobu Sato; Shuichi Ogawa; Toshiteru Kaga; Haruki Sumi; Eiji Ikenaga; Yuji Takakuwa; Mizuhisa Nihei; Naoki Yokoyama
2010 IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2010, 2010, Not refereed, Not invited

Rate-Limiting Reaction of Layer-by-Layer Oxidation on Si(001) Surfaces : Dependence on the First Oxide Layer Growth Kinetics
OGAWA Shuichi; TAKAKUWA Yuji
Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials, 13 Sep. 2006

Substrate orientation dependence of first- And second-oxide-layer growth kinetics: Comparison between Si(001)2 × 1 and Si(111)7 × 7 surfaces
Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2004, Dec. 2004, Refereed, Not invited

13aXF-2 In-situ observation of decomposition kinetics of very thin oxide grown by different oxidation schemes on Si(001)
Ogawa S.; Takakuwa Y.
Meeting abstracts of the Physical Society of Japan, 25 Aug. 2004

Influence of 2×1/1×2 domain ratio on the initial oxidation kinetics on Si(001) surface
Takakuwa Y.; Ogawa S.
Meeting abstracts of the Physical Society of Japan, 15 Aug. 2003

放射光利用の手引き -農水産・医療、エネルギー、環境、材料開発分野などへの応用-
小川 修一; 高桑 雄二, Joint work, 第4部33節
アグネ技術センター, Feb. 2019, Not refereed
9784901496957

X線光電子分光法
小川 修一, Contributor, 5章4節、付録A、付録B
講談社, Dec. 2018, Not refereed
9784065140475

グラフェンが拓く材料の新領域 -物性・作製法から実用化まで-
高桑雄二; 小川修一, Joint work, 第3編第1章第3節 pp.51-64
エヌ・ティー・エス, Jun. 2012, Not refereed
9784864690355

Observation of Chemisorbed O2 Molecule at SiO2/Si(001) Interface During Si Dry Oxidation
Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Shuichi Ogawa; Tetsuya Sakamoto; Yuji Takakuwa
Annual Meeting of the Japan Society of Vacuum and Surface Science 2024, Oct. 2024, Invited

Wet-chemical functionalization of graphene toward Fermi level and carrier density tuning
Takatoshi Yamada; Yuki Okigawa; Shuichi Ogawa; Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Tomoaki Masuzawa
The 10th International Symposium on Surface Science, Oct. 2024, Not invited

Comparison of Single-step Oxidation Loop A and Double-step Oxidation Loop B between p-Si(001) and n-Si(001) surfaces
Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
The 10th International Symposium on Surface Science, Oct. 2024, Not invited

⼀段階酸化Loop Aと⼆段階酸化Loop Bの反応キネティクス: p-Si(001)とn-Si(001)表⾯の⽐較
津田 泰孝; 吉越 章隆; 小川 修一; 髙桑 雄二
第85回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2024, Not invited

機能性材料の保護と高度化を両立させる二次元物質コーティング
小川 修一
Controlled growth and characterization研究会, Mar. 2024, Invited

Siドライ酸化におけるSiO₂/Si界面での過剰少数キャリア再結合と化学吸着O₂種の役割
津田 泰孝; 吉越 章隆; 小川 修一; 坂本 徹也; 山本 善貴; 山本 幸男; 髙桑 雄二
第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024, Invited

DOSモデルに代わる新たなSi(001)表面酸化モデルの提案
古西浩志; 津田泰孝; 吉越章隆; 高桑雄二; 小川修一
令和5年度表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2024, Not invited

グラフェン酸化処理による粒径と電気抵抗率変化
樫村悠人; 沖川侑揮; 岡田光博; 小川修一; 山田貴壽
令和5年度表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2024, Not invited

原子層物質コーティングによるカソード表面の長寿命化と電子放出量増加の両立
小川修一
文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ 第2回 革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル領域シンポジウム, Jan. 2024, Invited

Si表面酸化における酸化誘起点欠陥発生の役割の研究
古西浩志; 津田泰孝; 吉越章隆; 高桑雄二; 小川修一
第56回（令和5年度）日本大学生産工学部学術講演会, Dec. 2023, Not invited

Work Function Changes by 2D Material coatings on LaB₆
S. Ogawa; R. Yusa; G. Wang; M. Pettes; F. Liu; Y. Tsuda; A. Yoshigoe; T. Abukawa; N. Moody; H. Yamaguchi
2023 International Thin Film Conference, Nov. 2023, Not invited

Chemical structure of graphene treated by photoemission-assisted Townsend discharge plasma
Susumu Takabayashi; Akito Fukuda; Shuto Tanaka; Haruhiro Naito; Hisato Yamaguchi; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe
2023年日本表面真空学会学術講演会, Oct. 2023, Not invited

2次元材料被覆によるLaB6仕事関数変化のPEEM観察
小川 修一; 遊佐 龍之介; G. Wang; M. T. Pettes; F. Liu; 津田 泰孝; 吉越 章隆; 虻川 匡司; N. A. Moody; H. Yamaguchi
第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2023, Not invited

光電⼦制御プラズマによるグラフェン改質 (II) 〜 光電⼦分光解析 〜
鷹林 将; 福田 旺土; 内藤 陽大; 田中 修斗; 山口 尚登; 小川 修一; 高桑 雄二; 津田 泰孝; 吉越 章隆
第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2023, Not invited

光電⼦制御プラズマによるグラフェン改質 (I) 〜 ラマン分光解析 〜
福田 旺土; 鷹林 将; 内藤 陽大; 田中 修斗; 山口 尚登; 小川 修一; 高桑 雄二; 津田 泰孝; 吉越 章隆
第84回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2023, Not invited

光電子制御タウンゼント放電によるグラフェンの活性化
福田 旺土; 鷹林 将; 山口 尚登; 小川 修一; 高桑 雄二; 津田 泰孝; 吉越 章隆
令和5年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会, Jun. 2023, Not invited

ガラスピペットを通過するアルゴンガスの真空コンダクタンスの解析検討
高見 知秀; 大友 千恵; 金子 直暉; 澁谷 興; 宮下 一帆; 太田 望月; 米田 里緒; 小澤 眞美子; 真柄 英之; 小川 修一; 虻川 匡司
第70回応用物理学会 春季学術講演会, Mar. 2023, Not invited

光電⼦制御プラズマ処理によるグラフェンの修飾
鷹林 将; 福田 旺土; 塚嵜 琉太; 古賀 永; 山口 尚登; 小川修一; 高桑 雄二; 津田 泰孝; 吉越 章隆
第70回応用物理学会 春季学術講演会, Mar. 2023, Not invited

分子状吸着O₂によるSiO₂/Si(001)界面酸化反応過程の分岐
津田 泰孝; 吉越 章隆; 小川 修一; 坂本 徹哉; 髙桑 雄二
第83回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2022, Not invited

Ni箔上に背面から拡散成長させたh-BNのPEEM観察
遊佐 龍之介; 青山 大晃; Li Boxua; 小川 修一; 虻川 匡司
第83回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2022, Not invited

CVDグラフェンの電気特性のh-BN膜厚依存性
山田 貴壽; 沖川 侑揮; 増澤 智昭; 小川 修一; 谷口 尚
第83回応用物理学会秋春季学術講演会, Sep. 2022, Not invited

Potassium desorption from K-doped stacked graphene
Shuichi Ogawa; Yasutaka Tsuda; Yuki Okigawa; Tomoaki Masuzawa; Akitaka Yoshigoe; Tadashi Abukawa; Takatoshi Yamada
The 22nd International Vacuum Congress, Sep. 2022, Not invited

Modification of Graphene Sheet by Photoemission-Assisted Townsend Discharge Plasma
Akito Fukuda; Hisashi Koga; Ryuta Tsukazaki; Hisato Yamaguchi; Shuichi Ogawa; Susumu Takabayashi
The 22nd International Vacuum Congress, Sep. 2022, Not invited

Role of molecularly-adsorbed O₂ on oxidation at SiO₂/Si(001) interface
Yasutaka Tsuda; Akitaka Yoshigoe; Shuichi Ogawa; Tetsuya Sakamoto; Yuji Takakuwa
The 22nd International Vacuum Congress, Sep. 2022, Not invited

In-situ PEEM study of h-BN growth on Ni foil using backside to surface diffusion
Ryunosuke Yusa; Hiroaki Aoyama; Tetsuya Shimizu; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa
The 22nd International Vacuum Congress, Sep. 2022, Not invited

光電子分光法によるナノ炭素材料の電子状態／化学状態評価
小川修一
表面分析研究会第58回研究会, Jun. 2022, 表面分析研究会, Invited

Quantitative Evaluation of Dopant Concentration in n-type Potassium-doped graphene using SR-XPS
Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Yuki Okigawa; Tomoaki Masuzawa; Yasutaka Tsuda; Tetsuya Sakamoto; Akitaka Yoshigoe; Tadashi Abukawa
15th International Conference on New Diamond and Nano Carbons, Jun. 2022, Not invited

Gas Barrier Properties of Chemical Vapor-Deposited Graphene to Oxygen Imparted with Sub-eV Kinetic Energy
Shuichi Ogawa; Hisato Yamaguchi; Edward Holby; Takatoshi Yamada; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
2022 MRS Spring Meeting & Exhibit, May 2022, Not invited

SiO₂/Si(001)界面酸化反応におけるn型とp型の比較
津田 泰孝; 小川 修一; 吉越 章隆; 坂本 徹哉; 冨永 亜希; 山本 善貴; 山本 幸男; 高桑 雄二
第69回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2022, Not invited

リアルタイム光電子分光法による表面反応キネティクスの複合解析
小川修一
令和 3 年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2022, Invited

Ni箔上に表面偏析成長させたh-BNの光電子顕微鏡その場観察
遊佐龍之介; 志水哲也; 小川修一; 虻川匡司
令和3年度⽇本表⾯真空学会東北・北海道⽀部学術講演会, Mar. 2022, Not invited

Changes of rate-limiting reactions with progress of the reduction process on oxidized Ni(111)
Shuichi Ogawa; Ryo Taga; Ryunosuke Yusa; Yasutaka Tsuda; Tetsuya Sakamoto; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa; Tadashi Abukawa
The 9th International Symposium on Surface Science, Dec. 2021, Not invited

Molecular beams study on satellite peak observed in O1s photoelectron spectra for Si(001)2×1 surface oxidation at room temperature
Akitaka Yoshigoe; Yas utaka Tsuda; Aki Tominaga; Tetsuya Sakamoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
The 9th International Symposium on Surface Science, Nov. 2021, Not invited

PEEM study of the growth process of h-BN and graphene on Ni foil for fabrication of graphene/h-BN heterostructure
Ryunosuke Yusa; Tetsuya Shimizu; Shuichi Ogawa; Tadashi Abukawa
The 9th International Symposium on Surface Science, Nov. 2021, Not invited

Comparison of the oxidation reaction kinetics between SiO2/n- and p-Si(001) interfaces
Yasutaka Tsuda; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Tetsuya Sakamoto; Yuji Takakuwa
The 9th International Symposium on Surface Science, Nov. 2021, Not invited

Initial oxidation structure analysis of Si(111)-7×7 surface
Takeuchi Soichiro; Akitaka Yoshigoe; Yasutaka Tsuda; Yusuke Hashimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa; Syunjo Koga; Masaki Tanaka; Sun Zexu; Tomohiro Matsushita
13th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '21, Oct. 2021, Not invited

光電子ホログラフィーを用いたSi(111)-7×7表面の初期酸化構造解析
竹内走一郎; 古賀峻丞; 田中晶貴; 孫澤旭; 津田泰孝; 小川修一; 髙桑雄二; 橋本由介; 室隆桂之; 吉越章隆; 松下智裕
日本物理学会2021年秋季大会, Sep. 2021, Not invited

Ni箔上へのグラフェン/h-BNヘテロ成長のPEEMによるその場観察
遊佐龍之介; 志水哲也; 小川修一; 虻川匡司
日本物理学会2021年秋季大会, Sep. 2021, Not invited

カリウム添加多層グラフェンの電気特性評価
山田 貴壽; 増澤 智昭; 小川 修一; 高桑 雄二; 沖川 侑揮
第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2021, Not invited

動的 Shirley 法を用いた二層グラフェン中微量ドーパントのXPS測定
小川 修一; 山田 貴壽; 沖川 侑揮; 増澤 智昭; 津田 泰孝; 吉越 章隆; 虻川 匡司
第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2021, Not invited

SiO₂/Si(001)界面のバンドベンディングへの酸素と放射光のON-OFF効果
津田 泰孝; 小川 修一; 吉越 章隆; 坂本 徹哉; 高桑 雄二
第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2021, Not invited

Si(001)2×1表面室温酸化に観られるO1s光電子スペクトルのサテライトピークと酸素分子の並進運動エネルギーの関係
吉越 章隆; 津田 泰孝; 冨永 亜希; 坂本 哲哉; 小川 修一; 髙桑 雄二
第82回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2021, Not invited

Introduction of real-time XPS for material processing
Shuichi Ogawa
MIRAI 2.0 R&I Week 2021, Jun. 2021, Invited

Characterization of K-doped multilayer graphene by wet process
T. Yamada; Y. Okigawa; K. Hatakeyama; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Masuzawa
International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2020/2021, Jun. 2021, Not invited

Si(551)基板上に形成されたSi(15 17 3)3x1ファセット表面の表面構造解析
青山大晃; 内藤完; 中塚聡平; 小川修一; 虻川匡司; 江口豊明; 服部賢; 服部梓; 黒田理人
日本物理学会第76回年次大会, Mar. 2021, Not invited

Ni箔上に成長するグラフェンおよびh-BNの光電子顕微鏡その場観察
遊佐龍之介; 志水哲也; 虻川匡司; 小川修一
日本物理学会第76回年次大会, Mar. 2021, Not invited

Ni(111)表面に形成したNiO膜の還元過程のリアルタイム光電子分光観察
張氷若; 小川修一; 吉越章隆; 高桑雄二
令和２年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2021, Not invited

Si(551)および(15 17 3)表面の構造解析
青山大晃; 内藤完; 中塚聡平; 小川修一; 虻川匡司; 江口豊明; 服部賢; 服部梓; 黒田理人
令和２年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2021, Not invited

Ni箔上におけるグラフェンおよびh-BNの光電子顕微鏡による成長観察
遊佐龍之介; 志水哲也; 小川修一; 虻川匡司
令和２年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2021, Not invited

ガスバリア特性評価のためのグラフェン用触媒金属膜の検討
小川修一; 山田貴壽; 津田泰孝; 吉越章隆; 虻川匡司
令和２年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2021, Not invited

Si(551)表面のW-RHEEDとSTMによる構造解析
内藤 完; 中塚 聡平; 小川 修一; 虻川 匡司; 江口 豊明; 服部 賢; 服部 梓; 黒田 理人
2020年日本表面真空学会学術講演会, Nov. 2020, Not invited

Si(551)表面の表面構造解析I
内藤 完; 中塚 聡平; 小川 修一; 虻川 匡司; 江口 豊明; 服部 賢; 服部 梓; 黒田 理人
日本物理学会 2020年秋季大会, Sep. 2020, Not invited

高エネルギーO₂分子ビームに対するCu上グラフェンのバリア性能評価
小川 修一; H. Yamaguchi; E. F. Holby; 山田 貴壽; 吉越 章隆; 高桑 雄二
第81回 応用物理学会 秋季学術講演会, Sep. 2020, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる窒素ドープ黒鉛薄膜の合成
芳賀義弥; 小川修一; 高桑雄二
令和元年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2020, Not invited

欠陥酸化を介した高エネルギーO₂分子のグラフェン膜透過
小川修一; 山田貴壽; H. Yamaguchi; E. F. Holby; 吉越章隆; 高桑雄二
令和元年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2020, Not invited

O2 pressure dependence of changes of band bending of p-NiO layer grown on Ni (111) surface studied by photoelectron spectroscopy
Bingruo Zhang\\; Shuichi Ogawa\\; Akitaka Yoshigoe\\; Yuji Takakuwa
8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces, Nov. 2019, Not invited

Role of stress and carrier in oxidation on Si surfaces
Jaiyi Tang; Yuki Sekihata; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
2019 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES – SCIENCE AND TECHNOLOGY –, Nov. 2019, Invited

H2 annealing effect on redaction of NiO films grown on Ni(111) surfaces
Bingruo Zhang; Nobuhisa Kamata; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
International Thin Films Conference 2019, Nov. 2019, Not invited

Photoemission-assisted plasma enhanced CVD Synthesis of nitrogen-doped graphite for Pt alternative catalyst
Shuichi Ogawa; Susumu Hashimoto; Yoshiya Haga; Xiang-Bin Han; Shen Ye; Yuji Takakuwa
International Thin Films Conference 2019, Nov. 2019, Not invited

東北次世代放射光施設の紹介
小川 修一
第2回日本表面真空学会若手部会研究会, Oct. 2019, Invited

Oxidation-induced Generation Kinetics of Point Defect on Si(001) Surfaces Observed in situ by UPS, XPS, and RHEED Combined with AES
Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
12th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '19, Oct. 2019, Invited

PEEM observation of band alignment on graphene/hexagonal boron nitride laminate structure
Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Ryo Kadowaki; Takashi Taniguchi; Tadashi Abukawa; Yuji Takakuwa
The 11th annual Recent Progress in Graphene and Two-dimensional Materials Research Conference, Oct. 2019, Not invited

Rapid-temperature-rising induced reduction of NiO film grown on Ni(111) surface
Bingruo Zhang; Nobuhisa Kamata; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2019, Not invited

Morphology changes of Cu surfaces by comparison of Ar+ and Xe+ ion irradiation induced by photoemission-assisted plasma
Saijian AJIA; Nobuhisa Kamata; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2019, Not invited

Mechanism of subnanometer level flattening of Cu surfaces with low energy Xe+ ions
Nobuhisa Kamata; Saijian Ajia; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
21st International Vacuum Congress, Jul. 2019, Not invited

Oxidation on Ni(111) studied by UPS and XPS
Bingruo Zhang; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Yuji Takakuwa
平成30年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2019, Not invited

光電子制御プラズマイオン源の放電機構の解明
蒲田修久; 阿加賽見; 小川修一; 高桑雄二
平成30年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2019, Not invited

リアルタイムXPSによるSi表面酸化プロセスの反応速度・酸化誘起歪みの同時観察
小川修一
2018年日本表面真空学会学術講演会, Nov. 2018, Invited

Interaction of DC Discharge Ar Plasma with Photoelectrons from UV-irradiated Au surface
N. Kamata; S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited

Behavior of Ni Vacancy during Oxidation on Ni(111) Surfaces
Binguo Zhang; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited

Band Alignment of Bulk h-BN/Graphene Measured by PEEM
Shuichi Ogawa; Takatoshi Yamada; Ryo Kadowaki; Takashi Taniguchi; Tadashi Abukawa; Yuji Takakuwa
14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited

Synthesis of Nitrogen-doped Graphite by Photoemission-assisted PECVD
Susumu Hashimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited

Flattening of Cu Surfaces with 26-eV Xe⁺ ion from Rq = 2.9 to 1.3 nm
Saijian Ajia; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited

O₂ Pressure Dependence of Oxidation Rate on p- and n-Si(001) Surfaces
Y. Sekihata; S. Ogawa; Y. Takakuwa
14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2018, Not invited

軟X線発光分光によるDLCの電子状態研究III
寺内正己; 小川修一; 橋本 晋; 高桑雄二
日本物理学会2018年秋季大会, Sep. 2018, Not invited

Synthesis of Carbon nitrogen films using photoemission-assisted plasma enhanced CVD using nitrogen diluted methane
Susumu Hashimoto; Rintaro Sugimoto; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
29th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2018, Not invited

O₂ pressure dependence of initial oxidation kinetics on Ni(111) surfaces
S. Ogawa; R. Taga; T. Ozaki; A. Yoshigoe; Y. Takakuwa
The 34th European Conference on Surface Science, Aug. 2018, Not invited

Photo-induced enhancement of oxidation on p- and n-type Si(001) surfaces
Y. Sekihata; S. Ogawa; A. Yoshigoe; R. Taga; A. Klyushin; E. Carbonio; A. Knop-Gericke; Y. Takakuwa
The 34th European Conference on Surface Science, Aug. 2018, Not invited

Space charge effect on photoemission-assisted Ar plasma
N. Kamata; S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
31st International Vacuum Nanoelectronics Conference, Jul. 2018, Not invited

リアルタイム光電子分光による表面反応プロセスの解明
小川 修一
2018年度微細構造解析プラットフォームシンポジウム, Jul. 2018, Invited

SXESによるDLCの電子状態の研究
寺内正己; 小川修一; 橋本晋; 高桑雄二
第74回日本顕微鏡学会 学術講演会, May 2018, Not invited

極薄酸化Ni(111)表面の還元過程：真空およびH₂中加熱の比較
多賀稜; 小川修一; 尾崎司; 吉田光; 吉越章隆; 髙桑雄二
第65回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018, Not invited

Ni(111)表面初期酸化過程のリアルタイム光電子分光観察
尾崎司; 多賀稜; 小川修一; 高桑雄二
平成29年度日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2018, Not invited

光電子制御プラズマを用いた低速Ar⁺イオン／Ar原子ビームの開発
蒲田修久; 阿加賽見; 小川修一; 高桑雄二
平成29年度日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2018, Not invited

Two-step treatments of photoemission-assisted plasma irradiation for Cu/Si surfaces smoothing
S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
10th Anniversary Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 11th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science, Mar. 2018, Not invited

Comparoson of the oxidation kinetics between p- and n-tupe Si(001) surfaces
Y. Sekihata; S. Ogawa; A. Yoshigoe; R. Yaga; A. Klyushin; E. Carbonio; A. Knop-Gerike; Y. Takakuwa
International Workshop on Mineral Processing and Metallurgy 2018, Mar. 2018, Not invited

Photo-Induced Enhancement of Oxidation on p- and n-type Si(001) surfaces
Y. Sekihata; S. Ogawa; Y. Akitaka; R. Taga; A. Klyushin; E. Carbonio; A. Knop-Gericke; Y. Takakuwa
2017 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices, Nov. 2017, Not invited

Photoemission-assisted plasma CVD growth of N-doped diamond like carbon films on Si substrates
S. Hashimoto; R. Sugimoto; S. Ogawa; Y. Takakuwa
39th International Symposium on Dry Process, Nov. 2017, Not invited

O2 Pressure Dependence of SiO2/Si Interfacial Oxidation Rate Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
AVS 64th International Symposium & Exhibition 2017, Nov. 2017, Not invited

Real-time Photoelectron Spectroscopy Observation of Oxidation and Reduction Kinetics of Ni(111) Surface
R. Taga; S. Ogawa; Y. Takakuwa
AVS 64th International Symposium & Exhibition 2017, Oct. 2017, Not invited

Comparison of Initial Oxidation Kinetics between p- and n-type Si(001) Surfaces Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
Y. Sekihata; S. Ogawa; A. Yoshigoe; R. Taga; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
AVS 64th International Symposium & Exhibition 2017, Oct. 2017, Not invited

Mechanism of initial thermal oxidation on Si(113) surfaces
A. Ogawa; H. Tanaka; S. Ohno; M. Tanaka; K. Miki; S. Ogawa; Y. Takakuwa
The 8th International Symposium on Surface Science, Oct. 2017, Not invited

Temperature Dependence of Thermal Reduction Kinetics of Oxidized Ni(111) Surfaces Studied by in-situ UPS and XPS
R. Taga; S. Ogawa; Y. Takakuwa
The 8th International Symposium on Surface Science, Oct. 2017, Not invited

Synthesis of Oxygen-doped DLC using CH4/Ar photoemission-assisted plasma CVD with CO2 doping gas
S Ogawa; R. Sugimoto; N. Kamata; Y. Takakuwa
2017 International Thin Film Conference, Oct. 2017, Not invited

Growth of nitrogen doped DLC by photoemission-assisted plasma CVD with N2 gas
S. Hashimoto; R. Sugimoto; S. Ogawa; Y. Takakuwa
2017 International Thin Film Conference, Oct. 2017, Not invited

軟X線発光分光によるDLCの電子状態研究
寺内 正己; 小川 修一; 橋本 晋; 高桑 雄二
日本物理学会 秋季大会, Sep. 2017, Not invited

Valence band evaluation of graphene using in-situ photoelectron spectroscopy with non-monochromatic He I line
S. Ogawa; T. Yamada; R. Taga; A. Yoshigoe; Y. Takakuwa
The 9th annual Recent Progress in Graphene and Two-dimensional Materials Research Conference, Sep. 2017, Not invited

酸化Ni(111)表面の還元過程：水素雰囲気と真空雰囲気の比較
多賀 稜; 小川 修一; 高桑 雄二
第78回応用物理学会 秋季学術講演会, Sep. 2017, Not invited

圧力急増によるSiO₂/Si(001)界面酸化促進とその律速過程の解明
小川 修一; 高桑 雄二
第78回応用物理学会 秋季学術講演会, Sep. 2017, Not invited

水素暴露による酸化 Ni(111)表面還元過程のリアルタイム光電子分光観察
多賀 稜; 小川 修一; 高桑 雄二
日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2017, Not invited

光電子制御プラズマＣＶＤ装置の開発
布川 雄一; 後藤 忠彦; 荒舘 笙; 杉本 倫太朗; 小川 修一; 高桑 雄二
日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2017, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる窒素ドープDLCの合成
橋本 晋; 杉本 倫太朗; 小川 修一; 高桑 雄二
日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2017, Not invited

リアルタイム光電子分光によるSi(001)基板初期酸化過程におけるp型n型伝導度依存の解明
堰端 勇樹; 多賀 稜; 小川 修一; 高桑 雄二
日本表面科学会 東北・北海道支部講演会, Mar. 2017, Not invited

光電子顕微鏡を用いた グラフェン/h-BNからの電子放出過程の解明
小川 修一
新学術領域「原子層科学」 第８回全体領域会議,, Jan. 2017, Not invited

Si(100)表面室温酸化中の「分子状吸着酸素」の発見
吉越章隆; 多賀稜; 小川修一; 高桑雄二
東北大学金属材料研究所共同利用研究ワークショップ「３GeV 高輝度放射光SLiT-J と産学協創」, Dec. 2016, Not invited

Si(100)表面室温酸化中の「分子状吸着酸素」の発見 -放射光が30年来の謎を解く-
吉越章隆; 多賀稜; 小川修一; 高桑雄二
第16回東北大学多元物質科学研究所 研究発表会, Dec. 2016, Not invited

CO₂/CH₄/Ar 混合ガスを用いた光電子制御プラズマ CVD による酸素ドープ DLC 薄膜の合成
杉本 倫太朗; 橋本 晋; 小川 修一; 竹野 貴法; 足立 幸志; 高桑 雄二
2016年（平成28年）応用物理学会東北支部 第71回学術講演会, Dec. 2016, Not invited

表面機能・ナノプロセス観察ビームライン
小川 修一
SLiT-J エンドステーション・デザインコンペ 公開シンポジウム, Nov. 2016, Invited

Interface oxidation enhancement at SiO₂/Si(001) by raising O₂ pressure
S. Ogawa; J. Tang; R. Taga; Y. Takakuwa
The 13th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2016, Not invited

Effect of oxygen doping on chemical bonding and mechanical properties of CVD-grown DLC films
R. Sugimoto; H. Abe; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
The 13th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Oct. 2016, Not invited

Si(113) 表面酸化における表面構造と電子状態の解析
小川 新; 田中 博也; 大野 真也; 田中 正俊; 三木 一司; 小川 修一; 高桑 雄二
2016年度応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2016, Not invited

RHEED による極性表面の識別
堀尾 吉已; 柚原 淳司; 安部 功二; 高桑 雄二; 小川 修一
2016年度応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2016, Not invited

RHEEDによるZnO(0001)極性表面の識別
堀尾吉已; 柚原淳司; 高桑雄二; 小川修一; 安部功二
日本物理学会2016年秋季大会, Sep. 2016, Not invited

Chemical bonding and mechanical properties of O-doped DLC films synthesized by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
R. Sugimoto; H. Abe; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
The 15th International Conference on Plasma Surface Engineering, Sep. 2016, Not invited

Temperature dependence of chemical bonding and mechanical property of DLC films grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
R. Sugimoto; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2016, Not invited

Comparative Study of O₂ Adsorption Kinetics on p- and n-Si(001) Surfaces at Room Temperature
R. Taga; K. Nishimoto; J. Tang; Z. Yu; S. Ogawa; Y. Takakuwa
The 20th International Vacuum Congress, Aug. 2016, Not invited

Chemical Bonding and Mechanical Property of CVD-Grown DLC Films Controlled by Temperature and Oxygen Doping
R. Sugimoto; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
The 20th International Vacuum Congress, Aug. 2016, Not invited

Dissociative Adsorption and Desorption Kinetics of NO on Clean and Oxidized Ni(111) Surfaces
R. Taga; S. Ogawa; Y. Takakuwa
The 20th International Vacuum Congress, Aug. 2016, Not invited

Temperature dependence of chemical bonding and mechanical property of DLC films grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
R. Sugimoto; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
2016 International Conference on Diamond and Carbon Materials, Aug. 2016, Not invited

Chemical and mechanical properties of DLC films grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
R. Sugimoto; Connor S. Liston; S. Ogawa; T.Takeno; K. Adachi; Yuji Takakuwa
CWRU-TU 3rd Joint workshop, Aug. 2016, Not invited

Photoemission-assisted plasma-enhanced CVD growth of diamond-like carbon films and its characterization
R. Sugimoto; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Muramatsu; Y. Takakuwa
The 10th International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2016, May 2016, Not invited

Synthesis of oxyhen doped diamond-like carbon films by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
H. Abe; R. Sugimoto; S. Ogawa; Y. Takakuwa
The 13th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology, May 2016, Not invited

Sputtering yield of low energy photoemission-assisted plasma Ar+-ion source for surface smoothing
S. Ajia; Y. Kotanigawa; S. Ogawa; Y. Takakuwa
The 13th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology, May 2016, Not invited

RHEEDによるZnO(0001)表面緩和の構造解析
堀尾 吉已; 柚原 淳司; 安部 功二; 高桑雄二; 小川修一
第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016, Not invited

光電子制御プラズマCVDを用いたCO₂ による酸素ドープDLC膜の合成
阿部寛生; 杉本倫太朗; 小川修一; 高桑雄二
Mar. 2016, Not invited

Ni(111)表面でのNO解離吸着過程への表面酸素の影響
多賀稜; 小川修一; 高桑雄二
平成27年度日本表面科学会 東北・北海道支部学術講演会, Mar. 2016, Not invited

Sputtering Effect and Enhancement of Surface Migration Induced by Low Energy Photoemission-Assisted Plasma Ion Source
S. Ajia; Y. Kotanigawa; S. Ogawa; Y. Takakuwa
8th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 9th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science, Mar. 2016, Not invited

p型とn型Si(001)表面室温酸化におけるO2解離吸着過程の比較
多賀 稜; 唐 佳芸; Yu Zhou; 小川 修一; 髙桑 雄二
第35回表面科学学術講演会, Dec. 2015, Not invited

RHEEDによるZnO(0001)表面構造解析
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一; 安部功二
第35回表面科学学術講演会, Dec. 2015, Not invited

Rapid Temperature Oxidation at SiO₂/Si(001) Interface Studied by Real-Time X-Ray Photoelectron Spectroscopy: Rapid Cooling Versus Rapid Heating
J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
2015 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES – SCIENCE AND TECHNOLOGY –, Nov. 2015, Not invited

Auger Intensity Anomalies from ZnO(0001) Surface Excited by RHEED Incident Beam
Y. Horio; Y. Takakuwa; S. Ogawa; K. Abe
10th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15, Oct. 2015, Not invited

Strain-induced Reaction Kinetics of O₂ Molecule at SiO₂/Si Interfaces studied by Real-time X-ray Photoelectron Spectroscopy
J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
10th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’15, Oct. 2015, Not invited

Development of high pressure X-ray photoelectron spectroscopy with Cr and Al Dual X-ray sources
L. Zhang; T. Takeno; S.Ogawa; K. Adachi; K. Kurihara; Y. Takakuwa
16th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis, Sep. 2015, Not invited

RHEED励起によるZnO(0001)表面からのBRAESプロファイル
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一; 安部功二
日本物理学会2015年秋季大会, Sep. 2015, Not invited

中速電子回折と表面波共鳴との相関性
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2015, Not invited

Interaction of Au(200 nm)/Si surface with photoemission-assisted plasma ion source: the surface flattening effect of He+, Ar+, Kr+, and Xe+ ions
Y. Kotanigawa; X. Ajiasaijian; S. Ogawa; Y. Takakuwa
31st European Conference on Surface Science, Sep. 2015, Not invited

Ultraviolet photoelectron spectroscopy study of Cu(200 nm)/Si substrates treated by Ar ion sputtering and vacuum annealing
X. Ajiasaijian; Y. Kotanigawa; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
31st European Conference on Surface Science, Sep. 2015, Not invited

Strain-induced oxide decomposition at SiO₂/Si(001) and SiO₂/Si(111) interfaces studied by X-ray photoelectron spectroscopy and scanning tunnelling microscopy
J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
31st European Conference on Surface Science, Sep. 2015, Not invited

Comparison of photoemission-assisted plasma discharge characteristics between n-type and p-type diamond surfaces
M. Kawata; A. Ohno; S. Ogawa; Y. Takakuwa
13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Not invited

Estimation of critical ion energy for surface planarization process using photoemission-assisted plasma ion source
Y. Kotanigawa; S. Ajia; S. Ogawa; Y. Takakuwa
13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Not invited

Ion incident energy dependence for Cu surface smoothing using Ar+ ions generated by photoemission-assisted plasma
S. Ajia; Y. Kotanikawa; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
13th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Jul. 2015, Not invited

Oxygen Doping into Networked Nanographite by using Photoemission Assisted Plasma Enhanced CVD with CO2 doping Gas
Y.Ojiro; S.Ogawa; T.Muro; Y. Takakuwa
9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, May 2015, Not invited

Electronic and Chemical States Changes During Formation of Graphene on Diamond C(111) Substrates Measured by XPS
S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, May 2015, Not invited

Discharge characteristics and growth of diamond using high-pressure glow discharge mediated photoemission-assisted plasma
A. Ohno; M. Kawata; S. Ogawa; Y. Takakuwa
9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, May 2015, Not invited

Mechanical Property and Chemical configuration of diamond-like carbon films grown by photoemission-assisted plasma enhanced CVD
R. Sugimoto; H. Hayashi; S. Ogawa; T. Takeno; K. Adachi; Y. Takakuwa
9th International Conference on New Diamond and NanoCarbons 2015, May 2015, Not invited

HAXPES study of the CVD growth kinetics of networked nanographite on SiO2(90 nm)/Si: CH4/Ar and CH4/H2 gases
Y. Ojiro; M. Inukai; S. Ogawa; M. Sato; E. Ikenaga; T. Muro; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
HAXPES2015, Mar. 2015, Not invited

Thickness and chemical bonding states of thick nanographitite on SiO2(90 nm)/Si evaluated by HAXPES
S. Ogawa; Y. Ojiro; M. Inukai; E. Ikenaga; T. Muro; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
HAXPES2015, Mar. 2015, Not invited

細胞への自動インジェクション装置実現のための要素技術開発
高見知秀; 尾白佳大; 西本究; 小川佳英; 小山真人; 小川修一; 高桑雄二; 斉藤美佳子; 松岡英明; 楯真一
日本物理学会第70回年次大会, Mar. 2015, Not invited

EF-MEEDによるGeハットクラスタの観察
堀尾吉已; 田代将人; 高桑雄二; 小川修一
日本物理学会第70回年次大会, Mar. 2015, Not invited

SiO₂/Si(001)界面酸化プロセスにおける熱歪みの寄与
小川 修一; 唐 佳芸; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 寺岡 有殿; 高桑 雄二
第62回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2015, Not invited

ガラスナノピペットにおける希ガスの真空コンダクタンス
高見 知秀; 西本 究; 後藤 忠彦; 小川 修一; 高桑 雄二
第62回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2015, Not invited

光電子制御ArプラズマによるAu 表面平坦化処理の効果
小谷川祐貴; 阿加賽見; 小川修一; 高桑雄二
平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2015, Not invited

CVD多層グラフェンのXAFSとXPSによる解析：結晶配向性と電気抵抗率の相関
尾白佳大; 小川修一; 室隆桂之; 高桑雄二
平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2015, Not invited

光電子制御プラズマCVD合成DLC膜の機械特性と化学状態の関係性
杉本倫太朗; 林広幸; 小川修一; 竹野貴法; 足立幸志; 高桑雄二
平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2015, Not invited

ｐ型ダイヤモンド表面での光電子制御プラズマ放電特性の解明
大野敦子; 川田麻由梨; 小川修一; 高桑雄二
平成26年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2015, Not invited

「その場」観察光電子分光によるグラフェン・オン・ダイヤモンド構造作製プロセスの解明
小川 修一
多元物質科学研究所若手交流講演会, Jan. 2015, Invited

RHEED励起オージェ電子分光法の開発と応用
堀尾 吉已; 高桑 雄二; 小川 修一; 田代 将人
第14回東北大学多元物質科学研究所研究発表会, Dec. 2014, Not invited

ナノカーボン材料開発における硬X線および軟X線光電子分光法の活用
小川 修一
日本真空学会 2014年12月研究例会, Dec. 2014, Invited

ラングミュアプローブ法による光電子制御Arプラズマの放電特性評価
小谷川 祐貴; 阿加 賽見; 小川 修一; 高桑 雄二
Plasma Conference 2014, Nov. 2014, Not invited

Ion Mass Dependence of Surface Planarization by Photoemission-Assisted Plasma Ion Source with He+, Ar+ and Kr+
Saijian Ajia; Yuki Kotanigawa; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
Plasma Conference 2014, Nov. 2014, Not invited

Oxide Growth Kinetics at SiO₂/Si(001) Interfaces Induced by Rapid Temperature Raising
S. Ogawa; J. Tang; A. Yoshigoe; K. Nishimoto; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
AVS 61st International Symposium and Exhibition, Nov. 2014, Not invited

Enhancement of Surface Migration by Photoemission-assisted Plasma for Atomic-Scale Surface Smoothing
A. Saijian; Yuki Kotanikawa; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
AVS 61st International Symposium and Exhibition, Nov. 2014, Not invited

ガラスナノピペット先端表面の改質と顕微ラマン分光法による分析評価
高見知秀; 尾白佳大; 小川佳英; 小川修一; 高桑雄二; 斉藤美佳子; 松岡英明; 楯真一
第34回表面科学学術講演会, Nov. 2014, Not invited

温度増加によるSiO₂/Si(001)界面酸化増速機構の観察
小川修一; 唐佳芸; 西本究; 高桑雄二
第34回表面科学学術講演会, Nov. 2014, Not invited

Development of a Laboratory-based Cr X-ray Source for Ambient-Pressure HAXPES
L. Zhang; T. Takeno; S. Ogawa; K. Adachi; K. Kurihara; Y. Takakuwa
The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited

Effect of Oxidation-Induced Strain on Thermal Decomposition of Ultrathin Oxide Grown on Si(111) and Si(111) Surfaces
J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; K. Nishimoto; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited

Electric Resistivity Decrement of Networked Nano Graphite on DLC Surface Grown by Photoemission Assisted Plasma Enhanced CVD
Y. Ojiro; H. Honma; S. Ogawa; Y. Takakuwa
The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited

Surface modification of glass nanopipette with chlorobenzene-terminated polysiloxane
T. Takami; Y. Ojiro; Y. Ogawa; S. Ogawa; Y. Takakuwa; M. Saito; H. Matsuoka; S. Tate
The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited

RHEED Patterns Calculated for Pt Nano Clusters on TiO2(110) Substrate
Y. Horio; Y. Watanabe; Y. Takakuwa; S. Ogawa
The 7th International Symposium on Surface Science, Nov. 2014, Not invited

実験準大気圧硬X線光電子分光のためのCr-X線発生装置の開発
張 蕾; 竹野貴法; 小川修一; 足立幸志; 栗原和枝; 高桑雄二
第50回X線分析討論会, Oct. 2014, Not invited

Reaction kinetics of oxygen molecule at SiO2/Si(111) interface monitored in real time by X-ray photoelectron spectroscopy
J. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; K. Nishimoto; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
16th International Conference on Thin Films, Oct. 2014, Not invited

光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト合成と低抵抗化への挑戦
小川 修一
2014年電気化学秋季大会, Sep. 2014, Invited

若手放射光ユーザーの視点：その場観察光電子分光の現状と希望
小川 修一
第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Invited

ダイヤモンドライクカーボン薄膜のラマン解析 (II): 電気特性との関係性
鷹林 将; 林 広幸; 楊 猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited

ダイヤモンドライクカーボン薄膜のラマン解析 (I): 関数解析について
鷹林 将; 林 広幸; 楊 猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited

ダイヤモンライクカーボン薄膜へのナノ制御ドーピング
鷹林 将; 林 広幸; 楊 猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited

Thermal Decomposition Reaction Mechanism of Ultrathin Oxide on Si(111)
唐 佳芸; 小川修一; 吉越章隆; 西本 究; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited

RHEED鏡面反射電子に対する表面プラズモンの異常励起
堀尾吉已; 原 朋尚; 高桑雄二; 小川修一
第75回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2014, Not invited

Ar+ Ion Flux Dependence of Surface Morphology of Cu Surface Treated by Photoemission-Assisted Plasma
Xxx Ajiasaijian; Yuki Kotanikawa; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
13th European Vacuum Conference, Sep. 2014, Not invited

Quick-Cooling Induced Accelaration of Oxidation on Si(001) Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy
Jiayi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinnji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
13th European Vacuum Conference, Sep. 2014, Not invited

Growth mechanism of graphene on Cu(111) substrates studied by in-situ photoelectron spectroscopy
S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
25th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2014, Not invited

Decrease mechanism of the resistivity of networked nanographite grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD using CH4/Ar and CH4/H2
Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
25th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2014, Not invited

DLC synthesis by Photoemission-assisted plasma enhanced CVD: CH4 concentration dependence of dielectric constant
H. Hayashi; S. Takabayashi; M. Yang; R. Jesko; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
25th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Sep. 2014, Not invited

EF-MEED装置の開発
堀尾吉已; 田代将人; 高桑雄二; 小川修一
日本物理学会2014年秋季大会, Sep. 2014, Not invited

Migration Enhancement of Cu atom during Surface Flattening by Photoemission-Assisted Plasma Ion Source with He, Ar and Kr Gases
X. Ajiasaijian; Y. Kotanikawa; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
30th European Conference on Surface Science, Sep. 2014, Not invited

Temperature Dependence of Oxidation Reaction Paths on Si(111)7×7 Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy and Theoretical Calculations
J. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishiduka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
30th European Conference on Surface Science, Sep. 2014, Not invited

光電子制御プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜低温合成
川田 麻由梨; 尾白 佳大; 小川 修一; 増澤 智昭; 岡野 健; 高桑 雄二
第52回炭素材料夏季セミナー, Aug. 2014, Not invited

光電子制御プラズマCVDによるFETゲート絶縁膜用DLC薄膜の合成
林 広幸; 鷹林 将; 楊 猛; 小川 修一; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
第52回炭素材料夏季セミナー, Aug. 2014, Not invited

多層グラフェンのCVD成長過程および電気特性に与えるキャリアガスの影響に関する研究
尾白 佳大; 小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
第52回炭素材料夏季セミナー, Aug. 2014, Not invited

Real-Time Electronic Structure Evolution of Thermally Reduced Graphene Oxide
H. Yamaguchi; D. Watanabe; S. Ogawa; H. Hozumi; L. Adamska; G. Eda; C. Mattevi; T. Yamada; M. Chhowalla; A. M Dattelbaum; G. Gupta; A. D Mohite; K. A Velizhanin; Y. Takakuwa
2014 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2014, Not invited

Self-accelerating oxidation at oxide/Si(111) interfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy
唐 佳芸; 西本 究; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2014, Not invited

金属ナノクラスタに対するRHEED図形シミュレーション
堀尾吉已; 渡邊佳英; 高桑雄二; 小川修一
2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2014, Not invited

真空加熱実験に基づくグラフェン/Cu(111)エピタキシャル成長機構の考察
小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 吉越章隆; 長谷川雅孝; 寺岡有殿; 高桑雄二
2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2014, Not invited

光電子制御プラズマCVDによるゲートスタック用DLCの誘電率制御：Low-kからHigh-kまで
林 広幸; 鷹林 将; 楊 猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2014, Not invited

光電子分光によるCu(111)基板上グラフェン成長過程の解明
小川 修一
平成25年度文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業微細構造解析プラットフォーム 第2回利用研究セミナー, Mar. 2014, Invited

光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト／DLC膜合成の研究
本間寛人; 尾白佳大; 小川修一; 高桑雄二
日本表面科学会平成25年度東北・北海道支部講演会, Mar. 2014, Not invited

リアルタイム光電子分光によるNi(111)表面およびRh(111)表面酸化機構の比較
渡邉彩香; 渡辺大輝; 林広幸; 小川修一; 高桑雄二
日本表面科学会平成25年度東北・北海道支部講演会, Mar. 2014, Not invited

リアルタイム光電子分光によるSi表面酸化反応機構の解明
小川 修一
日本鉄鋼協会シンポジウム「放射光を用いたナノ・ミクロの表面・バルク解析」～ソフト・ハードX線による極限的評価～」, Jan. 2014, Invited

グラフェンFET用DLCの光電子制御プラズマCVDプロセスの開発
林 広幸; 鷹林 将; 楊 猛; イエシュコ ラデク; 小川 修一; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
第19回ゲートスタック研究会, Jan. 2014, Not invited

硬X線光電子分法、偏光X線吸収分光法および赤外線吸収分光法による SiO₂上への多層グラフェン成長機構の研究
尾白佳大; 小川修一; 犬養学; 佐藤元伸; 池永英司; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二
平成２５年度放射光表面科学研究部会・顕微ナノ材料科学研究会合同シンポジウム, Dec. 2013, Not invited

光電子制御プラズマCVDによるダイヤモンドの低温気相合成：Arガスの効果
川田麻由梨; 尾白佳大; 小川修一; 増澤智昭; 岡野健; 高桑雄二
第68回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2013, Not invited

グラフェンチャネルFET用DLC膜の誘電率制御
林広幸; 鷹林将; 楊猛; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
第68回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2013, Not invited

Real-Time XPS Study of Reduction of Graphene Oxide: Effect of Hydrazine Treatment
D. Watanabe; S. Ogawa; H. Yamaguchi; H. Hozumi; C. Mattevi; A. Yoshigoe; S. Ishizuka; Y. Teraoka; T. Yamada; M. Chhowalla; Y. Takakuwa.
2013 MRS Fall Meeting Exhibit, Dec. 2013, Not invited

Self-ccelerating Oxidation on Si(111)7×7 Surfaces Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy and Molecular Orbital Calculations
J. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
9th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '13, Dec. 2013, Not invited

Residual Nitrogen Evaluation on NO Adsorbed Ni(111) and Rh(111) Surfaces using Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy
S. Ogawa; D. Watanabe; J. Tang; S. Matsumoto; H. Hirata; Y. Takakuwa
9th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '13, Dec. 2013, Not invited

Auger Intensity Anomalies from Si(001)2×1 Surface Excited by Wave-Field of RHEED
Y. Horio; Y. Takakuwa; S. Ogawa
9th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '13, Dec. 2013, Not invited

光電子制御プラズマCVDによるDLC膜合成機構：タウンゼント放電とグロー放電の比較
林広幸; 楊猛; 鷹林将; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
2013年真空・表面科学合同講演会, Nov. 2013, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェンの結晶性と電気特性：H2とArキャリアガスの比較
尾白佳大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2013年真空・表面科学合同講演会, Nov. 2013, Not invited

Evaluation of thickness and oxidation state of Graphene/Cu(111)/Al₂O₃ substrates using photoelectron spectroscopy
S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
6th International Symposium on Practical Surface Analysis, Nov. 2013, Not invited

Tuning of the Dielectric Constant of Diamond-Like Carbon Films Synthesized by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
H. Hayashi; S. Takabayashi; M. Yang; R. Jesko; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
2013 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES - SCIENCE AND TECHNOLOGY -, Nov. 2013, Not invited

Relaxation of Dimer Structure on Si(001)2x1 Surface at High Temperature
Y. Horio; Y. Takakuwa; S. Ogawa; M. Tashiro
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited

Angle-resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Oxide Formation at Epitaxial Graphene/Cu(111) Interface Exposed to the Atmosphere
S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited

Protrusion Formations on Cu and Si Surfaces by Irradiation of Photoemission- Assisted Ar Plasma
S. Ajia; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited

Temperature Dependence of Strained Si Atoms at SiO₂/Si(111) Interface Studied by Real-time X-ray Photoelectron Spectroscopy
J.Y. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited

Formation of a δ-Doped Diamond-Like Carbon Film with a Modulation-doped Gate Dielectric Structure
S. Takabayashi; H. Hayashi; M. Yang; R. Jesko; R. Shishido; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited

Growth Mechanism Analysis and Precise Control of Electrical and Optical Characteristics of Diamond-Like Carbon Films
S. Takabayashi; H. Hayashi; M. Yang; R. Jesko; S. Ogawa; T. Otsuji; Y. Takakuwa
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited

Thermal Stability of Thick DLC Dielectric Films for Graphene-Channel THz Laser Prepared by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
R. Jesko; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etoh; Y. Kurita; T. Otsuji; Y. Takakuwa
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited

Characterization of Amorphous Selenium p-n Junction Fabricated Using Bidirectional Electrolysis in NaCl aq.
M. Onishi; I. Saito; K. Komiyama; K. Takeno; W. Miyazaki; T. Ebisudani; T. Masuzawa; A.T. Koh; D.C. Chua; T. Yamada; N. Sano; Y. Mori; S. Ogawa; Y. Takakuwa; K. Okano
12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2013, Not invited

高温Si(001)2×1表面の多波RHEED法による構造解析
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一; 田代将人
日本物理学会2013年秋季大会, Sep. 2013, Not invited

Nanometer-Scale Modification of Si and Cu Surfaces by Photoemission-Assisted Ar-Plasma: Enhancement of Surface Adatom Diffusion
S. J. Ajia; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
2013 JSAP-MRS Joint Symposia, Sep. 2013, Not invited

RHEED による高温でのSi(001)表面構造解析
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一; 田代将人
第74回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2013, Not invited

光電子制御プラズマ CVD 法による δ- ドープダイヤモンドライクカーボン薄膜の作製
鷹林将; 楊 猛; 林広幸; ラデク イェシコ; 小川修一; 尾辻泰一; 高桑雄二
第74回応用物理学会秋季学術講演会, Sep. 2013, Not invited

Real-time Photoelectron Spectroscopy and First-principle Calculations Study of Very Thin Oxide Formation on Si(111)7X7 Surfaces
J. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
2013 JSAP-MRS Joint Symposia, Sep. 2013, Not invited

Catalytic graphene growth mechanism on epitaxial Cu(111)/Al₂O₃(0001) substrate
S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
The 5th International Conference on Recent Progress in Graphene Research, Sep. 2013, Not invited

Career gas effect on the CVD growth kinetics and electric properties of multilayer graphene and networked nanographite: Ar versus H₂
Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
The 5th International Conference on Recent Progress in Graphene Research, Sep. 2013, Not invited

Dissociation reaction kinetics of metastable oxygen molecule on partially oxidized Si(111) surfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy
K. Nishimoto; J. Y. Tang; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
19th International Vacuum Congress, Sep. 2013

Langmuir-probe analysis of photoemission-assisted Ar plasma for planarization process
A. Saijian; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
19th International Vacuum Congress, Sep. 2013, Not invited

Phase Transition of Oxide Growth on Si(111)7×7 Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy and Theoretical Calculations"
J. Y. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
19th International Vacuum Congress, Sep. 2013, Not invited

High Sensitivity Photodetector Made of Amorphous Selenium and Diamond Cold Cathode
T. Masuzawa; I. Saito; M. Onishi; T. Ebisudani; A.T.T. Koh; D.H.C. Chua; T. Yamada; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Shimosawa; K. Okano
The 25th International Conference on Amorphous and Nano-crystalline Semiconductors, Aug. 2013, Not invited

Nonlinear O₂ pressure dependence of initial oxide growth on Si(111)7×7 and Si(001)2×1 surfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy and First-principles calculations
Jiayi Tang; Kiwamu Nishimoto; Shuichi Ogawa; Akitaka Yoshigoe; Shinji Ishidzuka; Yuden Teraoka; Yuji Takakuwa
38th International Conference on Vacuum Ultraviolet and X-ray physics, Jul. 2013, Not invited

Annealing-induced changes of the density of states at Fermi level of reduced graphene oxides studied by real-time photoelectron spectroscopy
D. Watanabe; S. Ogawa; H. Yamaguchi; H. Hozumi; C. Mattivei; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; T. Yamada; M. Chhowalla; Y. Takakuwa
38th International Conference on Vacuum Ultraviolet and X-ray physics, Jul. 2013

Low-temperature synthesis of diamond films by photoemission-assisted plasma-enhanced chemical vapor deposition
M. Kawata; Y. Ojiro; S. Ogawa; T. Masuzawa; K. Okano; Y. Takakuwa
The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, Jul. 2013, Not invited

Deposition of thick dielectric films of diamond-like carbon for graphene-channel THz laser by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
R. Jesko; M. Yang; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etou; Y. Kurita; T. Otsuji; Y. Takakuwa
The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, Jul. 2013, Not invited

Surface morphology improvement of Cu substrate by photoemission-assisted Ar+ ion beam and fast Ar0 atom beam
S. Ajia; Y. Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, Jul. 2013, Invited

a-Se based wide wave-range photodetector driven by diamond cold cathode
T. Masuzawa; I. Saito; M. Onishi; T. Yamada; S. Ogawa; Y. Takakuwa; A. T T Koh; D. H C Chua; Y. Mori; T. Shimosawa; K. Okano
The 26th International Vacuum Nanoelectronics Conference, Jul. 2013, Not invited

Vacuum annealing decomposition of graphene on Cu studied by in situ photoelectron spectroscopy
S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
The 14th International Conference on the Formation of Semiconductor Interface, Jul. 2013, Not invited

Temperature dependence of O₂ adsorption reaction path on Si(001) and Si(111): photoelectron spectroscopy observation and DV-Xa calculations
J.Y Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; D. Watanabe; Y. Teraoka; and Y. Takakuwa
The 14th International Conference on the Formation of Semiconductor Interface, Jul. 2013, Not invited

DC discharge characteristics on hydrogen terminated diamond surface with negative electron affinity
M. Kawata; Y. Ojiro; S. Ogawa; T. Masuzawa; K. Okano; Y. Takakuwa
The 14th International Conference on the Formation of Semiconductor Interface, Jul. 2013

Development of a Photoemission-Assisted Plasma Ion Source for Atomic-Scale Surface Planarization
AJIASAIJIAN X.; Ohtomo Y.; Ogawa S.; Takakuwa Y
Particle - surface interactions: from surface analysis to materials processing, Jun. 2013, Not invited

Analysis of Plasma Potential in Photoemission-Assisted Plasma Used for Dry Planarization Process
Saijian Ajia; Yudai Ohtomo; Shuichi Ogawa; Yuji Takakuwa
第60回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2013, Not invited

光電子制御プラズマCVDプロセスによるダイヤモンド薄膜合成
川田麻由梨; 尾白佳大; 小川修一; 増澤智昭; 岡野健; 高桑雄二
第60回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2013, Not invited

高温Si(001)2x1構造のRHEED解析
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
第60回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2013, Not invited

統合Si酸化反応モデルの実験的検証(6)：Si(111)における準安定吸着酸素分子の挙動
西本究; 唐佳芸; 小川修一; 吉越章越; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
第60回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2013, Not invited

ヒドラジン処理酸化グラフェンの真空加熱還元過程の光電子分光観察
渡辺大輝; 小川修一; 山口尚登; 穂積英彬; 江田剛輝; C. Mattevi; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 山田貴壽; M. Chhowalla; 高桑雄二
平成24年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2013, Not invited

Deposition of thick dielectric films of diamond-like carbon by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
R. Jesko; M. Yang; H. Hayashi; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Etou; Y. Kurita; T. Otsuji; Y. Takakuwa
平成24年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2013, Not invited

Si(111)表面上準安定吸着酸素分子の酸化膜被覆率依存
西本究; 唐佳芸; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
平成24年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2013, Not invited

テラヘルツ通信を志向したダイヤモンドライクカーボンゲート絶縁膜を有するグラフェンFET
江藤 隆紀; 鷹林 将; 栗田 裕記; 楊 猛; 林 広幸; イェシコ ラディック; 小川 修一; 高桑 雄二; 末光 哲也; 尾辻 泰一
「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 第18回研究会, Jan. 2013, Not invited

Si(111)表面酸化膜形成初期過程における非線形酸素圧力依存：酸化状態の光電子分光観察と分子軌道計算
唐 佳芸; 西本 究; 小川 修一; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 渡辺 大輝; 寺岡 有殿; 高桑 雄二
「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」 第18回研究会, Jan. 2013, Not invited

グラフェン加熱形成過程のリアルタイム光電子分光観察
小川修一
物性分光研究会 ～薄膜作成とその物性およびその評価～, Jan. 2013, Invited

光電子制御プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜合成プロセスの開発
川田麻由梨; 尾白佳大; 小川修一; 増澤智昭; 岡野健; 高桑雄二
応用物理学会東北支部講演会, Dec. 2012, Not invited

Si(111)表面酸化における準安定吸着酸素分子の解離反応キネティクス
西本究; 唐佳芸; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
応用物理学会東北支部講演会, Dec. 2012, Not invited

ドライ研磨用光電子制御プラズマの放電機構の解明
阿加賽見; 大友悠大; 小川修一; 高桑雄二
応用物理学会東北支部講演会, Dec. 2012, Not invited

ダイヤモンドライクカーボン薄膜の誘電率制御およびリモートキャリア注入機構
鷹林将; 楊猛; 林広幸; 江藤隆紀; 小川修一; 高桑雄二; 末光哲也; 尾辻泰一
第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited

DLC膜表面での光電子制御プラズマ生成機構の解明
楊猛; 小川修一; 鷹林将; 尾辻泰一; 高桑雄二
第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited

酸化グラフェンの還元におけるヒドラジン処理効果
渡辺大輝; 小川修一; 山口尚登; 穂積英彬; 江田剛輝; C.Mattevi; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 山田貴壽; M.Chhowalla; 高桑雄二
第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited

高温Si(111)表面酸化における相転移のリアルタイム光電子分光観察
唐佳芸; 西本究; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited

O₂供給停止後のSi(111)表面酸化状態の変化：UPSとXPS観察
西本究; 唐佳芸; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 渡辺大輝; 寺岡有殿; 高桑雄二
第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited

Si(001)表面に対するRHEED入射電子波動場
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited

SiO2表面での多層グラフェン成長過程の解析：硬X線光電子分光、偏光依存X線吸収分光、赤外吸収分光
尾白佳大; 犬飼学; 小川修一; 佐藤元伸; 池永英司; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
第32回表面科学学術講演会, Nov. 2012, Not invited

プローブ法による光電子制御プラズマの空間電位解析
阿加賽見; 大友悠大; 小川修一; 高桑雄二
第53回真空に関する連合講演会, Nov. 2012, Not invited

ダイヤモンド表面での光電子制御プラズマの放電特性測定
川田麻由梨; 尾白佳大; 小川修一; 増澤智昭; 岡野健; 高桑雄二
第53回真空に関する連合講演会, Nov. 2012, Not invited

Si(111)表面酸化状態のO2圧力依存
唐佳芸; 西本究; 小川修一; 高桑雄二
第53回真空に関する連合講演会, Nov. 2012, Not invited

Dielectric-Tuning of Diamondlike Carbon Gate Dielectrics Prepared by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
M. Yang; S. Takabayashi; S. Ogawa; H. Hayashi; T. Eto; T. Otsuji; Y. Takakuwa
The International Symposium on Graphene Devices, Nov. 2012, Not invited

Carrier Remote Doping Effect in Graphene-Channel FET's with Diamondlike Carbon Gate Dielectrics
S. Takabayashi; M. Yang; T. Eto; H. Hayashi; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Suemitsu; T. Otsuji
The International Symposium on Graphene Devices, Nov. 2012, Not invited

Initial Growth Observation of Networked Nano Graphite on SiO2 (90nm)/Si dependent on Process Gas Concentration
Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
2012 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2012, Not invited

Si(001)表面に対するRHEED励起オージェ強度とロッキング曲線
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
日本物理学会2012年秋季大会, Sep. 2012, Not invited

Growth kinetics of multilayer graphene on SiO2 studied by Hard X-ray photoelectron spectroscopy and infrared spectroscopy
Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Inukai; M. Sato; E. Ikenaga; T. Muro; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
International Conference on Electron Spectroscopy and Structure, Sep. 2012, Not invited

Chemical Bonding States and Electronic States of Reduced Graphene Oxides Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy
D. Watanabe; S. Ogawa; H. Yamaguchi; H. Hozumi; G. Eda; C. Mattevi; A. Yoshigoe; S. Ishizuka; Y. Teraoka; T. Yamada; M. Chhowalla; Y.Takakuwa
International Conference on Electron Spectroscopy and Structure, Sep. 2012, Not invited

Transport and Escape Processes of Photoelectron from SiO2(350 nm)/Si Interfaces with 7.2-eV UV Irradiation
S. Ogawa; T. Kaga; H. Hozumi; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
International Conference on Electron Spectroscopy and Structure, Sep. 2012, Not invited

光電子制御プラズマCVD による多層グラフェン成長(13)：初期成長過程のCH4濃度依存
尾白佳大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会, Sep. 2012, Not invited

Co触媒を用いた多層グラフェン生成過程における化学結合状態分析
池永英司; 室隆桂之; 高嶋明人; 佐藤元伸; 小川修一; 高桑雄二; 二瓶瑞久; 横山直樹
2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会, Sep. 2012, Not invited

BRAES プロファイルの入射電子エネルギー依存性
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
2012年秋季第73回応用物理学会学術講演会, Sep. 2012, Not invited

SiO₂表面へのナノグラフェン成長過程の硬X線光電子分光と偏光X線吸収分光による解明
尾白佳大; 犬飼学; 小川修一; 佐藤元伸; 池永英司; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
九州シンクロトロン光研究センター・東北大学多元物質科学研究所 合同シンポジウム『多元的物質とシンクロトロン放射光が紡ぎ出すイノベーション』, Jul. 2012, Not invited

酸化グラフェン還元過程における化学結合状態のリアルタイム光電子分光解析
渡辺大輝; 小川修一; 山口尚登; 穂積英彬; 江田剛輝; 石塚眞治; 吉越章隆; C. Mattevi; 寺岡有殿; 山田貴壽; M. Chhowalla; 高桑雄二
九州シンクロトロン光研究センター・東北大学多元物質科学研究所 合同シンポジウム『多元的物質とシンクロトロン放射光が紡ぎ出すイノベーション』, Jul. 2012, Not invited

ダイヤモンドC(001)単結晶表面構造制御によるグラフェン形成過程の光電子分光による「その場」観察
小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 吉越章隆; 長谷川雅孝; 寺岡有殿; 高桑雄二
九州シンクロトロン光研究センター・東北大学多元物質科学研究所 合同シンポジウム『多元的物質とシンクロトロン放射光が紡ぎ出すイノベーション』, Jul. 2012, Not invited

ダイヤモンドライクカーボン絶縁膜を用いたグラフェンFET
鷹林将; 楊猛; 小川修一; 林広幸; 栗田裕記; 高桑雄二; 末光哲也; 尾辻泰一
電子情報通信学会電子デバイス研究会, Jul. 2012, Not invited

Development of the Photoemission-assisted Plasma Enhanced CVD Process for Diamond-like Carbon Insulator Films of Graphene FET Gate Stack
M. Yang; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Otsuji; Y. Takakuwa
2012 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2012, Not invited

Dielectric-tuned Diamondlike Carbon Materials for a High-performance Self-aligned Graphene-channel Field Effect Transistor
S. Takabayashi; M. Yang; S. Ogawa; Y. Takakuwa; T. Suemitsu; T. Otsuji
2012 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2012, Not invited

Vacuum Annealing Formation of Graphene on Diamond C(111) Surfaces Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishizduka; A. Yoshigoe; D. Watanabe; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
2012 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2012, Not invited

Oriented Multi-layer Graphene Grown Directly on SiO2 Dielectric Film by Annealing Sputtered Amorphous Carbon with a Co Catalyst
M. Sato; M. Takahashi; T. Murakami; H. Nakano; A. Kawabata; T. Muro; Y. Takakuwa; M. Nihei; N. Yokoyama
2012 MRS Spring Meeting & Exhibit, Apr. 2012, Not invited

ダイヤモンドライクカーボン薄膜をトップゲート絶縁膜としたグラフェンFET
鷹林 将; 楊 猛; 小川修一; 高桑雄二; 末光眞希; 末光哲也; 尾辻泰一
2012年電子情報通信学会総合大会, Mar. 2012, Not invited

Si(001)2x1表面に対するRHEED励起オージェ電子分光
堀尾吉已; 高桑雄二; 小川修一
2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, Mar. 2012, Not invited

ダイヤモンドライクカーボントップゲート絶縁膜によるグラフェンチャネルFETのチャネルドーピング制御
鷹林将; 楊猛; 小川修一; 高桑雄二; 末光眞希; 末光哲也; 尾辻泰一
2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, Mar. 2012, Not invited

統合Si酸化反応モデルの実験的検証( 5 )：酸化初期の欠陥発生
西本 究; 唐 佳芸; 小川 修一; 高桑 雄二
2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, Mar. 2012, Not invited

酸化グラフェン還元過程のリアルタイムXPS観察：ヒドラジン処理効果
渡辺 大輝; 小川 修一; 山口 尚登; 穂積 英彬; 江田 剛輝; C.Mattevi; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 寺岡 有殿; 山田 貴壽; M.Chhowalla; 高桑 雄二
2012年春季 第59回 応用物理学関係連合講演会, Mar. 2012, Not invited

Spectroscopic Analysis of Multilayer Graphene Films at SPring-8 for Realizing Nanocarbon Interconnects of Future Low Power LSI
T.Muro; M.Inukai; E.Ikenaga; S.Ogawa; Y.Ojiro; Y.Takakuwa; M.Sato; M.Nihei; N.Yokoyama
International Symposium on Development of Core Technologies for Green Nanoelectronics, Mar. 2012, Not invited

Initial Growth Mechanism of Multilayer Graphene on SiO2/Si Substrates using Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
S.Ogawa; Y.Ojiro; M.Inukai; M.Sato; E.Ikenaga; T.Muro; M.Nihei; Y.Takakuwa; N.Yokoyama
International Symposium on Development of Core Technologies for Green Nanoelectronics, Mar. 2012, Not invited

Si表面初期酸化における欠陥発生過程：Si基板面方位依存
西本究; 唐佳芸; 小川修一; 高桑雄二
平成23年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2012, Not invited

ヒドラジン処理酸化グラフェンの真空加熱過程の光電子分光観察
渡辺 大輝; 小川 修一; 山口 尚登; 穂積 英彬; 江田 剛輝; C.Mattevi; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 寺岡 有殿; 山田 貴壽; M.Chhowalla; 高桑 雄二
平成23年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2012, Not invited

ラマン分光法およびXPSによるSiO₂/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究
尾白 佳大; 小川 修一; 犬飼 学; 佐藤 元伸; 池永 栄司; 室 隆桂之; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二; 横山 直樹
配線技術研究集会, Mar. 2012, Invited

トップゲート型グラフェン・チャネルFETのゲートスタック用炭素系絶縁膜の合成プロセスの開発
楊 猛; 小川 修一; 鷹林 将; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―（第1７回）, Jan. 2012

初期SiO2膜形成における準安定吸着酸素の役割の解明：Si(111)7×7とSi(001)2×1の比較
唐佳芸; 西本究; 小川修一; 高桑雄二
ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―（第1７回）, Jan. 2012, Not invited

ダイヤモンドライクカーボン薄膜をトップゲート絶縁膜としたグラフェンFET
鷹林 将; 楊 猛; 小川 修一; 高桑 雄二; 末光 哲也; 尾辻 泰一
ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―（第1７回）, Jan. 2012, Not invited

ダイヤモンドライクカーボンの光電子制御プラズマCVD 成長：CH4/Ar 濃度依存
楊 猛; 小川 修一; 鷹林 将; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
第31回表面科学学術講演会, Dec. 2011, Not invited

リアルタイム光電子分光によるグラフェン・オン・ダイヤモンド形成過程の観察
小川 修一; 山田 貴壽; 石塚 眞治; 吉越 章隆; 長谷川 雅孝; 寺岡 有殿; 高桑 雄二
第31回表面科学学術講演会, Dec. 2011, Not invited

Si(111)表面室温酸化の光電子分光観察：仕事関数と酸化膜被覆率
西本 究; 唐 佳芸; 小川 修一; 高桑 雄二
第31回表面科学学術講演会, Dec. 2011, Not invited

Strong-temperature dependence of initial oxide growth on Si (111)7×7 surface
J. Y. Tang; K. Nishimoto; S. Ogawa; Y. Takakuwa
6th International Symposium on Surface Science, Dec. 2011, Not invited

真空加熱処理によるグラフェン・オン・ダイヤモンド構造形成の光電子分光観察
小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 吉越章隆; 渡辺大輝; 長谷川雅考; 寺岡有殿; 高桑雄二
第11回多元物質科学研究所研究発表会, Dec. 2011, Not invited

Si(111)7X7表面酸化における準安定吸着酸素の役割の解明
唐 佳芸; 西本 究; 小川修一; 高桑雄二
第11回多元物質科学研究所研究発表会, Dec. 2011, Not invited

トップゲート・グラフェンFETのダイヤモンドライクカーボン絶縁膜形成プロセスの開発
楊猛; 小川修一; 鷹林将; 尾辻泰一; 高桑雄二
応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2011, Not invited

光電子制御イオン源によるCu蒸着膜の表面処理
大友 悠大; 阿加 賽見; 小川 修一; 高桑 雄二
第52回真空に関する連合講演会, Nov. 2011, Not invited

DLC膜成長の光電子制御プラズマ放電条件依存
楊 猛; 小川 修一; 鷹林 将; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
第52回真空に関する連合講演会, Nov. 2011, Not invited

Formation of Graphene on Diamond C(111) Surfaces by Vacuum Annealing
S. Ogawa; T. Yamada; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; T. Kaga; H. Hozumi; M. Hasegawa; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
2011 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2011, Not invited

Initial Growth Observation of Multilayer Graphene on SiO2/Si substrates Using Raman Spectroscopy and XPS
Y. Ojiro; S. Ogawa; M. Inukai; M. Sato; E. Ikenaga; T. Muro; M. Nihei; Y. Takakuwa; N. Yokoyama
2011 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2011, Not invited

Fabrication of Graphene Directly on SiO2 without Transfer Processesby Annealing Sputtered Amorphous Carbon
M. Sato; M. Inukai; E.Ikenaga; T. Muro; S. Ogawa; Y. Takakuwa; H. Nakano; A. Kawabata; M. Nihei; N. Yokoyama
2011 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2011, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(12)：膜質の成長時間依存
尾白佳大; 小川修一; 犬飼学; 池永英司; 佐藤元伸; 室隆桂之; 二瓶瑞久; 高桑雄二; 横山直樹
2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, Sep. 2011, Not invited

光電子制御プラズマCVDによるDLC合成
楊 猛; 小川 修一; 鷹林 将; 末光 哲也; 尾辻 泰一; 高桑 雄二
2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, Aug. 2011, Not invited

高輝度放射光によるLSI配線用カーボン薄膜の化学状態・配向性分析
犬飼 学; 池永英司; 室隆桂之; 小川修一; 尾白佳大; 高桑雄二; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 横山直樹
2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, Aug. 2011, Not invited

真空中熱処理によるダイヤモンド(111)表面の化学結合状態変化の温度依存
小川修一; 山田貴壽; 石塚眞治; 吉越章隆; 加賀利瑛; 穂積英彬; 長谷川雅考; 寺岡有殿; 高桑雄二
2011年秋季 第72回 応用物理学会学術講演会, Aug. 2011, Not invited

Synthesis of DLC Films on Si substrates using Photoemission-assisted plasmaenhanced CVD
M. Yang; S. Ogawa; S. Takabayashi; T. Suemitsu; T. Otsuji; Y. Takakuwa
第24回プラズマ材料科学シンポジウム, Jul. 2011, Not invited

Surface Morphology of Al, Si, and Cu Substrates Flattened by a 2”-size Photoemission-assisted Ion Beam Source
Yudai Ohtomo; S. Ogawa; Y. Takakuwa
8th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '11, May 2011, Not invited

Raman Spectroscopy, Hard X-ray Photoemission Spectroscopy, and Infrared Spectroscopy Studies of Networked Nanographite Grown by Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD
Shuichi Ogawa; Y. Ojiro; M. Inukai; T. Kaga; M. Sato; E. Ikenaga; T. Muro; M. Nihei; Y. Takakuwa
8th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '11, May 2011, Not invited

Origin of the Electronic States at Fermi Level induced by Thermal Reduction of Chemically Derived Graphene Oxide
H. Yamaguchi; H. Hozumi; T. Kaga; G. Eda; C. Mattevi; S . Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishizuka; T. Yamada; Y. Teraoka; Y. Takakuwa; M. Chhowalla
International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2011, May 2011, Not invited

Complimentary Logic Inverter on Epitaxial Graphene/6H-SiC Field Efect Transistor with Diamond-Like Carbon Film as Gate Dielectrics at Room Temperature
A. E. Moutaouakil; S. Takabayashi; S. Ogawa; Y. Takakuwa; H.-C. Kang; R. Takahashi; H. Fukidome; M. Suemitsu; E. Sano; T. Suemitsu; T. Otsuji
Graphene: The Road to Applications, May 2011, Not invited

Mechanism of Resistivity Decrease in Networked-Nanographite Wires for Multi-layer Graphene Interconnects
M. Sato; S. Ogawa; M. Inukai; E. Ikenaga; T. Muro; Y. Takakuwa; M. Nihei; N. Yokoyama
The 2011 IEEE International Interconnect Technology Conference, May 2011, Not invited

ダイヤモンドライクカーボンをゲート絶縁膜としたグラフェンFET
鷹林 将; 小川修一; 高桑雄二; Hyun-Chul Kang; 高橋良太; 吹留博一; 末光眞希; 末光哲也; 尾辻泰一
第58回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2011, Not invited

ネットワークナノグラファイト配線の低抵抗化メカニズム
佐藤元伸; 小川修一; 犬飼 学; 池永英司; 室隆桂之; 高桑雄二; 二瓶瑞久; 横山直樹
第58回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2011, Not invited

光電子制御プラズマによる基板表面処理の開発: Al. Si表面へのプラズマ照射効果
大友悠大; 小川修一; 高桑雄二
第58回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2011, Not invited

光電子制御プラズマCVDで成長したグラファイト結晶性の温度依存
尾白佳大; 小川修一; 加賀利瑛; 犬飼 学; 室隆桂之; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
日本表面科学会北海道・東北支部学術講演会, Mar. 2011, Not invited

光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線
佐藤元伸; 小川修一; 池永英司; 高桑雄二; 二瓶瑞久; 横山直樹
配線技術研究集会, Feb. 2011, Invited

光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト成長：結晶性の放電条件依存
小川修一; 佐藤元伸; 角治樹; 二瓶瑞久; 高桑雄二
配線技術研究集会, Feb. 2011, Invited

Si_1-xGe_x合金層における酸化誘起Ge濃縮過程：リアルタイム光電子分光による解明
小川修一; 穂積英彬; 吉岡章隆; 石塚眞治; 加賀利瑛; 寺岡有殿; 高桑雄二
第16回「ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理」, Jan. 2011, Not invited

Oxidation-induced Diffusion of C and Ge on Si1-xGex and Si_1-xC_x Alloy Layers Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; T. Kaga; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
2011 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electronic Devices -Science and Technology -, Jan. 2011, Not invited

酸化グラフェン還元過程のリアルタイムXPS観察
小川修一; 山口尚人; 穂積英彬; 加賀利瑛; 江田剛輝; C. Mattevi; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 山田貴壽; 高桑雄二; M. Chhowalla
第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2011, Not invited

DLC をゲート絶縁膜としたグラフェンFET
鷹林将; 小川修一; 高桑雄二; 阿部峻佑; 高橋良太; 吹留博一; 末光眞希; 末光哲也; 尾辻 泰一
第37回炭素材料学会年会, Dec. 2010, Not invited

Electronic states near Fermi level of chemically derived graphene oxide induced by thermal reduction
H. Yamaguchi; H. Hozumi; T. Kaga; G. Eda; C. Mattevi; S. Ogawa; T. Yamada; Y. Takakuwa; M. Chhowalla
2010 Materials Research Society Fall Meeting, Nov. 2010, Not invited

光電子分光法によるSiO2(350 nm)/Si 基板からの電子放出過程の解明
加賀利瑛; 穂積英彬; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第65回応用物理学会東北支部学術講演会, Nov. 2010, Not invited

光電子制御プラズマによる金属表面の平坦化処理プロセスの開発
大友悠大; 小川修一; 高桑雄二
真空・表面科学合同講演会, Nov. 2010, Not invited

酸化グラフェンの高温加熱処理過程のリアルタイム放射光光電子分光観察
穂積英彬; 山口尚登; 加賀利瑛; 江田剛輝; セシリア マッテヴィ; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 山田貴壽; 高桑雄二; マニッシュ チョワ
真空・表面科学合同講演会, Nov. 2010, Not invited

Si混晶表面の酸化過程のリアルタイムXPS観察：CとGe混入効果の比較
穂積英彬; 加賀利瑛; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
真空・表面科学合同講演会, Nov. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによるSiO2 (350 nm)/Si基板へのナノグラファイト直接成長：膜質の温度依存
小川修一; 尾白佳大; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 髙桑雄二
真空・表面科学合同講演会, Nov. 2010, Not invited

Multilayer graphene growth using photoemission-assisted plasma-enhanced CVD without any metal catalysts
S. Ogawa; M. Sato; Y. Ojiro; H. Sumi; M. Nihei; Y. Takakuwa
International Symposium on Graphene Devices, Oct. 2010, Not invited

Oxidation kinetics of SiGe alloy layer studied by real-time XPS
H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J.R. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
The 5th International Symposium on Practical Surface Analysis/7th Korea-Japan Symposium on Surface Analysis, Oct. 2010, Not invited

Plasma Discharge Condition Dependence of the Crystallographic Quality of Networked Nanographite Grown by the Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced CVD
S. Ogawa; T. Kaga; Y. Ohtomo; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
2010 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2010, Not invited

Effect of Annealing on Electrical Properties of Networked-Nanographite Wire Grown by Metal-Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD
M. Sato; S. Ogawa\,T. Kaga; E. Ikenaga; Y. Takakuwa; M. Nihei; N. Yokoyama
2010 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2010, Not invited

Temperature Dependence of Exclusive SiO2Formation during Thermal Oxidation of SiO1-X GeX Alloy Layer on Si(001) Surfaces
H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J. R. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
2010 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2010, Not invited

光電子分光による酸化グラフェンの熱処理還元過程その場観察
山口 尚登; 穂積 英彬; 加賀 利瑛; 江田 剛輝; セシリア マッテヴィ; 小川 修一; 山田 貴壽; 高桑 雄二; マニッシュ チョワラ
2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(11) : SiO2(350 nm) / Si界面からの光電子放出
加賀 利瑛; 穂積 英彬; 小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(10)：SiO2/Si基板への直接成長
小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited

SiGe/Si表面の酸化反応機構(1)：GeO2形成の温度依存
穂積 英彬; 小川 修一; 吉越 章隆; 石塚 眞治; 寺岡 有殿; 高桑 雄二
2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線
佐藤元伸; 小川修一; 加賀利瑛; 池永英司; 高桑雄二; 二瓶瑞久; 横山直樹
2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会, Sep. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線の特性
佐藤 元伸; 小川 修一; 加賀 利瑛; 池永 英司; 高桑 雄二; 二瓶 瑞久; 横山 直樹
第15回電子デバイスにおける原子輸送・応力問題研究会, Jul. 2010, Invited

Networked-Nanographite Wire Grown on SiO2 Dielectric without Catalysts using Metal- Photoemission-assisted Plasma-enhanced CVD
M. Sato; S. Ogawa; T. Kaga; H. Sumi; E. Ikenaga; Y. Takakuwa; M. Nihei; N. Yokoyama
2010 IEEE International Interconnect Technology Conference, Jun. 2010, Not invited

Thickness Dependence of Crystallinity of Networked Nanographite Grown by Photoemission-assisted Plasma Enhanced CVD on Si and SiO2/Si Substrates
S. Ogawa; H. Sumi; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
The 37th International Symposium on Compound Semiconductors, Jun. 2010, Not invited

CVD Growth of Networked Nanographite on SiO2/Si Substrates:Dependence on Photoemission-assisted Plasma Discharge Conditions
T. Kaga; S. Ogawa; Y. Ohtomo; H. Sumi; M. Sato; M. Nihei; Y.Takakuwa
The 37th International Symposium on Compound Semiconductors, Jun. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(７)：SiO2/SiとSi基板での光電子制御プラズマ生成機構の比較
加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(５)：Ar希釈CH4濃度依存
角治樹; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(６)：結晶性の基板バイアス電圧依存
小川修一; 角治樹; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited

SiO₂/Si界面酸化における格子歪みの役割(３) : 酸化誘起炭素濃縮による3C-SiC成長
穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; J.R. Harris; 寺岡有殿; 高桑雄二
2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(９)：H2プラズマ放電特性と発光分光観察
大友悠大; 加賀利瑛; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(８)：Arプラズマ放電特性と発光分光観察
加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2010, Not invited

光電子制御プラズマ発生におけるSi表面のSiO2膜の役割
加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
平成21年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2010, Not invited

酸素によるSi(001)表面エッチングにおける炭素濃縮
穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; J.R. Harris; 寺岡有殿; 高桑雄二
平成21年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2010, Not invited

Ar-diluted CH4 concentration dependence of the crystallinity of multilayer graphene grown by photoemission-assisted plasma-enhanced CVD
H. Sumi; S. Ogawa; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, Mar. 2010, Not invited

光電子制御プラズマCVDによるSiO2(350 nm)/Si基板への多層グラフェン成長
加賀 利瑛; 大友 悠大; 小川 修一; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
第27回プラズマプロセッシング研究会, Feb. 2010, Not invited

3インチTaN/SiO₂(350 nm)/Si基板での光電子制御プラズマCVDプロセス
小川 修一; 加賀 利瑛; 穂積 英彬; 佐藤 元伸; 二瓶 瑞久; 高桑 雄二
第27回プラズマプロセッシング研究会, Feb. 2010, Not invited

Carbon condensation and 3C-SiC growth caused by oxidizing Si_1-xC_x alloy layers on Si(001) substrate
H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J.R. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
5th Int. Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics, Jan. 2010, Not invited

Si_1-xC_x合金層／Si(001)表面における酸化誘起炭素拡散：酸化膜成長とエッチング条件での比較
穂積英彬; 小川修一; 吉岡章隆; 石塚眞治; James Harries; 寺岡有殿; 高桑雄二
第15回「ゲートスタック研究会 －材料・プロセス・評価の物理ー」, Jan. 2010, Not invited

Characterization of Crystal Structure and Chemical Bonding Configuration of Multi-layer Graphene Grown on SiO2 Substrate
S. Ogawa; H. Sumi; A. Saikubo; E. Ikenaga; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’09, Dec. 2009, Not invited

Real-time Photoelectron Spectroscopy Study of 3C-SiC Nucleation and Growth on Si(001) Surface by Carbonization with Ethylene
H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’09, Dec. 2009, Not invited

多層グラフェンCVD成長のAr希釈CH4濃度依存
角治樹; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第64回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2009, Not invited

SiO2(350 nm)/Si基板での光電子制御プラズマ生成機構
加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第64回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2009, Not invited

Electrical Properties of CVD-grown Multi-layer Graphene for Carbon-based Interconnects
M. Nihei; M. Sato; D. Kondo; S. Sato; S. Ogawa; E. Ikenaga; Y. Takakuwa
22nd International Miroprocesses and Nanotechnology Conference, Nov. 2009, Invited

光電子制御プラズマCVD によるSiO2基板への多層グラフェン成長
小川修一; 角治樹; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第50回真空に関する連合講演会, Nov. 2009, Not invited

光電子制御プラズマ放電特性のArガス圧力依存
加賀利瑛; 大友悠大; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第50回真空に関する連合講演会, Nov. 2009, Not invited

H2とN2ガスにおける光電子制御プラズマの放電特性
大友悠大; 加賀利瑛; 小川修一; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第50回真空に関する連合講演会, Nov. 2009, Not invited

Si(001)表面炭化反応における3C-SiC核発生の時間遅れ：表面近傍の臨界炭素濃度
穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; James Harries; 寺岡有殿; 高桑雄二
第29回表面科学学術講演会, Oct. 2009, Not invited

Strained Si atoms at SiO2/Si interface during oxidation of Si_1-xC_x alloy layer on Si(001) surfaces
H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
International Workshop on Electronic Spectroscopy for Gas-phase Molecules and Solid Surfaces, Oct. 2009, Not invited

Generation Mechanism of Photoemission-assisted Plasma on SiO2(350 nm)/Si Substrate
T. Kaga; S. Ogawa; H. Hozumi; H. Sumi; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
2009 International Conference on Solid State Devices and Materials, Oct. 2009, Not invited

Effect of Carrier Gas (Ar and He) on the Crystallographic Quality of Multi-layer Graphene Grown on Si by Photoemission-assisted Plasma CVD
H. Sumi; S. Ogawa; A. Saikubo; E. Ikenaga; M. Nihei; Y. Takakuwa
2009 International Conference on Solid State Devices and Materials, Oct. 2009, Not invited

Active Oxidation Kinetics on Si_1-xC_x Alloy Layer Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
H. Hozumi; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; J. Harries; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
2009 International Conference on Solid State Devices and Materials, Oct. 2009, Not invited

Raman Spectroscopy, TEM and Bulk-sensitive XPS Study of Multi-layer Graphene Grown on SiO2(350 nm)/Si
S. Ogawa; H; Sumi; A. Saikubo; E. Ikenaga; M. Sato; M. Nihei; Y. Takakuwa
2009 International Conference on Solid State Devices and Materials, Oct. 2009, Not invited

硬X線光電子分光によるSiO2基板上の多層グラフェンの電子状態評価
西窪明彦; 池永英司; 小川修一; 角治樹; 高桑雄二; 佐藤元伸; 二瓶瑞久
2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(4) : SiO₂(350nm)/Si 基板
小川修一; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(３):SiO2/Si基板からの電子放出
加賀利瑛; 小川修一; 穂積英彬; 角治樹; 佐藤元伸; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited

光電子制御プラズマCVD により成長した多層グラフェンの抵抗率
佐藤元伸; 小川修一; 加賀利瑛; 角治樹; 池永英司; 高桑雄二; 二瓶瑞久
2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited

SiO₂/Si界面酸化における格子歪みの役割(2)：2次元島成長における炭素拡散
穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; H. James; 寺岡有殿; 高桑雄二
2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited

Multi-layer Graphene Grown by Low Temperature CVD for Advanced Carbon-based Interconnects
M. Nihei; M. Sato; D. Kondo; S. Sato; S. Ogawa; Y.Takakuwa; E. Ikenaga; Y. Awano
2009 Material Research Society Spring meeting, Apr. 2009, Invited

SiO₂/Si界面酸化における格子歪みの役割(1)：炭素原子の挙動
穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
2009年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Apr. 2009, Not invited

光電子制御プラズマによるLSI配線用多層グラフェン合成プロセスの開発
小川修一; 角治樹; 高見知秀; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2009年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Apr. 2009, Invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(I): キャリアガス(Ar, He)の効果
角治樹; 小川修一; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2009年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2009, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン成長(II):TaN表面でのI-V 特性
加賀利瑛; 小川修一; 角治樹; 穂積英彬; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2009年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2009, Not invited

光電子制御プラズマのI-V特性
加賀利瑛; 小川修一; 角治樹; 穂積英彬; 二瓶瑞久; 高桑雄二
表面科学会東北支部講演会, Mar. 2009, Not invited

Thermal oxidation kinetics on Si(001) surface studies by RHEED combined with AES
S. Ogawa; Y. Takakuwa
International Workshop on "Diffraction studies for in situ epitaxial systems and surface structures", Feb. 2009, Invited

LSI配線用多層グラフェン成長のための光電子制御プラズマCVDの開発
小川修一; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
プラズマ科学シンポジウム2009, Feb. 2009, Not invited

SiO₂/Si(001)界面の炭素原子によるSi酸化反応機構への影響
穂積英彬; 小川修一; 吉岡章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
第14回「ゲートスタック研究会 －材料・プロセス・評価の物理ー」, Jan. 2009, Not invited

硬X線XPSによる多層グラフェン成長温度依存の解明
小川修一; 角治樹; 高見知秀; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第22回放射光科学会年会放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2009, Not invited

CVD多層グラフェン膜の成長温度依存の解析
角治樹; 小川修一; 高見知秀; 窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第63回東北支部学術講演会, Dec. 2008, Not invited

Si(100)-(2x1)表面初期酸化過程のSTM観察
渡邉清人; 池田正則; 清水博文; 小川修一; 高桑雄二
第63回東北支部学術講演会, Dec. 2008, Not invited

CVD成長多層グラフェン膜のラマン分光とバルク敏感XPSによる評価
角治樹; 小川修一; 高見知秀; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
第28回表面科学学術講演会, Nov. 2008, Not invited

ラングミュア型吸着温度領域におけるSi(100)-(2×1)表面初期酸化過程のSTM観察
渡邉清人; 池田正則; 清水博文; 小川修一; 高桑雄二
第28回表面科学学術講演会, Nov. 2008, Not invited

Si_1-xC_x合金層/Si(001)酸化反応過程のリアルタイムXPS観察
穂積英彬; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑 雄二
第28回表面科学学術講演会, Nov. 2008, Not invited

Multi-Layer Graphene Grown by Photoemission-Controlled Plasma CVD
S. Ogawa; T. Takami; H. Sumi; A. Saikubo; E. Ikenaga; M. Nihei; Y. Takakuwa
5th International Symposium on Surface Science and Nanotechnology, Nov. 2008, Not invited

Si(001)表面炭化／酸化反応過程のリアルタイムXPS測定
穂積英彬; 小川修一; 吉岡章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
２００８年度 実用表面分析講演会, Oct. 2008, Not invited

多層グラフェンのバルク敏感XPSによる解析
小川修一; 高見知秀; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
２００８年度 実用表面分析講演会, Oct. 2008, Not invited

統合Si酸化反応モデルの実験的検証(4)：表面酸化反応様式への依存
小川修一; 穂積英彬; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, Sep. 2009, Not invited

硬X線光電子分光による多層グラフェンの電子状態評価
西窪明彦; 池永英司; 小川修一; 高見知秀; 角治樹; 高桑雄二; 二瓶瑞久
2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, Sep. 2008, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェン形成
小川修一; 高見知秀; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, Sep. 2008, Not invited

エチレンによるSi(001)表面炭化反応過程のリアルタイムXPS観察
高桑雄二; 小川修一; 穂積英彬; 川村知史; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿
2008年（平成20年）秋季第69回応用物理学会学術講演会, Sep. 2008, Not invited

硬X線光電子分光による多層グラフェンの電子状態評価
西窪明彦; 池永英司; 小川修一; 高見知秀; 角治樹; 高桑雄二; 二瓶瑞久
平成20年度飯綱・サイエンスサマー道場, Aug. 2008, Not invited

光電子制御プラズマCVDによる多層グラフェンの触媒なし成長
小川修一; 高見知秀; 角治樹; 西窪明彦; 池永英司; 二瓶瑞久; 高桑雄二
平成20年度飯綱・サイエンスサマー道場, Aug. 2008, Not invited

統合Si酸化反応モデルの実験的検証(3)：界面酸化の活性化エネルギー
小川修一; 高桑雄二
第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2008, Not invited

ラングミュア型吸着温度領域におけるO2曝露したSi(100)-(2x1)表面の走査型トンネル顕微鏡観察
渡邉清人; 池田正則; 清水博文; 小川修一; 高桑雄二
第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2008, Not invited

極薄Si酸化膜形成過程における酸化誘起歪みと欠陥発生の光電子分光観察
小川修一
第３回JAEA放射光科学研究シンポジウム, Feb. 2008, Invited

SiO2/Si(001)界面における酸化誘起点欠陥と酸素分子の反応過程
小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―（第１３回研究会）, Jan. 2008, Not invited

リアルタイム光電子分光観察を用いた表面研究
小川修一
第48回真空に関する連合講演会, Nov. 2007, Invited

Temperature Dependence of the Oxidation-Induced Strain at SiO2/Si(001) Interface Studied by XPS Using Synchrotron Radiation
S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
9th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures, Nov. 2007, Not invited

Real-Time Observation of the Oxidation Reaction Kinetics of a Si1-xCx Alloy Layer Grown on Si(001) with C2H4 by UPS and RHEED Combined with AES
Y. Takakuwa; S. Ogawa; T. Kawamura
6th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '07, Oct. 2007, Not invited

Influence of Rapid O2 Pressure Increase on the Oxide Growth Kinetics at SiO2/Si(001) Interface Studied by Real-Time X-ray Photoelectron Spectroscopy
S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
6th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '07, Oct. 2007, Not invited

統合Si酸化反応モデルの実験的検証(2)：界面酸化のO2圧力依存
小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会, Sep. 2007, Not invited

Rate-Limiting Reactions of the Growth and Decomposition Kinetics of Very Thin Oxide on Si(001) Surfaces Studied by Reflection High Energy Electron Diffraction Combined with Auger Electron Spectroscopy
小川修一
2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会, Sep. 2007, Invited

Si_1-xC_x合金層/p-Si(001)表面の酸化過程：室温での吸着酸素の挙動
高桑雄二; 小川修一
2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会, Sep. 2007, Not invited

Real-time monitoring of stained Si atoms at SiO2/Si(001) interface during layer-by-layer oxide growth by Si 2p photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation
Y. Takakuwa; S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka
The 15th International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics, Jul. 2007, Not invited

Real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy study on the oxidation reaction kinetics of an Si_1-xC_x ally layer (x ～0.1) grown on p-type Si(001) surface with ethylene
Y. Takakuwa; S. Ogawa
17th International Vacuum Congress, Jul. 2007, Not invited

Real-time photoelectron spectroscopy study on the oxidation-induced strained Si atom at SiO2/Si(001) interface: dependence on oxidation temperature
S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
17th International Vacuum Congress, Jul. 2007, Not invited

Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(X)：歪みSi層と第2層酸化速度の相関
小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
2007年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2007, Not invited

リアルタイム表面計測を用いた統合Si酸化反応モデルの実験的検証
小川修一; 高桑雄二
2007年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2007, Invited

Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(XI)：p及びn型伝導度への依存
小川修一; 高桑雄二
2007年春季第55回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2007, Not invited

Si(001)表面酸化過程の高輝度放射光を用いた光電子分光観察
小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
平成18年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会, Mar. 2007, Not invited

Si酸化表面における欠陥発生過程のリアルタイム光電子分光観察
小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
第20回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2007, Not invited

Layer-by-Layer Oxidation on Si(001) Surface Studied by Real-Time Photoelectron Spectroscopy Using Synchrotron Radiation
S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
2006 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY, Nov. 2006, Not invited

Unified Si oxidation reaction model mediated by the point defect generation at SiO₂/Si interfaces
Y. Takakuwa; S. Ogawa
2006 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY, Nov. 2006, Invited

Rate-Limiting Reaction of Layer-by-Layer Oxidation on Si(001) Surfaces: Dependence on the First Oxide Layer Growth Kinetics
S. Ogawa; Y. Takakuwa
2006 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sep. 2006, Not invited

Simultaneous observation of oxygen uptake curves and electronic states during room-temperature oxidation on Si(001) surfaces by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
S. Ogawa; Y. Takakuwa
24th European Conference on Surface Science, Sep. 2006, Not invited

Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(IX)：室温酸化
小川修一; 高桑雄二
第67回応用物理学会学術講演会, Sep. 2006, Not invited

Si(001)表面酸化におけるSi原子放出過程(VIII)：第2層酸化速度の温度依存
小川修一; 高桑雄二
第67回応用物理学会学術講演会, Aug. 2006, Not invited

Growth and decomposition kinetics of very thin oxide on Si(001) surfaces studied by RHEED combined with AES
S. Ogawa; Y. Takakuwa
JSPS-KOSEF Asian Core Program1st Japan-Korea Symposium on Surface Nanostructures, Jun. 2006, Invited

Si(001)表面初期酸化過程におけるSi原子放出過程(VII)：酸化誘起界面欠陥発生
小川修一; 高桑雄二
第53回応用物理関連連合講演会, Mar. 2006, Not invited

リアルタイム紫外光電子分光によるTi(0001)1×1表面酸化の「その場」観察
高桑雄二; 大平雅之; 小川修一
第53回応用物理関連連合講演会, Mar. 2006, Not invited

超音速窒素分子ビームによるTi表面窒化反応ダイナミクス
小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之
第53回応用物理関連連合講演会, Mar. 2006, Not invited

エチレンにより炭化したSi(001)c(4×4)-C表面の酸化過程のRHEED-AES観察
川村知史; 小川修一; 高桑雄二
第53回応用物理関連連合講演会, Mar. 2006, Not invited

酸化膜形成と欠陥発生の同時観察によるSi(001)表面酸化の統合的解明
小川修一; 高桑雄二
「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」第11回研究会, Feb. 2006, Not invited

Ti(0001)表面窒化反応過程の温度依存のリアルタイム光電子分光観察
小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之
第19回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2006, Not invited

Si(001)表面における酸化誘起仕事関数変化の温度依存
小川修一; 高桑雄二
第60回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2005, Not invited

Si(001)表面酸化過程のリアルタイム光電子分光観察：仕事関数と界面電子状態
小川修一; 高桑雄二
第46回真空に関する連合講演会, Nov. 2005, Not invited

超音速窒素分子ビームを用いたTi(0001)表面の窒素吸着反応モデルの解明
小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之
第46回真空に関する連合講演会, Nov. 2005, Not invited

Growth and subsequent decomposition kinetics of very thin oxide on Si(001) surface studied by real-time RHEED combined with AES
S. Ogawa; Y. Takakuwa
52nd International symposium of American Vacuum Society, Nov. 2005, Not invited

Initial growth kinetics of oxide on Si(111) surface studied by real-time Auger electron spectroscopy
S. Ogawa; Y. Takakuwa
23rd European Conference on Surface Science, Sep. 2005, Not invited

Consumption Kinetics of Si Atoms during Growth and Decomposition of Very Thin Oxide on Si(001) Surfaces
S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Teraoka; Y. Takakuwa
4th International conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures, May 2005, Not invited

Real-time monitoring of chemical composition, surface structure and morphology, surface electronic state and work function during thermal oxidation on Si(001) surfaces
S. Ogawa; Y. Takakuwa
2005 MRS Spring meeting, Mar. 2005, Invited

超音速窒素分子ビームを用いたTi表面窒化反応ダイナミクスのリアルタイム光電子分光観察
小川修一; 大平雅之; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之
日本表面科学会東北支部講演会, Mar. 2005, Not invited

リアルタイムRHEED-AESによるSi(001)表面層状酸化の律速反応の解明
小川修一; 高桑雄二
「ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理-」第10回研究会, Jan. 2005, Not invited

超音速酸素分子ビームを用いたTi(0001)表面酸化ダイナミクスのリアルタイム光電子分光観察
小川修一; 大平雅之; 高桑雄二; 石塚眞治; 盛谷浩右; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之; 頓田英機; 本間禎一
第18回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, Jan. 2005, Not invited

超音速酸素分子ビームによるTi表面酸化反応ダイナミクス
大平雅之; 小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 盛谷浩右; 吉越章隆; 寺岡有殿; 水野善之; 頓田英機; 本間禎一
第59回応用物理学会東北支部学術講演会, Dec. 2004, Not invited

Si(001)表面酸化過程における仕事関数の「その場」観察
小川修一; 八木貴之; 大平雅之; 高桑雄二
第24回表面科学講演大会, Nov. 2004, Not invited

Si(111)表面における極薄酸化膜形成過程の温度依存
小川修一; 大平雅之; 高桑雄二
第45回真空に関する連合講演会, Oct. 2004, Not invited

Substrate orientation dependence of first- and second-oxide-layer growth kinetics: comparison between Si(001)2×1 and Si(111)7×7 surfaces
S. Ogawa; Y. Takakuwa
2004 International Microprocess and nanotechnology Conference, Oct. 2004, Not invited

極薄Ti酸化膜の分解過程のリアルタイム光電子分光観察
高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
日本物理学会2004年秋季大会, Sep. 2004, Not invited

Si(001)表面酸化様式に依存した極薄酸化膜分解過程の「その場」観察
小川修一; 高桑雄二
日本物理学会2004年秋季大会, Sep. 2004, Not invited

Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程(VI)：分解における吸着Si原子との競合
小川修一; 高桑雄二
2004年秋季第65回応用物理学会学術講演会, Sep. 2004, Not invited

Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程(V)：界面の酸化・分解の律速反応
小川修一; 高桑雄二
2004年秋季第65回応用物理学会学術講演会, Sep. 2004, Not invited

Ti(0001)表面酸化過程の酸素分子並進運動エネルギー依存(II)：酸化状態
小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
2004年秋季第65回応用物理学会学術講演会, Sep. 2004, Not invited

Progress of stoichiometry of very thin oxides on Ti (0001) surfaces monitored by real-time photoelectron spectroscopy
S. Ogawa; Y. Takakuwa; S. Ishidzuka; A. Yoshigoe; Y. Teraoka; K. Moritani; S. Hachiue; Y. Mizuno; H. Tonda; T. Homma
12th International Conference on Solid Films and Surfaces, Jun. 2004, Not invited

Rate-limiting reaction of growth and decomposition of very thin oxide on Si(001) surface
S. Ogawa; Y. Takakuwa
2004 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices: Science and Technology, May 2004, Not invited

Ti(0001)表面に形成した極薄酸化膜の分解過程
高桑雄二; 小川修一; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
第51回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2004, Not invited

Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程 (IV)：酸化様式への依存
高桑雄二; 小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿
第51回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2004, Not invited

Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程 (III)：界面反応
小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
第51回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2004, Not invited

Ti(0001)表面初期酸化過程の酸素分子並進運動エネルギー依存
小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
第51回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2004, Not invited

Si(001)表面での極薄酸化膜形成・分解過程のRHEED-AES/STMによる「その場」観察
小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
第9回「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会, Jan. 2004, Not invited

超音速酸素分子ビームによるTi(0001)表面の運動エネルギー誘起酸化反応
小川修一; 高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 鉢上隼介; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
第23回表面科学講演大会, Nov. 2003

Si(001)表面での極薄酸化膜形成・分解過程におけるSi原子の挙動
小川修一; 吉越章隆; 石塚眞治; 寺岡有殿; 高桑雄二
第23回表面科学講演大会, Nov. 2003, Not invited

Ti(0001)表面酸化における極薄酸化膜成長と酸化状態
高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 小川修一; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
第44回真空に関する連合講演会, Nov. 2003, Not invited

Si(001)とSi(111)表面の極薄酸化膜形成過程の比較
小川修一; 高桑雄二
第44回真空に関する連合講演会, Nov. 2003, Not invited

Ti(0001)表面酸化における極薄酸化膜形成過程のリアルタイム計測
高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 小川修一; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
日本物理学会2003年秋季大会, Sep. 2003, Not invited

Si(001)表面での初期酸化過程への2x1/1x2分域比の影響
高桑雄二; 小川修一
日本物理学会2003年秋季大会, Sep. 2003, Not invited

Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程(II)
小川修一; 高桑雄二
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会, Sep. 2003, Not invited

Ti(0001)表面酸化への酸素分子並進運動エネルギーの効果
高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 小川修一; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会, Aug. 2003, Not invited

Ti(0001)表面での極薄酸化膜形成における酸化状態の「その場」観察
高桑雄二; 石塚眞治; 吉越章隆; 寺岡有殿; 盛谷浩右; 小川修一; 水野善之; 頓田英樹; 本間禎一
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会, Aug. 2003, Not invited

RHEED-AESによるSi表面酸化におけるSi原子放出の「その場」観察
小川修一; 高桑雄二
第19回化学反応討論会, Jun. 2003, Not invited

Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出過程
小川修一; 川和拓央; 高桑雄二
第50回応用物理学関係連合講演会, Mar. 2003, Not invited

リアルタイム光電子分光によるSi(001)表面初期酸化過程の「その場」観察
小川修一; 八木貴之; 高桑雄二
平成14年度表面科学会東北支部講演会, Mar. 2003, Not invited

Si(001)表面初期酸化におけるSi原子放出の実験的検証
高桑雄二; 小川修一; 川和拓央
第8回「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会, Jan. 2003, Not invited

Si(001)表面酸化におけるSi原子放出のRHEED-AES観察
小川修一; 川和拓央; 高桑雄二
第2回多元物質科学研究所研究発表会, Jan. 2003, Not invited

Si(001)表面初期酸化における表面形態のRHEED-AES観察
小川修一; 川和拓央; 高桑雄二
第22回表面科学講演大会, Nov. 2002, Not invited

Apr. 2024 - Present

Apr. 2024 - Present

Apr. 2024 - Present

Apr. 2023 - Present

Apr. 2023 - Present

Apr. 2023 - Present

日本表面真空学会

応用物理学会

Research on corrosion inhibition of fuel cladding tubes using two-dimensional materials for severe accident avoidance
Japan Society for the Promotion of Science, Grants-in-Aid for Scientific Research, Apr. 2024 - Mar. 2027
吉越 章隆; 小川 修一; 山田 貴壽; 津田 泰孝

層間挿入によるh-BNの半導体化とベータボルタ電池応用
日本学術振興会, 科学研究費助成事業, Apr. 2023 - Mar. 2027
山田 貴壽; 小川 修一; 増澤 智昭

Catalytic application of mechanochemical effects by controlling material strain
Japan Society for the Promotion of Science, Grants-in-Aid for Scientific Research, Apr. 2023 - Mar. 2026
小川 修一

SiCパワーMOSFETの高効率化に向けたゲート絶縁膜形成プロセスの検証
公益財団法人池谷科学技術振興財団, 池谷科学技術振興財団単年度研究助成, Apr. 2023 - Mar. 2024
小川修一

Silicene surrounded by oxide -quality improvement and its application to transistors
Japan Society for the Promotion of Science, Grants-in-Aid for Scientific Research, Apr. 2018 - Mar. 2024
小川 修一

カリウム修飾積層グラフェンの物性解明と二次元層状物質用ウエハへの応用
日本学術振興会, 科学研究費助成事業, Apr. 2020 - Mar. 2023
山田 貴壽; 小川 修一; 岡崎 俊也

歪み誘起メカノケミカル効果を利用した高効率水素燃料製造の実験的検証
公益財団法人前川報恩会, 2021年度学術研究助成, Jan. 2022 - Dec. 2022
小川修一

酸化膜で囲まれたシリセン －酸化反応自己停止と酸化誘起歪みを用いた作製法の開発
日本学術振興会, 科学研究費補助金 若手研究(A), Apr. 2016 - Mar. 2019
小川 修一

ダイヤモンド表面を原子レベルに平坦化するイオンアシスト表面拡散研磨法の開発
日本学術振興会, 科学研究費補助金 挑戦的萌芽研究, Apr. 2016 - Mar. 2018
小川 修一

原子層スタック型電界放射電子放出デバイス ―放出機構解明と放出量増加への挑戦
日本学術振興会, 科学研究費補助金 新学術領域研究（研究領域提案型）, Apr. 2016 - Mar. 2018
小川 修一

酸化反応自己停止現象を用いたシリセン・イン・オキサド構造形成プロセスの開発
公益財団法人倉田記念日立科学技術財団, 倉田奨励金, Apr. 2014 - Mar. 2016
小川 修一

ダメージレス・低コストな転写を目指す金属触媒酸化を介したグラフェン剥離プロセス
日本学術振興会, 科学研究費補助金 若手研究(B), Apr. 2013 - Mar. 2015
小川 修一

Surface treatment process using photoemission-assisted plasma for achievement of atomic scale flattened surface
Japan Society for the Promotion of Science, Grants-in-Aid for Scientific Research, 01 Apr. 2012 - 31 Mar. 2014
YUJI Takakuwa; OGAWA Shuichi

黒鉛の光核反応を用いた高品質ホウ素ドープグラフェン作製プロセスの研究
公益財団法人マツダ財団, マツダ研究助成, Nov. 2011 - Oct. 2012
小川 修一

歪み誘起熱酸化プロセスを用いたシリコン極薄酸化膜形成機構の解明
日本学術振興会, 科学研究費助成事業, 2007 - 2008
小川 修一